公开(公告)号：KR101198496B1

公开(公告)日：2012-11-06

申请号：KR1020100006488

申请日：2010-01-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토타로 ,  요시하라고우스케 ,  요시다유이치

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 기판 표면에 공급되어 퇴적된 현상액의 퇴적부의 가장자리부에 활성화를 촉진하여 해상도의 향상 및 현상 처리 효율의 향상을 도모할 수 있도록 한 현상 처리 방법 및 현상 처리 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.
웨이퍼(W)를 수평으로 유지한 스핀 척(40)을 수직축 둘레에 회전시키면서 웨이퍼의 중심부 위쪽으로부터 현상 노즐(52)을 통해 현상액을 공급하여 퇴적하는 동시에, 공급된 현상액의 퇴적부의 가장자리부를 향하여 N
2 노즐(53)을 통해 처리 시의 웨이퍼의 온도보다 고온의 N
2 가스를 공급하고, 현상 노즐과 N
2 노즐을 웨이퍼의 중심부로부터 웨이퍼의 외주연을 향하여 직경 방향으로 동시에, N
2 노즐을 현상 노즐에 추종 이동시켜 현상액의 퇴적부의 가장자리부에 활성화를 촉진하여 현상 처리한다.

公开(公告)号：KR1020110094241A

公开(公告)日：2011-08-23

申请号：KR1020110007699

申请日：2011-01-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타키구치야스시 ,  야마모토타로 ,  아리마히로시 ,  요시하라코우스케 ,  요시다유이치

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/3021 ,  H01L21/0274

Abstract: PURPOSE: A developing apparatus, a developing method thereof, and a storage medium are provided to form a liquid film over the surface of a substrate by setting the temperature of a heating plate to be below a temperature in which the vapor of a developing solution is condensed in a substrate. CONSTITUTION: In a developing apparatus, a developing method thereof, and a storage medium, a reaction container(5) forms a process condition. A heating plate(3) is installed in the reaction container and mounts a substrate(W). A gas supply unit(55) supplies gas including the mist and steam vapor of a developer to the surface of the substrate. A developer supply source(58) supplies the developer to the lower part of the gas supply unit. A gas heating unit(56) heats the gas to be a certain temperature.

Abstract translation: 目的：提供显影装置，显影方法和存储介质，以通过将加热板的温度设定在显影液的蒸气的温度以下而在基板的表面上形成液膜 在底物中冷凝。 构成：在显影装置中，其显影方法和存储介质，反应容器（5）形成工艺条件。 加热板（3）安装在反应容器中并安装基板（W）。 气体供给单元（55）将包括显影剂的雾和蒸汽的气体供给到基板的表面。 显影剂供应源（58）将显影剂供应到气体供应单元的下部。 气体加热单元（56）将气体加热到一定温度。

公开(公告)号：KR1020110003289A

公开(公告)日：2011-01-11

申请号：KR1020100124048

申请日：2010-12-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이시다세이키 ,  나카하라다마사히로 ,  야마모토타로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67184 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67745 ,  Y10S134/902 ,  H01L21/0274 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341

Abstract: PURPOSE: A coating and developing device is provided to prevent a watermark from being generated, which is caused by a dried liquid on a substrate by installing a humidity control unit on the substrate. CONSTITUTION: A cleaning unit(6) is installed in the return path of a liquid immersion lithographic substrate in an exposure device(37). The cleaning unit comprises a frame body. A return unit carries the substrate in the sidewall part of the frame body. A substrate return device returns a substrate after a liquid immersion lithography process to the cleaning unit by supporting it to a holding support body. A control unit controls the cleaning unit and the substrate return device.

Abstract translation: 目的：提供涂覆和显影装置，以防止由基材上的干燥液体在基材上安装湿度控制单元而产生水印。 构成：清洁单元（6）安装在曝光装置（37）中的液浸光刻基板的返回路径中。 清洁单元包括框体。 返回单元将基板承载在框架主体的侧壁部分中。 基板返回装置将液浸光刻处理后的基板通过支撑在保持支撑体上而返回到清洗单元。 控制单元控制清洁单元和基板返回装置。

公开(公告)号：KR1020060130237A

公开(公告)日：2006-12-18

申请号：KR1020067020543

申请日：2004-12-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토타로 ,  쿄우다히데하루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70925 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  G03F7/2041 ,  H01L21/02057

Abstract: A coater/developer ensuring coating/development with high precision and high in-plane uniformity by suppressing the influence of components eluted from resist at the time of processing a substrate subjected to liquid immersion exposure. The surface of the substrate is coated with resist using a coating unit, the substrate is then cleaned using a first cleaning means such as a cleaning nozzle before exposed. Since the quantity of components eluted from the resist is small even if a liquid layer for passing light at the time of exposure is formed on the surface of the substrate, exposure can be carried out with high line width accuracy, and resultantly a resist pattern can be formed with high precision and high in-plane uniformity on the developed substrate.

