公开(公告)号：KR1020160028971A

公开(公告)日：2016-03-14

申请号：KR1020150123722

申请日：2015-09-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후루카와신지 ,  도시마히로유키 ,  기타다도오루 ,  나카무라간토 ,  오노가즈나가

IPC: H01L21/203 ,  H01L21/683 ,  H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01J37/3488 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/32724 ,  H01J37/32733

Abstract: 본발명의과제는피처리체의충분한회전과, 충분한냉각을실행하고, 스퍼터링에의한성막을실행하는것이가능한처리장치를제공하는것이다. 해결수단으로서, 스퍼터링용의타겟이내부에배치되는처리용기(1)와, 처리용기(1) 내에배치되고, 피처리체가탑재되며, 회전가능한탑재대(2)와, 탑재대(2)를냉각하는냉각기구(5)와, 냉각기구(5)에대한탑재대의상대위치를변경시키는구동기구(6)를구비하고, 구동기구(6)는탑재대(2)를냉각기구(5)에근접시키며, 또한, 이격시킬수 있다. 이것에의해, 탑재대(2)로부터냉각기구(5)에의열전달율을변경할수 있다.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种能够充分旋转和冷却待处理物体并且还通过溅射沉积的处理设备。 为此，本发明的处理装置包括：处理容器（1），其中设置溅射靶; 一个设置在处理容器（1）中并被加载物体的可旋转的装载架（2） 和冷却装置（5），用于冷却装载架（2）; 以及改变用于冷却装置（5）的装载台的相对位置的驱动装置（6）。 驱动装置（6）使装载架（2）靠近冷却装置（5）移动，或者将两者分开，从而将装载架（2）的导热性改变为冷却装置（5）。

公开(公告)号：KR1020150050474A

公开(公告)日：2015-05-08

申请号：KR1020140149021

申请日：2014-10-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고미아츠시 ,  후루카와신지 ,  나카무라간토 ,  오노가즈나가

IPC: H01J37/34

CPC classification number: H01J37/3423 ,  H01J37/3417 ,  H01J37/3447

Abstract: 일측면에따른성막장치에서는, 대략직사각형의복수의타겟이, 중심축선을중심으로하는원을따라균등하게배치되어있다. 또한, 셔터가, 복수의타겟과스테이지의사이에마련되어있다. 셔터는, 복수의타겟중 1개의타겟을스테이지에대하여선택적으로노출시키는것이가능한개구를갖고있다. 이셔터는, 회전축에결합되어있고, 이회전축은, 중심축선을따라연장되어있다. 이성막장치에서는, 중심축선을중심으로하는원에대한접선방향의셔터의개구의폭이, 복수의타겟중 해당중심축선에대하여둘레방향에있어서인접하는 2개의타겟의각각을부분적으로또한동시에노출시키는폭으로되어있다.

Abstract translation: 成膜装置技术领域本发明涉及一种成膜装置。 具有矩形形状的许多靶材基于中心轴线沿着圆周均匀地布置。 此外，在许多目标和阶段之间准备快门。 快门具有能够选择性地将舞台上的目标从许多目标曝光的孔。 快门与旋转轴组合，旋转轴沿着中心轴线延伸。 沿着中心轴线的圆的切线方向上的快门孔的宽度被设计为宽度，以在圆周方向上分别暴露两个附近的目标，用于部分地或在 同时。