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1.发明公开처리 장치의 다변량 해석 모델식 작성 방법, 처리장치용의 다변량 해석 방법, 처리 장치의 제어 장치, 처리장치의 제어 시스템 有权处理装置的多元分析模型 - 表达式的制作方法，处理装置的多变量分析方法，处理装置的控制装置，处理装置的控制系统
公开(公告)号：KR1020050010021A
公开(公告)日：2005-01-26
申请号：KR1020047019644
申请日：2003-06-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32935
Abstract: 본 발명에서는, 예를 들면 기준으로 하는 플라즈마 처리 장치(100A)와 이것과 동종의 플라즈마 처리 장치(100B)에 대해서 제 1 설정 데이터에 의해 동작했을 때에 각각의 복수의 센서로부터 검출되는 검출 데이터를 각각 다변량 해석하여 각각의 다변량 해석 모델식을 작성한 후, 새로운 제 2 설정 데이터에 의해 동작했을 때에 플라즈마 처리 장치(100A)의 복수의 센서로부터 검출되는 검출 데이터를 이용하여 그 다변량 해석 모델식을 작성하고, 이 새로운 제 2 설정 데이터의 플라즈마 처리 장치(100A)의 다변량 해석 모델식과 플라즈마 처리 장치(100B)의 다변량 해석 모델식을 이용하여 새로운 제 2 설정 데이터에 대응하는 플라즈마 처리 장치(100B)의 다변량 해석 모델식을 작성한다. 이에 의하면, 예를 들면 처리 장치마다 프로세스 특성에 차가 있는 경우이더라도, 하나의 처리 장치에 대해서 작성한 모델식을 동종의 다른 처리 장치에 그대로 적용할 수 있어, 처리 장치마다 여러 가지의 측정 데이터를 취해서 그 때마다 모델식을 작성하지 않더라도 완료된다. 이에 의해, 모델식 작성시의 수고와 시간을 경감할 수 있다.
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2.发明授权처리 장치의 다변량 해석 모델식 작성 방법, 처리장치용의 다변량 해석 방법, 처리 장치의 제어 장치, 처리장치의 제어 시스템 有权处理装置多种分析模型创建方法，处理装置多种分析方法，处理装置控制装置，处理装置控制系统
公开(公告)号：KR100628392B1
公开(公告)日：2006-09-26
申请号：KR1020047019644
申请日：2003-06-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32935
Abstract: 본 발명에서는, 예를 들면 기준으로 하는 플라즈마 처리 장치(100A)와 이것과 동종의 플라즈마 처리 장치(100B)에 대해서 제 1 설정 데이터에 의해 동작했을 때에 각각의 복수의 센서로부터 검출되는 검출 데이터를 각각 다변량 해석하여 각각의 다변량 해석 모델식을 작성한 후, 새로운 제 2 설정 데이터에 의해 동작했을 때에 플라즈마 처리 장치(100A)의 복수의 센서로부터 검출되는 검출 데이터를 이용하여 그 다변량 해석 모델식을 작성하고, 이 새로운 제 2 설정 데이터의 플라즈마 처리 장치(100A)의 다변량 해석 모델식과 플라즈마 처리 장치(100B)의 다변량 해석 모델식을 이용하여 새로운 제 2 설정 데이터에 대응하는 플라즈마 처리 장치(100B)의 다변량 해석 모델식을 작성한다. 이에 의하면, 예를 들면 처리 장치마다 프로세스 특성에 차가 있는 경우이더라도, 하나의 처리 장치에 대해서 작성한 모델식을 동종의 다른 처리 장치에 그대로 적용할 수 있어, 처리 장치마다 여러 가지의 측정 데이터를 취해서 그 때마다 모델식을 작성하지 않더라도 완료된다. 이에 의해, 모델식 작성시의 수고와 시간을 경감할 수 있다.
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