Abstract translation: 一种涂布机/显影剂，通过抑制在进行液浸曝光的基板处理时从抗蚀剂洗脱的成分的影响，确保高精度和高面内均匀性的涂布/显影。 使用涂布单元将基材的表面涂覆抗蚀剂，然后在暴露之前使用诸如清洁喷嘴的第一清洁装置清洁基材。 即使在基板的表面上形成曝光用的液体层，由于从抗蚀剂洗脱的成分的量也小，所以能够以高的线宽精度进行曝光，从而抗蚀图案 在显影的基底上形成高精度和高的面内均匀性。

公开(公告)号：KR1020060128903A

公开(公告)日：2006-12-14

申请号：KR1020067013456

申请日：2004-12-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토타로 ,  히라카와오사무

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67271 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/70341 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67253 ,  G03F7/2041

Abstract: A coater/developer in which entrance of water is prevented while maintaining a high throughput when a substrate is developed after it is coated with resist and immersion-exposed. A substrate coated with resist and immersion-exposed is mounted on a substrate mounting part, and then the liquid adhering to the surface of the substrate and forming at least a liquid layer is detected by a liquid detecting section. It is judged whether or not the substrate is dried from the results of the detection by the liquid detecting section, and a substrate judged to be dried is dried by a drying means. With such an arrangement, entrance of water into the apparatus can be prevented and a high throughput can be maintained because only a substrate needing to be dried is dried.

Abstract translation: 一种涂布机/显影剂，其中当在其上涂覆有抗蚀剂并浸没曝光后在衬底显影时，防止水的入口，同时保持高通量。 将涂布有抗蚀剂和浸渍曝光的基板安装在基板安装部上，然后通过液体检测部检测粘附到基板的表面并形成至少液体层的液体。 从液体检测部的检测结果判断基板是否干燥，判断为干燥的基板通过干燥机构进行干燥。 通过这样的布置，可以防止水进入装置，并且由于仅需要干燥的基板被干燥，所以可以保持高通量。

公开(公告)号：KR1020150016888A

公开(公告)日：2015-02-13

申请号：KR1020140083636

申请日：2014-07-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고오스케 ,  교오다히데하루 ,  무타고시 ,  야마모토타로 ,  다키구치야스시

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/30 ,  B05C5/02 ,  B05C5/0287 ,  B05C11/08 ,  B05D1/005 ,  B05D1/26 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/0274

Abstract: 본 발명의 과제는 노광 후의 기판에 현상 처리를 행하는 데 있어서, 기판의 면 내에 있어서의 레지스트 패턴의 선 폭의 균일성을 높게 할 수 있는 기술을 제공하는 것이다.
기판을 수평으로 보유 지지하는 기판 보유 지지부와, 기판에 현상액을 공급하여 액 저류부를 형성하기 위한 현상액 노즐과, 상기 액 저류부에 접촉한 상태에서 기판과 직교하는 축의 주위로 회전하는 회전 부재를 포함하고, 상기 기판에 형성된 현상액의 액 저류부에 선회류를 발생시키는 선회류 발생 기구와, 상기 선회류 발생 기구를 기판의 표면을 따라서 이동시키는 이동 기구를 구비하도록 구성한다. 이에 의해, 기판의 원하는 영역에 선회류를 형성하여, 현상액을 교반할 수 있으므로, 패턴의 선 폭의 균일성의 향상을 도모할 수 있다.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种能够在曝光处理之后对基板进行显影处理时能够提高基板表面中的配准图形的线宽的均匀性的技术。 本发明包括：水平支撑基板的基板保持支撑部分，通过将显影液供给到基板而形成液体存储部分的显影液喷嘴，与液体存储部分接触的涡流产生单元，包括旋转部件 其围绕垂直于基板的轴旋转，并且在形成在基板上的显影液的液体存储部分中产生涡流，并且允许涡流产生单元沿着基板的表面移动的移动单元。 因此，本发明在基板的所需区域中形成涡流，以搅拌显影液体，从而提高图案的线宽度的均匀性。

公开(公告)号：KR101435225B1

公开(公告)日：2014-08-28

申请号：KR1020090021686

申请日：2009-03-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라코우스케 ,  요시다유우이치 ,  야마모토타로

IPC: H01L21/304

CPC classification number: G03F7/168 ,  B08B3/024 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67051

