公开(公告)号：KR1020160002356A

公开(公告)日：2016-01-07

申请号：KR1020150086389

申请日：2015-06-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후나쿠보다카오 ,  하가히로후미 ,  고즈카신이치 ,  오자와와타루 ,  사카모토아키히로 ,  다니구치나오키 ,  츠지모토히로시 ,  오노구미코

IPC: H01L21/3065 ,  H05H1/46 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01J37/32082 ,  H01J37/32174 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32834 ,  H01J37/3299

Abstract: [과제] 스텝전환후에신속하게플라즈마를안정시키고, 적절한플라즈마처리가가능한플라즈마처리장치및 플라즈마처리방법을제공한다. [해결수단] 제어장치(16)는, 제1 스텝에있어서고주파발생원(1)을제1 에너지조건으로구동시키고, 제2 스텝에있어서고주파발생원(1)을제2 에너지조건으로구동시킨다. 제1 스텝과제2 스텝의전환시각보다먼저, 가스공급시스템(11)으로부터처리용기(8) 내에공급되는가스종을전환하고, 전환직후의초기기간의가스유량을초기기간경과후의안정기간에서의가스유량보다크게설정한다.

Abstract translation: 提供了一种用于处理等离子体的装置，其能够在移位步骤和等离子体的正确处理之后快速稳定等离子体及其方法。 控制装置（16）在第一步骤中在第一能量条件下驱动高频发生源（1），并且在第二步骤中在第二能量条件下驱动高频发生源（1）。 在第一步骤和第二步骤之间的切换时间之前，切换从气体供应系统（11）供应到处理容器（8）中的一种类型的气体，并且在开关之后的初始阶段中的气体通量设定得更高 比在初始阶段之后的稳定期间的气体通量。