公开(公告)号：KR1020030065389A

公开(公告)日：2003-08-06

申请号：KR1020030005726

申请日：2003-01-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야타아키라 ,  히가시마키오 ,  와다시게키

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/7075 ,  G03D3/00 ,  Y10S414/135

Abstract: 레지스트도포/현상처리 시스템은 카세트 스테이션과, 처리 스테이션과 인터페이스 스테이션을 구비하고 있다. 인터페이스 스테이션에 설치된 고정밀도온도조절유니트로부터 노광장치의 인스테이지에 웨이퍼를 반송하는 제 2 웨이퍼 반송체는 인스테이지에 웨이퍼(W)를 반입할 수 있는 상태이므로, 고정밀도 온도조절유니트로부터 웨이퍼(W)를 반출하였지만, 그 후에 인스테이지로 웨이퍼(W)를 반입할 수 없게 된 경우에, 유지하고 있는 웨이퍼(W)를 임시로 되돌림유니트에 얹어 놓는다.

公开(公告)号：KR100954899B1

公开(公告)日：2010-04-27

申请号：KR1020057016154

申请日：2004-03-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 와다시게키

IPC: H01L21/027 ,  G06F13/10

CPC classification number: H01L21/67276 ,  G03F7/70508 ,  G03F7/70991

Abstract: 본 발명은 인라인 접속설정 방법 및 장치 그리고 기판처리장치 및 기판처리 시스템에 관한 것으로서 도포 현상 장치가 인 라인 접속된 노광 장치에 대해 노광 장치에 관한 정보인 프로 파일 정보의 인수 ·인도를 요구하는 공정과 도포 현상 장치가 노광 장치로부터 상기 프로 파일 정보를 수취하는 공정과 도포 현상 장치가 상기 프로 파일 정보에 대응하여 도포 현상 장치에 있어서 사용하는 소프트웨어 파일을 선택하는 공정을 적어도 포함하는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR1020050105266A

公开(公告)日：2005-11-03

申请号：KR1020057016154

申请日：2004-03-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 와다시게키

IPC: H01L21/027 ,  G06F13/10

CPC classification number: H01L21/67276 ,  G03F7/70508 ,  G03F7/70991

Abstract: A method comprising at least the step of requesting the transfer of profile information on an exposure system to an inline-connected exposure system by a coating/developing device, the step of receiving the profile information from the exposure system by the coating/developing device, and the step of selecting software used in and by the coating/developing device in response to the profile information.

Abstract translation: 一种方法，至少包括以下步骤：通过涂布/显影装置将暴露系统上的轮廓信息传送到在线连接的曝光系统;通过涂布/显影装置从曝光系统接收简档信息的步骤， 以及响应于简档信息选择在涂覆/显影装置中和由涂层/显影装置使用的软件的步骤。

公开(公告)号：KR100919084B1

公开(公告)日：2009-09-28

申请号：KR1020030005726

申请日：2003-01-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야타아키라 ,  히가시마키오 ,  와다시게키

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/7075 ,  G03D3/00 ,  Y10S414/135

Abstract: 레지스트도포/현상처리 시스템은 카세트 스테이션과, 처리 스테이션과 인터페이스 스테이션을 구비하고 있다. 인터페이스 스테이션에 설치된 고정밀도온도조절유니트로부터 노광장치의 인스테이지에 웨이퍼를 반송하는 제 2 웨이퍼 반송체는 인스테이지에 웨이퍼(W)를 반입할 수 있는 상태이므로, 고정밀도 온도조절유니트로부터 웨이퍼(W)를 반출하였지만, 그 후에 인스테이지로 웨이퍼(W)를 반입할 수 없게 된 경우에, 유지하고 있는 웨이퍼(W)를 임시로 되돌림유니트에 얹어 놓는다.

公开(公告)号：KR1020060120687A

公开(公告)日：2006-11-27

申请号：KR1020067011242

申请日：2004-11-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시노즈카신이치 ,  와다시게키 ,  야마시타마사미

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/677 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67745 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67276 ,  H01L21/67253

Abstract: In a coating/development device having an inspection unit, it is possible to reduce the time required for start, reduce the cost, and improve the operation rate of the inspection unit. In the coating/development device control program, a treatment flow and an inspection flow are set so as to be executed independently of each other. In the treatment flow, a substrate is carried from a cassette station to a treatment station and treated by the treatment station and the exposure device, after which the substrate is returned to the cassette station. In the inspection flow, the substrate is carried from the cassette station to the inspection station and inspected, after which the substrate is returned to the cassette station. When starting the coating/development device, the inspection flow and the treatment flow are executed and simultaneously with this, it is possible to perform evaluation work of an inspection unit of the inspection station and adjustment work of a treatment unit of the treatment station. When the inspection station is empty, it is possible to convey the substrate from outside into the cassette station and inspect the substrate.

Abstract translation: 在具有检查单元的涂布/显影装置中，可以减少启动所需的时间，降低成本，并且提高检查单元的操作速度。 在涂布/显影装置控制程序中，处理流程和检查流程被设置为彼此独立地执行。 在处理流程中，将底物从盒式站运送到处理站，并由处理站和曝光装置进行处理，然后将基板返回到盒式站。 在检查流程中，将基板从盒式站运送到检查站并进行检查，然后将基板返回到盒式站。 当开始涂布/显影装置时，执行检查流程和处理流程，同时执行检查站的检查单元的评估工作和处理站的处理单元的调整工作。 当检查站为空时，可以将基板从外部传送到卡带站并检查基板。