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公开(公告)号：KR101308320B1
公开(公告)日：2013-09-17
申请号：KR1020080073872
申请日：2008-07-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/6715 , G03F7/3021
Abstract: 본 발명은 레지스트가 도포되고, 노광된 후의 기판을 현상하는데 있어서 안정적으로 기판에 현상액을 공급하는 것이다.
기판을 보유 지지하는 기판 보유 지지부를 통해 상기 기판을 연직축 주위로 회전시키면서, 제1 현상액 노즐로부터 현상액을 띠 형상으로, 또한 그 띠 형상 영역의 일단측이 기판의 중앙을 향하도록 기판의 표면에 있어서의 중앙부 및 주연부의 한쪽에 공급하고, 현상액의 공급 위치를 이동시킴으로써, 기판의 표면에 현상액의 액막을 형성하는 공정과, 상기 현상액의 액막의 건조를 방지하기 위해, 제2 현상액 노즐로부터 상기 기판의 중심부에 원 형상 또는 제1 현상액 노즐로부터 공급되는 현상액보다도 길이가 짧은 띠 형상으로 현상액을 공급하는 동시에 상기 기판 보유 지지부를 통해 기판을 연직축 주위로 회전시켜, 그 현상액을 원심력에 의해 기판의 주연부로 신전(伸展)시키는 공정을 실시하고, 처리에 따라서 현상액 노즐을 구분하여 사용한다.
웨이퍼, 현상액, 현상 장치, 현상액 노즐, 구동 기구-
公开(公告)号：KR1020090013069A
公开(公告)日：2009-02-04
申请号：KR1020080073872
申请日：2008-07-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/6715 , G03F7/3021
Abstract: A developing method, a developing device, and a storage medium are provided to suppress the instability of the developer supply to the substrate by using a classified developer nozzle. A resist is coated on a substrate. The substrate is horizontally maintained in the substrate holding support unit after the exposure. The developer is supplied from a first developer nozzle(41) while rotating the substrate around a plumb axis through the substrate holding support unit with a band shape. The developer is supplied to one of a central part and a peripheral part on the surface of the substrate by facing one end of the band region to the center of the substrate. A liquid layer of the developer is formed by moving the supply position of the developer from one of a central part and a peripheral part on the surface of the substrate to the other side.
Abstract translation: 提供显影方法，显影装置和存储介质，以通过使用分级的显影剂喷嘴来抑制显影剂供应到基板的不稳定性。 抗蚀剂涂覆在基材上。 在曝光之后，将基板水平地保持在基板保持支撑单元中。 显影剂从第一显影剂喷嘴（41）供应，同时使基板围绕铅垂轴旋转穿过具有带状的基板保持支撑单元。 通过将带区域的一端面对基板的中心，将显影剂供给到基板表面上的中心部分和周边部分之一。 通过将显影剂的供给位置从基板的表面上的中心部分和周边部分中的一个移动到另一侧来形成显影剂的液体层。
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