公开(公告)号：KR100974141B1

公开(公告)日：2010-08-04

申请号：KR1020097019977

申请日：2003-11-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시마키오 ,  미야타아키라

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67178 ,  G03F7/168 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67276

Abstract: 본 발명은, 노광 장치와의 사이에서 기판의 받아넘김이 가능하고, 복수의 기판에 소정의 처리를 하는 기판 처리 장치로서,
기판에 레지스트의 도포 처리를 하는 제 1 처리 유닛과,
상기 노광장치에서 노광된 기판에 현상 처리를 하는 제 2 처리 유닛과,
노광이 끝난 기판에 가열 처리를 하는 복수의 제 3 처리 유닛과,
상기 제 1 처리 유닛, 제 2 처리 유닛 및 복수의 제 3 처리 유닛의 사이에서 기판을 반송하는 제 1 반송 기구와,
상기 노광장치와 상기 복수의 제 3 처리 유닛의 사이에서 기판을 반송하는 제 2 반송 기구와,
상기 제 1 반송 기구에 의한 기판의 반송과, 상기 제 2 반송 기구에 의한 기판의 반송을 독립하여 제어하는 제어부를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.

公开(公告)号：KR100935291B1

公开(公告)日：2010-01-06

申请号：KR1020057009171

申请日：2003-11-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시마키오 ,  미야타아키라

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67178 ,  G03F7/168 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67276

Abstract: 반도체 웨이퍼 등의 기판에 레지스트막을 형성하고, 노광장치에서 노광되어 노광후의 기판을 현상하는 도포 현상 장치에 있어서, 노광장치로부터 반출되고 나서 가열 유닛(PEB)으로 가열을 시작할 때까지의 시간을 기판사이에서 조정함과 동시에, 레지스트의 도포 현상을 행하는 영역과 노광장치와의 사이에 개재하는 인터페이스부에서의 노광후 웨이퍼의 체류를 방지하는 것이다. 레지스트의 도포 현상을 행하는 영역에는, 웨이퍼의 처리의 흐름에 있어서의 상류측의 모듈로부터 차례로 하류측의 모듈로 웨이퍼를 1매씩 차례로 뒤로 보내어 하나의 반송 사이클을 실행하고, 계속해서 다음의 반송 사이클로 이행하는 제 1 반송 수단이 설치되고 있다. 가열 유닛(PEB)은 n개 예를 들면 5개 설치되어, 여기에 반입된 노광후 웨이퍼는, 그 때에 제 1 반송 수단이 실행하고 있는 반송 사이클을 포함하여 (n-1) 사이클 후에 제 1 반송 수단에 의해 반출된다.

公开(公告)号：KR1020070049629A

公开(公告)日：2007-05-11

申请号：KR1020077000241

申请日：2005-06-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시마키오 ,  미야타아키라 ,  하라요시타카

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67201 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/67253 ,  Y10S414/135 ,  H01L21/67715

Abstract: 본 발명은 기판의 회수 방법 및 기판 처리 장치에 관한 것으로서 도포 현상 처리 장치내에 있어서 트러블이 발생했을 때에, 도포 현상 처리 장치내의 모든 기판을 장치내의 반송 유니트를 이용해 반입출부에 회수한다. 이 때, 각 반송 유니트는 기판을 트러블 발생시의 각 위치로부터 반입출부의 방향을 향해 반송해 회수한다. 또 트러블이 발생했을 때에 처리 유니트내에 있어서 처리중의 기판에 대해서는 해당 처리가 종료하고 나서 회수하는 기판 처리 장치에 트러블이 발생했을 때에, 기판 처리 장치내에 잔존하는 기판을 다음의 기판 처리에 악영향을 주지 않게 신속하게 회수해 조기에 기판 처리를 재개하는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR1020090109137A

公开(公告)日：2009-10-19

申请号：KR1020097019977

申请日：2003-11-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시마키오 ,  미야타아키라

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67178 ,  G03F7/168 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67276 ,  H01L21/67011 ,  H01L21/67703 ,  H01L21/67781

Abstract: A coating/developing apparatus for forming a resist film on a wafer such as a semiconductor wafer, exposing the wafer by means of an exposure system, and developing the exposed wafer. The time from the unloading of a wafer from the exposure system to the start of heating by a heating unit (PEB) is constant wafer by wafer. The stagnation of exposed wafers at an interface unit interposed between the region where a resist coating/developing is performed and the exposure system. Provided in the resist coating/developing region is first transfer means for carrying out one transfer cycle by transferring wafers each from one module to another on the downstream side of the wafer process flow and carrying out next transfer cycle. The number n of heating units (PEB) is, for example, five. The exposed wafer loaded in one of the heating units (PEB) is unloaded by the first transfer means after (n-1) cycles including the then transfer cycle carried out by the first transfer means.

