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公开(公告)号：KR1020150064075A
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：KR1020157009185
申请日：2013-09-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , H01L21/314 , H05H1/46 , C23C16/455 , H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32238 , C23C16/345 , C23C16/45536 , C23C16/45544 , C23C16/45551 , C23C16/4584 , C23C16/511 , H01J37/32192 , H01J37/3222 , H01J37/32229 , H01J37/32357 , H01J37/32715 , H01J37/32733 , H01J2237/332 , H01L21/0217 , H01L21/02274 , H01L21/0228 , H05H1/46 , H05H2001/4622
Abstract: 일측면에따른성막장치에서는, 배치대가축선중심으로회전함으로써, 기판배치영역에배치된기판이처리용기내의제1 영역및 제2 영역을순서대로통과한다. 제1 영역에는, 전구체가스가공급된다. 제2 영역에서는, 플라즈마생성부에의해, 반응가스의플라즈마가생성된다. 플라즈마생성부는, 플라즈마원으로서마이크로파를공급하는안테나를갖는다. 안테나는, 유전체제의창 부재및 도파관을포함하고있다. 창부재는, 제2 영역위에설치되어있다. 도파관은, 창부재상에설치되어있다. 도파관은, 축선에대하여방사방향으로연장되는도파로를획정하고있다. 도파관에는, 도파로로부터창 부재를향해마이크로파를통과시키기위한복수의슬롯구멍이형성되어있다. 창부재의하면은, 축선에대하여방사방향으로연장되는홈을획정하고있다.
Abstract translation: 在根据一个方面的成膜装置中，批料围绕轴线旋转，使得设置在基材设置区域中的基材顺序地通过处理容器中的第一区域和第二区域。 在第一区域中，提供前体气体。 在第二区域中，反应气体的等离子体由等离子体产生部分产生。 等离子体发生器具有用于供应微波作为等离子体源的天线。 天线包括由电介质材料和波导构成的窗部件。 窗部件设置在第二区域上。 波导安装在窗口部件上。 波导限定了相对于轴线在径向方向上延伸的波导。 在波导中，形成多个用于从波导向窗口部件传送微波的槽孔。 窗部件的下表面限定了相对于轴线在径向方向上延伸的凹槽。
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公开(公告)号：KR101660615B1
公开(公告)日：2016-09-27
申请号：KR1020147022711
申请日：2013-02-12
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , C23C16/455 , H01J37/32
CPC classification number: C23C16/50 , C23C16/45542 , C23C16/45548 , H01J37/3244 , H01J37/32834 , H01L21/0217 , H01L21/02274 , H01L21/0228
Abstract: 일실시형태의성막장치에서는, 배치대가축선중심으로회전가능하게설치되어있다. 배치대를수용하는처리실은제1 영역및 제2 영역을포함한다. 배치대의회전에따라상기배치대의기판배치영역이축선에대하여둘레방향으로이동하여제1 영역및 제2 영역을순서대로통과한다. 제1 가스공급부는, 배치대에대면하도록설치된분사부로부터제1 영역에전구체가스를공급한다. 배기부는, 분사부의주위를둘러싸는폐로를따라연장되도록형성된배기구로부터배기를행한다. 제2 가스공급부는, 배기구의주위를둘러싸는폐로를따라연장되도록형성된분사구로부터퍼지가스를공급한다. 플라즈마생성부는, 제2 영역에서반응가스의플라즈마를생성한다. 이성막장치에서는, 제1 영역이상기축선에대하여둘레방향으로연장되는각도범위보다, 제2 영역이상기축선에대하여둘레방향으로연장되는각도범위가크다.
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公开(公告)号：KR101661076B1
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：KR1020157009185
申请日：2013-09-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , H01L21/314 , H05H1/46 , C23C16/455 , H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32238 , C23C16/345 , C23C16/45536 , C23C16/45544 , C23C16/45551 , C23C16/4584 , C23C16/511 , H01J37/32192 , H01J37/3222 , H01J37/32229 , H01J37/32357 , H01J37/32715 , H01J37/32733 , H01J2237/332 , H01L21/0217 , H01L21/02274 , H01L21/0228 , H05H1/46 , H05H2001/4622
Abstract: 일측면에따른성막장치에서는, 배치대가축선중심으로회전함으로써, 기판배치영역에배치된기판이처리용기내의제1 영역및 제2 영역을순서대로통과한다. 제1 영역에는, 전구체가스가공급된다. 제2 영역에서는, 플라즈마생성부에의해, 반응가스의플라즈마가생성된다. 플라즈마생성부는, 플라즈마원으로서마이크로파를공급하는안테나를갖는다. 안테나는, 유전체제의창 부재및 도파관을포함하고있다. 창부재는, 제2 영역위에설치되어있다. 도파관은, 창부재상에설치되어있다. 도파관은, 축선에대하여방사방향으로연장되는도파로를획정하고있다. 도파관에는, 도파로로부터창 부재를향해마이크로파를통과시키기위한복수의슬롯구멍이형성되어있다. 창부재의하면은, 축선에대하여방사방향으로연장되는홈을획정하고있다.
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公开(公告)号：KR1020140123532A
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：KR1020147022711
申请日：2013-02-12
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , C23C16/455 , H01J37/32
CPC classification number: C23C16/50 , C23C16/45542 , C23C16/45548 , H01J37/3244 , H01J37/32834 , H01L21/0217 , H01L21/02274 , H01L21/0228
Abstract: 일실시형태의 성막 장치에서는, 배치대가 축선 중심으로 회전 가능하게 설치되어 있다. 배치대를 수용하는 처리실은 제1 영역 및 제2 영역을 포함한다. 배치대의 회전에 따라 상기 배치대의 기판 배치 영역이 축선에 대하여 둘레 방향으로 이동하여 제1 영역 및 제2 영역을 순서대로 통과한다. 제1 가스 공급부는, 배치대에 대면하도록 설치된 분사부로부터 제1 영역에 전구체 가스를 공급한다. 배기부는, 분사부의 주위를 둘러싸는 폐로를 따라 연장되도록 형성된 배기구로부터 배기를 행한다. 제2 가스 공급부는, 배기구의 주위를 둘러싸는 폐로를 따라 연장되도록 형성된 분사구로부터 퍼지 가스를 공급한다. 플라즈마 생성부는, 제2 영역에서 반응 가스의 플라즈마를 생성한다. 이 성막 장치에서는, 제1 영역이 상기 축선에 대하여 둘레 방향으로 연장되는 각도 범위보다, 제2 영역이 상기 축선에 대하여 둘레 방향으로 연장되는 각도 범위가 크다.
Abstract translation: 在一个实施例的成膜装置中，放置台围绕轴线可旋转地设置。 容纳放置台的处理室包括第一区域和第二区域。 载置台的基板载置区域随着载置台的旋转而相对于轴线在周向上移动，并依次通过第一区域和第二区域。 第一气体供应单元从设置成面对载置台的喷射部分向第一区域供应前体气体。 排气部分从排气口排出，排气口形成为沿着围绕喷射部分周边的闭合路径延伸。 第二气体供应部分从喷射口供应净化气体，喷射口形成为沿着围绕排气口的封闭路径延伸。 等离子体产生部分在第二区域中产生反应气体的等离子体。 在该成膜装置中，第二区域相对于轴线在圆周方向上延伸的角度范围大于第一区域相对于轴线在圆周方向上延伸的角度范围。
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