公开(公告)号：KR1019960032577A

公开(公告)日：1996-09-17

申请号：KR1019960002585

申请日：1996-02-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오쿠라쥰 ,  이이다나루아키 ,  구도우히로유키 ,  다테야마마사노리 ,  사카모토야스히로

IPC: H01L21/68

Abstract: 기판처리장치는, 웨이퍼(W)가 반송되는 Y축 방향으로 늘어지는 공통의 통로와, 이 공통 통로의 양측에 다단계로 적층된 복수의 처리 유니트와, 이들의 처리 유니트에 웨이퍼(W)를 반입/반출하기 위하여, 공통의 통로내를 Y축 방향으로 이동함과 동시에, Z축 주위에 θ회전하는 주 헨드라와, 이 주 헨드라내에서 Z축 방향으로 이동하도록 설치된 아암부와, 각각이 웨이퍼(W)를 유지하도록 상기 아암부에 다단으로 배설되어, 각각이 상기 아암부로부터 XY면내에서 전진 또는 후퇴하는 복수의 유지 아암과, 아암부에 설치되어 복수의 유지아암에 있어서의 웨이퍼(W)의 유지상태를 검지하는 광학 센서와, 이 광학 센서로부터의 검지결과를 토대로, 주 헨드라의 동작, 아암부의 동작, 및 복수의 유지아암의 동작을 각각 제어하는 제어기를 구비하며, 제어기에 의해, 헨드라 및 아암부 중 적어도 한쪽을 동작시키면서, 각 유지아암을 전진 또는 후퇴시키고, 유지아암이 처리유니트에 도착하기 전에 유지아암에 의한 웨이퍼(W)의 유지상태를 광학 센서로 검지해 둔다.

公开(公告)号：KR100251340B1

公开(公告)日：2000-04-15

申请号：KR1019960002585

申请日：1996-02-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오쿠라쥰 ,  이이다나루아키 ,  구도우히로유키 ,  다테야마마사노리 ,  사카모토야스히로

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/67781 ,  H01L21/68707

Abstract: 기판처리 장치는,
웨이퍼(W)가 반송되는 Y축 방향으로 늘어지는 공통의 통로와, 이 공통 통로의 양측에 다단계로 적층된 복수의 처리 유니트와, 이들의 처리 유니트에 웨이퍼 (W)를 반입/반출하기 위하여, 공통의 통로내를 Y축 방향으로 이동함과 동시에, Z축 주위에