Abstract translation: 一种用于在诸如半导体晶片的晶片上形成抗蚀剂膜的涂覆/显影装置，通过曝光系统曝光晶片，并使曝光的晶片显影。 从曝光系统将晶片卸载到通过加热单元（PEB）开始加热的时间是晶片的恒定晶片。 在位于进行抗蚀剂涂层/显影的区域和曝光系统之间的界面单元处的暴露的晶片的停滞。 在抗蚀剂涂布/显影区域中设置的第一转印装置，用于通过在晶片工艺流程的下游侧将晶片从模块转移到另一个模块来执行一个转印周期，并执行下一个转印周期。 加热单元（PEB）的数量n例如为5。 装载在一个加热单元（PEB）中的暴露的晶片在包括由第一传送装置进行的传送循环的（n-1）个循环之后由第一传送装置卸载。

公开(公告)号：KR1020060050112A

公开(公告)日：2006-05-19

申请号：KR1020050063043

申请日：2005-07-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시마키오 ,  미야타아키라 ,  세키신이치

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67253

Abstract: 본 발명은 기판처리장치 기판처리방법 및 컴퓨터프로그램에 관한 것으로서 본 발명에 있어서는 도포 현상 처리장치측의 제어부가 인식 하고 있지 않는 고스트 웨이퍼가 도포현상 처리장치와 접속되고 있는 다른 장치로부터 반출되었을 경우에는 고스트 웨이퍼를 도포현상처리 장치측의 버퍼 카셋트에 일단 수용한다. 그리고 로트와 로트의 사이의 틈에서 다른 웨이퍼의 처리에 영향을 주지 않는 타이밍으로 버퍼 카셋트내의 고스트 웨이퍼를 반송장치를 이용해 도포현상 처리 장치측의 반입출부에 회수한다. 본 발명에 의하면 도포현상 처리장치내에서 발생한 고스트 웨이퍼를 다른 통상의 기판의 처리를 중단시키지 않고 회수할 수가 있는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR101018512B1

公开(公告)日：2011-03-03

申请号：KR1020077000241

申请日：2005-06-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시마키오 ,  미야타아키라 ,  하라요시타카

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67201 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/67253 ,  Y10S414/135

Abstract: 본 발명은 기판의 회수 방법 및 기판 처리 장치에 관한 것으로서 도포 현상 처리 장치내에 있어서 트러블이 발생했을 때에, 도포 현상 처리 장치내의 모든 기판을 장치내의 반송 유니트를 이용해 반입출부에 회수한다. 이 때, 각 반송 유니트는 기판을 트러블 발생시의 각 위치로부터 반입출부의 방향을 향해 반송해 회수한다. 또 트러블이 발생했을 때에 처리 유니트내에 있어서 처리중의 기판에 대해서는 해당 처리가 종료하고 나서 회수하는 기판 처리 장치에 트러블이 발생했을 때에, 기판 처리 장치내에 잔존하는 기판을 다음의 기판 처리에 악영향을 주지 않게 신속하게 회수해 조기에 기판 처리를 재개하는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR1020050083939A

公开(公告)日：2005-08-26

申请号：KR1020057009171

申请日：2003-11-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시마키오 ,  미야타아키라

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67178 ,  G03F7/168 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67276

Abstract: A coating/developing apparatus for forming a resist film on a wafer such as a semiconductor wafer, exposing the wafer by means of an exposure system, and developing the exposed wafer. The time from the unloading of a wafer from the exposure system to the start of heating by a heating unit (PEB) is constant wafer by wafer. The stagnation of exposed wafers at an interface unit interposed between the region where a resist coating/developing is performed and the exposure system. Provided in the resist coating/developing region is first transfer means for carrying out one transfer cycle by transferring wafers each from one module to another on the downstream side of the wafer process flow and carrying out next transfer cycle. The number n of heating units (PEB) is, for example, five. The exposed wafer loaded in one of the heating units (PEB) is unloaded by the first transfer means after (n-1) cycles including the then transfer cycle carried out by the first transfer means.

Abstract translation: 一种用于在诸如半导体晶片的晶片上形成抗蚀剂膜的涂覆/显影装置，通过曝光系统曝光晶片，并使曝光的晶片显影。 从曝光系统将晶片卸载到通过加热单元（PEB）开始加热的时间是晶片的恒定晶片。 在位于进行抗蚀剂涂层/显影的区域和曝光系统之间的界面单元处的暴露的晶片的停滞。 在抗蚀剂涂布/显影区域中设置的第一转印装置，用于通过在晶片工艺流程的下游侧将晶片从模块转移到另一个模块来执行一个转印周期，并执行下一个转印周期。 加热单元（PEB）的数量n例如为5。 装载在一个加热单元（PEB）中的暴露的晶片在包括由第一传送装置进行的传送循环的（n-1）个循环之后由第一传送装置卸载。

