公开(公告)号：KR101160704B1

公开(公告)日：2012-06-28

申请号：KR1020067012793

申请日：2004-12-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오코우치아츠시 ,  야마모토타로 ,  타케구찌히로후미 ,  쿄다히데하루 ,  요시하라쿄스케

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/6719 ,  Y10S134/902

Abstract: 본 발명은 현상장치 및 현상방법에 관한 것으로서 노광 끝난 기판을 스핀 척 에 유지해 수직축 주위에 회전시켜 긴 방향이 웨이퍼의 반경 방향과 직교하는 방향을 향한 슬릿 형상의 토출구를 가지는 현상액 노즐로부터 현상액을 토출시키면서 현상액 노즐을 웨이퍼의 외주변에서 중앙부로 향해 이동시키는 것으로 웨이퍼 표면에 현상액의 공급을 실시하여 소지름의 원형의 토출구를 가지는 노즐을 이용했을 경우에 비해 노즐의 이동 속도를 크게 할 수가 있어 현상 시간의 단축을 도모할 수 있고 또 기판상의 현상액막의 두께를 감소시킬 수가 있기 때문에 현상액을 절약할 수 있는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR1020070007262A

公开(公告)日：2007-01-15

申请号：KR1020067012793

申请日：2004-12-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오코우치아츠시 ,  야마모토타로 ,  타케구찌히로후미 ,  쿄다히데하루 ,  요시하라쿄스케

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/6719 ,  Y10S134/902 ,  H01L21/02057

Abstract: A development liquid nozzle is moved from an outer edge of a wafer toward the central portion while an exposed substrate held at a spin chuck is being rotated about a vertical axis and while a development liquid is being discharged from the development liquid nozzle, and this way the development liquid is supplied to the surface of the wafer, the development nozzle having a slit-like discharge opening whose longitudinal direction is oriented to the direction perpendicular to the radial direction of the wafer. The movement speed of the nozzle is higher than a case where a nozzle with a small-diameter circular nozzle is used, and this enables a development time to be reduced. Further, the thickness of a development liquid on a substrate can be reduced, so that the development liquid can be saved. ® KIPO & WIPO 2007

Abstract translation: 显影液喷嘴从晶片的外边缘向中心部分移动，同时保持在旋转卡盘处的暴露的基板绕垂直轴线旋转并且显影液体从显影液喷嘴排出，并且以这种方式 显影液被供给到晶片的表面，显影喷嘴具有狭缝状排出口，其纵向方向取向于与晶片的径向垂直的方向。 喷嘴的移动速度高于使用具有小直径圆形喷嘴的喷嘴的情况，这使得能够减少显影时间。 此外，可以减少基板上的显影液的厚度，从而可以节省显影液。 ®KIPO＆WIPO 2007