公开(公告)号：KR101663753B1

公开(公告)日：2016-10-07

申请号：KR1020100060172

申请日：2010-06-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 세키모토에이이치 ,  고메타니야스유키 ,  오토타케시

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/302

Abstract: 횡방향으로일렬로배치된기판보지부를구비한복수의액처리부와, 이들액처리부에대하여공용화된처리액노즐을구비한액처리장치에서, 상기처리액노즐로부터기판으로의처리액의낙하를억제하여수율의저하를방지하는것이다. 각처리액노즐에접속된플렉서블한처리액통류부재와, 상기처리액통류부재의하류측이상기지지체구동기구의이동에따라이동하고, 그상류측이상기지지체구동기구의이동에따라이동하지않도록상기액처리부에대하여그 위치를고정시키는고정부와, 상기처리액통류부재에상기고정부보다상류측에설치되며, 당해처리액통류부재의진동을검출하기위한진동센서와, 진동센서로부터의검출신호에기초하여처리액노즐로부터의액 맺힘및 처리액의적하에대한대처동작을행하는대처수단을구비하도록장치를구성한다.

公开(公告)号：KR1020160047996A

公开(公告)日：2016-05-03

申请号：KR1020150146395

申请日：2015-10-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사사타카시 ,  하시모토카츠야 ,  시바타다이키 ,  오토타케시

IPC: F04B43/08 ,  F04B43/10 ,  F04B43/00 ,  G03F1/22 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: F04B49/065 ,  F04B43/0072 ,  F04B43/08 ,  F04B43/084 ,  F04B43/10 ,  F04B51/00 ,  G03F7/162 ,  H01L21/6715

Abstract: 간소한구성으로액체의이송을가능하게한다. 송액방법은, 탄성을가지는튜브의외측을덮는튜브용하우징과튜브의외표면과의사이의내부공간에충전된기체의압력에따라튜브내로액체를유통시키는공정과, 튜브내를유통하는액체의압력의크기를제 1 값으로서취득하는공정과, 내부공간에충전된기체의압력의크기를제 2 값으로서취득하는공정과, 제 1 값과제 2 값과의차를제 3 값으로서산출하는공정과, 제 3 값에기초하여튜브상태를검지하는공정을포함한다.

Abstract translation: 液体输送系统能够使用其简单的构造来输送液体。 液体输送方法包括：使液体能够根据填充在管的外表面之间的内部空间中的气体的压力和用于覆盖具有弹性的管的外侧的管的外壳的气体循环进入管的过程 ; 获得在管内循环的液体的压力的大小作为第一值的过程; 获得填充在内部空间中的气体的压力的大小作为第二值的过程; 以及计算第一值和第二值之间的差作为第三值的处理; 以及基于第三值检测管状态的处理。

公开(公告)号：KR1020110004278A

公开(公告)日：2011-01-13

申请号：KR1020100060172

申请日：2010-06-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 세키모토에이이치 ,  고메타니야스유키 ,  오토타케시

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/302

CPC classification number: H01L21/0274 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341 ,  H01L21/302

Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus, a liquid processing method, and a storage media are provided to maintain the yield by preventing a processing liquid from dropping on a substrate and a substrate supporting part. CONSTITUTION: Liquid processing parts(11a to 11c) comprises a spin chuck(12a) in a cup with an opening in order to horizontally support a substrate. A resist supplying part(3) comprises a driving unit(31), an arm(33), and a collecting nozzle(40). A processing liquid nozzle is installed to a support in order to supply the processing liquid to the substrate. A nozzle bath(29) is installed to set the processing liquid nozzle to be stood by. A support driving unit moves the processing liquid nozzle.

Abstract translation: 目的：提供液体处理设备，液体处理方法和存储介质，以通过防止处理液体在基板和基板支撑部件上掉落来保持产量。 构成：液体处理部件（11a至11c）包括具有开口的杯中的旋转卡盘（12a），以水平地支撑基板。 抗蚀剂供应部分（3）包括驱动单元（31），臂（33）和收集喷嘴（40）。 将处理液喷嘴安装到支撑件上以便将处理液体供应到基板。 安装喷嘴槽（29）以设置要处理的处理液喷嘴。 支撑驱动单元移动处理液喷嘴。