公开(公告)号：KR1020030065389A

公开(公告)日：2003-08-06

申请号：KR1020030005726

申请日：2003-01-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야타아키라 ,  히가시마키오 ,  와다시게키

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/7075 ,  G03D3/00 ,  Y10S414/135

Abstract: 레지스트도포/현상처리 시스템은 카세트 스테이션과, 처리 스테이션과 인터페이스 스테이션을 구비하고 있다. 인터페이스 스테이션에 설치된 고정밀도온도조절유니트로부터 노광장치의 인스테이지에 웨이퍼를 반송하는 제 2 웨이퍼 반송체는 인스테이지에 웨이퍼(W)를 반입할 수 있는 상태이므로, 고정밀도 온도조절유니트로부터 웨이퍼(W)를 반출하였지만, 그 후에 인스테이지로 웨이퍼(W)를 반입할 수 없게 된 경우에, 유지하고 있는 웨이퍼(W)를 임시로 되돌림유니트에 얹어 놓는다.

公开(公告)号：KR101061645B1

公开(公告)日：2011-09-01

申请号：KR1020050063043

申请日：2005-07-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시마키오 ,  미야타아키라 ,  세키신이치

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67253

Abstract: 본 발명은 기판처리장치, 기판처리방법 및 컴퓨터프로그램을 기록한 컴퓨터로 판독 가능한 기록매체에 관한 것으로서 본 발명에 있어서는 도포 현상 처리장치측의 제어부가 인식 하고 있지 않는 고스트 웨이퍼가 도포현상 처리장치와 접속되고 있는 다른 장치로부터 반출되었을 경우에는 고스트 웨이퍼를 도포현상처리 장치측의 버퍼 카셋트에 일단 수용한다. 그리고 로트와 로트의 사이의 틈에서 다른 웨이퍼의 처리에 영향을 주지 않는 타이밍으로 버퍼 카셋트내의 고스트 웨이퍼를 반송장치를 이용해 도포현상 처리 장치측의 반입출부에 회수한다. 본 발명에 의하면 도포현상 처리장치내에서 발생한 고스트 웨이퍼를 다른 통상의 기판의 처리를 중단시키지 않고 회수할 수가 있는 기술을 제공한다.

Abstract translation: 本发明是连接于基板处理装置，基板处理方法和计算机，在本发明中的涂敷，显影重影晶片涂层系统侧和显影系统不控制部识别涉及一种计算机可读记录介质，其存储的程序 重影晶片一次容纳在涂布和显影设备侧的缓冲盒中。 并使用在缓冲液中的转移装置鬼晶片在不影响其他的晶片的处理在批次和盒的批号之间的间隙并进行所述涂层的chulbu和显影装置的定时。 根据本发明提供了多种技术，而无需中断该涂层和该晶片鬼其它常规衬底发生在装置的显影处理，以恢复。

公开(公告)号：KR101018525B1

公开(公告)日：2011-03-03

申请号：KR1020067020161

申请日：2005-02-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시마키오 ,  미야타아키라

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67276

Abstract: 본 발명은 기판처리장치 및 기판처리방법에 관한 것으로서 기판 처리 장치는 반송 스케줄 작성부와 반송 스케줄 기억부와 반송 스케줄을 참조하고 반송 사이클의 데이터에 기입되어 있는 기판을 그 기판에 대응하는 모듈에 반송하도록 기판 반송 기구를 제어하고 이것에 의해 상기 기판 반송 기구에 반송 사이클을 실행시키는 반송 제어부와 반송 스케줄 기억부에 기억된 반송 스케줄을 참조하고 한개의 기판 반송 기구가 하나의 반송 사이클에 있어서 자기가 담당하는 반송이 종료한 후, 다른 기판 반송 기구에 의해 상기 하나의 반송 사이클이 실행되고 있는 동안에 한개의 기판 반송 기구를 이동시켜 다음의 반송 사이클로 자기가 담당하는 모듈군중 선두의 모듈 지점에 한개의 기판 반송 기구를 대기시키는 대기 위치 제어부를 구비하는 기술을 제공한다.

Abstract translation: 本发明承载在基板处理装置的基板涉及一种基板处理装置和基板处理方法，请参阅运输计划制作单元和所述传输时间表存储单元和携带调度和写入的传送周期的数据在模块中对应于衬底 基板输送机构被控制成对基板输送机构进行输送循环，参照存储在输送时间表存储部中的输送时间表，设定一个基板输送机构负责一个输送循环 完成转印后，通过在另一方的基板搬运装置移动，同时传输周期的所述一个正在运行的基板搬送机构中的一个，携带在模块人群通往下一个传输循环的模块点的基板的一个自负责 以及用于等待机构的待机位置控制单元 的。