公开(公告)号：KR100251340B1

公开(公告)日：2000-04-15

申请号：KR1019960002585

申请日：1996-02-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오쿠라쥰 ,  이이다나루아키 ,  구도우히로유키 ,  다테야마마사노리 ,  사카모토야스히로

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/67781 ,  H01L21/68707

Abstract: 기판처리 장치는,
웨이퍼(W)가 반송되는 Y축 방향으로 늘어지는 공통의 통로와, 이 공통 통로의 양측에 다단계로 적층된 복수의 처리 유니트와, 이들의 처리 유니트에 웨이퍼 (W)를 반입/반출하기 위하여, 공통의 통로내를 Y축 방향으로 이동함과 동시에, Z축 주위에

公开(公告)号：KR100414775B1

公开(公告)日：2004-02-14

申请号：KR1019970045377

申请日：1997-09-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 구도우히로유키 ,  아키모토마사미 ,  요네미즈아키라

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67173 ,  H01L21/67051 ,  Y10S134/902

Abstract: A processing apparatus of this invention has an openable window portion for transferring a target processing substrate, and an inlet port for introducing the outer atmosphere. Further, the processing apparatus includes a closed processing chamber for performing predetermined processing for the target processing substrate transferred via the window portion, an exhaust means for evacuating the interior of the processing chamber, and an opening/closing mechanism for closing the inlet port, and opening the inlet port when the pressure in the processing chamber is negative.

Abstract translation: 本发明的处理装置具有用于输送目标处理基板的可打开的窗口部分和用于引入外部大气的输入口。 另外，处理装置具备：封闭处理室，其对经由窗部移送来的被处理基板进行规定的处理;排气处理室内的排气单元;以及关闭入口的开闭机构;以及 当处理室中的压力为负时打开入口。

公开(公告)号：KR1019980024246A

公开(公告)日：1998-07-06

申请号：KR1019970045377

申请日：1997-09-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 구도우히로유키 ,  아키모토마사미 ,  요네미즈아키라

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/68

Abstract: 본 발명의 처리 장치는 타겟 처리 기판을 전송하기 위한 개방가능한 윈도우 부분과 외부 대기를 유입하기 위한 입구 포트(port)를 갖는다. 더욱이, 이 처리 장치는 윈도우 부분을 통해 전송된 타겟 처리 기판을 위한 소정의 처리를 실행하기 위한 폐쇄된 처리실, 처리실의 내부를 배출하기 위한 배출 수단, 처리실내의 압력이 네거티브(negative)일 때 입구 포트를 개방하기 위한 및 입구 포트를 폐쇄하기 위한 개방/폐쇄 메카니즘을 포함한다.

公开(公告)号：KR100421349B1

公开(公告)日：2004-03-06

申请号：KR1020020050830

申请日：2002-08-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요네미즈아키라 ,  구도우히로유키 ,  아키모토마사미

IPC: H01L21/304

Abstract: PURPOSE: An apparatus for processing a target processing substrate is provided to prevent the atmosphere in a process chamber from leaking through a window portion for transferring the target processing substrate or through an inlet port for inducing outside air by using a very simple structure. CONSTITUTION: The apparatus for processing the target processing substrate includes an openable window portion for transferring the target processing substrate and an inlet port for introducing the outer atmosphere. The processing apparatus further includes a closed processing chamber for performing predetermined processing for the target processing substrate transferred via the window portion, an exhaust unit for evacuating the interior of the processing chamber, and an opening/closing mechanism for closing the inlet port and opening the inlet port when the pressure in the processing chamber is negative.

公开(公告)号：KR1019960032577A

公开(公告)日：1996-09-17

申请号：KR1019960002585

申请日：1996-02-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오쿠라쥰 ,  이이다나루아키 ,  구도우히로유키 ,  다테야마마사노리 ,  사카모토야스히로

IPC: H01L21/68

Abstract: 기판처리장치는, 웨이퍼(W)가 반송되는 Y축 방향으로 늘어지는 공통의 통로와, 이 공통 통로의 양측에 다단계로 적층된 복수의 처리 유니트와, 이들의 처리 유니트에 웨이퍼(W)를 반입/반출하기 위하여, 공통의 통로내를 Y축 방향으로 이동함과 동시에, Z축 주위에 θ회전하는 주 헨드라와, 이 주 헨드라내에서 Z축 방향으로 이동하도록 설치된 아암부와, 각각이 웨이퍼(W)를 유지하도록 상기 아암부에 다단으로 배설되어, 각각이 상기 아암부로부터 XY면내에서 전진 또는 후퇴하는 복수의 유지 아암과, 아암부에 설치되어 복수의 유지아암에 있어서의 웨이퍼(W)의 유지상태를 검지하는 광학 센서와, 이 광학 센서로부터의 검지결과를 토대로, 주 헨드라의 동작, 아암부의 동작, 및 복수의 유지아암의 동작을 각각 제어하는 제어기를 구비하며, 제어기에 의해, 헨드라 및 아암부 중 적어도 한쪽을 동작시키면서, 각 유지아암을 전진 또는 후퇴시키고, 유지아암이 처리유니트에 도착하기 전에 유지아암에 의한 웨이퍼(W)의 유지상태를 광학 센서로 검지해 둔다.