公开(公告)号：KR101663753B1

公开(公告)日：2016-10-07

申请号：KR1020100060172

申请日：2010-06-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 세키모토에이이치 ,  고메타니야스유키 ,  오토타케시

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/302

Abstract: 횡방향으로일렬로배치된기판보지부를구비한복수의액처리부와, 이들액처리부에대하여공용화된처리액노즐을구비한액처리장치에서, 상기처리액노즐로부터기판으로의처리액의낙하를억제하여수율의저하를방지하는것이다. 각처리액노즐에접속된플렉서블한처리액통류부재와, 상기처리액통류부재의하류측이상기지지체구동기구의이동에따라이동하고, 그상류측이상기지지체구동기구의이동에따라이동하지않도록상기액처리부에대하여그 위치를고정시키는고정부와, 상기처리액통류부재에상기고정부보다상류측에설치되며, 당해처리액통류부재의진동을검출하기위한진동센서와, 진동센서로부터의검출신호에기초하여처리액노즐로부터의액 맺힘및 처리액의적하에대한대처동작을행하는대처수단을구비하도록장치를구성한다.

公开(公告)号：KR1020030080196A

公开(公告)日：2003-10-11

申请号：KR1020030010986

申请日：2003-02-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다케쿠마다카시 ,  고메타니야스유키 ,  후쿠다요시테루 ,  미나미다준야

IPC: G03F7/16

CPC classification number: H01L21/67253 ,  H01L21/6715

Abstract: 피처리기판에 도포액을 토출함과 동시에 피처리기판을 회전시켜, 도포액을 피처리기판의 지름방향 바깥쪽으로 전개시켜 도포막을 형성하는 도포처리방법은, 실제로 도포액 토출노즐로부터의 도포액의 토출이 개시된 것을 검출하는 공정과, 그 검출신호에 기초하여, 도포액 토출노즐로부터 도포액을 토출시키기 위한 펌프의 구동타이밍, 도포액 토출노즐에 도포액을 공급하는 배관에 설치된 밸브의 동작타이밍, 및 피처리기판의 회전개시 또는 정지타이밍의 적어도 하나를 제어하는 공정을 구비한다.

公开(公告)号：KR1020110004278A

公开(公告)日：2011-01-13

申请号：KR1020100060172

申请日：2010-06-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 세키모토에이이치 ,  고메타니야스유키 ,  오토타케시

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/302

CPC classification number: H01L21/0274 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341 ,  H01L21/302

Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus, a liquid processing method, and a storage media are provided to maintain the yield by preventing a processing liquid from dropping on a substrate and a substrate supporting part. CONSTITUTION: Liquid processing parts(11a to 11c) comprises a spin chuck(12a) in a cup with an opening in order to horizontally support a substrate. A resist supplying part(3) comprises a driving unit(31), an arm(33), and a collecting nozzle(40). A processing liquid nozzle is installed to a support in order to supply the processing liquid to the substrate. A nozzle bath(29) is installed to set the processing liquid nozzle to be stood by. A support driving unit moves the processing liquid nozzle.

Abstract translation: 目的：提供液体处理设备，液体处理方法和存储介质，以通过防止处理液体在基板和基板支撑部件上掉落来保持产量。 构成：液体处理部件（11a至11c）包括具有开口的杯中的旋转卡盘（12a），以水平地支撑基板。 抗蚀剂供应部分（3）包括驱动单元（31），臂（33）和收集喷嘴（40）。 将处理液喷嘴安装到支撑件上以便将处理液体供应到基板。 安装喷嘴槽（29）以设置要处理的处理液喷嘴。 支撑驱动单元移动处理液喷嘴。

公开(公告)号：KR100948220B1

公开(公告)日：2010-03-18

申请号：KR1020030010986

申请日：2003-02-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다케쿠마다카시 ,  고메타니야스유키 ,  후쿠다요시테루 ,  미나미다준야

IPC: G03F7/16

CPC classification number: H01L21/67253 ,  H01L21/6715

Abstract: 피처리기판에 도포액을 토출함과 동시에 피처리기판을 회전시켜, 도포액을 피처리기판의 지름방향 바깥쪽으로 전개시켜 도포막을 형성하는 도포처리방법은, 실제로 도포액 토출노즐로부터의 도포액의 토출이 개시된 것을 검출하는 공정과, 그 검출신호에 기초하여, 도포액 토출노즐로부터 도포액을 토출시키기 위한 펌프의 구동타이밍, 도포액 토출노즐에 도포액을 공급하는 배관에 설치된 밸브의 동작타이밍, 및 피처리기판의 회전개시 또는 정지타이밍의 적어도 하나를 제어하는 공정을 구비한다.