Abstract: 본 발명은, 기판 세정 방법 및 기판 세정 장치에 관한 것으로서 본 발명의 기판 세정 방법은, 기판의 중심부와 회전 중심부가 일치하도록 기판을 기판 유지부에 수평으로 유지시키는 공정과, 상기 기판 유지부를 수직축의 주위에 회전시키면서 세정 노즐로부터 기판의 중심부에 세정액을 토출하여 원심력에 의해 기판의 표면 전체로 넓히는 공정과, 다음에 기판 유지부를 회전시킨 채 기판상의 세정액의 토출 위치를 기판의 중심부로부터 어긋난 편심 위치로 변경 함과 동시에, 세정액의 토출 위치에 있어서의 가스 토출 위치측 계면과 가스 노즐에 의한 가스의 토출 위치에 있어서의 세정액 토출 위치측 계면과의 거리를 9 mm~15 mm로 설정한 상태에서 상기 가스 노즐로부터 상기 기판의 중심부에 가스를 토출하여 세정액의 건조 영역을 형성하는 공정과 그 후, 기판 유지부를 회전시킨 채 세정액의 토출 위치를 상기 건조 영역이 바깥으로 퍼지는 속도보다 늦은 속도로 기판의 주변을 향해 이동시키는 공정을 포함하고 있는 물의 정적 접촉각이 85도 이상인 기판의 표면을 세정하는 방법에 관한 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR101085320B1

公开(公告)日：2011-11-23

申请号：KR1020060010035

申请日：2006-02-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후쿠다마사히로 ,  야마모토타로

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/68742

Abstract: 본 발명은 세정장치, 도포 및 현상장치에 대한 것으로서 밀폐용기(41)의 내부에 있어서 웨이퍼(W)가 버큠 척(42)에 의해 밀폐용기(41) 내면과 웨이퍼(W) 사이에 작은 간격이 형성된 상태에서 수평으로 보유 지지된다. 유체공급로(5) 단부의 유체공급구멍(40)으로부터 웨이퍼(W) 표면의 중심부를 향하여 세정액을 공급함과 동시에 웨이퍼(W)의 중심선을 중심으로 하는 원주를 따라서 밀폐용기(41)의 저부에 설치된 홈 형태의 유체배출부(44)로부터 세정액을 배출한다. 세정액은 웨이퍼(W) 표면과 밀폐 용기(41)사이의 간격을 채운 상태로 웨이퍼(W)의 중심부로부터 주변부로 향해 퍼지면서 흘러 웨이퍼에 부착한 파티클을 제거해 유체 배출부(44)로부터 배출된다. 웨이퍼(W)를 회전시키는 경우 없이 파티클을 확실하고 또한 균일하게 제거할 수가 있다. 세정 장치(4) 전체 사이즈도 작다.

公开(公告)号：KR101069954B1

公开(公告)日：2011-10-04

申请号：KR1020067012569

申请日：2004-12-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토타로 ,  요시하라코우스케 ,  쿄다히데하루 ,  타케구찌히로후미 ,  오코우치아츠시

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 현상장치 및 현상방법에 관한 것으로서 기판의 유효 영역의 폭에 대응하는 길이가 슬릿 형상의 토출구를 가지는 현상액 노즐에 의해 현상액이 스캔 도포된다. 현상액이 기판상에 액활성된 상태로 일정시간 보지한 후 희석액 노즐에 의해 희석액이 스캔 도포된다. 이것에 의해 현상 반응이 실질적으로 정지함과 함께 레지스트 용해 성분이 확산된다. 현상액의 온도 조정에 의해 신속히 원하는 양의 레지스트가 용해되는 한편 소정 타이밍에서의 희석액 공급에 의해 레지스트 용해 성분에 의한 악영향이 생기기 전에 현상을 정지함으로써 선폭이 균일한 패턴을 구할 수 있고 또한 수율도 향상하는 레지스트의 종류 혹은 레지스트 패턴에 따라 현상액의 온도가 조정되는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR1020110094242A

公开(公告)日：2011-08-23

申请号：KR1020110007700

申请日：2011-01-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타키구치야스시 ,  야마모토타로 ,  아리마히로시 ,  요시하라코우스케 ,  요시다유이치

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03B27/52 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68785 ,  H01L21/0274

Abstract: PURPOSE: A coating and developing apparatus, a developing method and a non-transitory medium are provided to suppress the deterioration of throughout by processing a substrate in a developing module and a cleaning module. CONSTITUTION: In a coating and developing apparatus, a developing method and a non-transitory medium, a develop unit(20) comprises a developer module(2) a cleaning module(7) washing a wafer. The developer module supplies steam vapor of a developer to a housing(21). The wafer is returned to an exposure apparatus by an interface arm(9). A lathe unit(U1~U5) is comprised of a plurality of laminated modules in order to face with the develop unit. A transfer arm(A1) is installed in a DEV layer(B1) and sends the wafer to each heating module.

Abstract translation: 目的：提供一种涂布和显影装置，显影方法和非暂时性介质，以通过在显影模块和清洁模块中处理基板来抑制整个劣化。 构成：在涂布和显影装置中，显影方法和非瞬时介质，显影单元（20）包括显影剂模块（2）清洗晶片的清洁模块（7）。 显影剂模块将显影剂的蒸汽蒸气提供到壳体（21）。 晶片通过接口臂（9）返回到曝光装置。 为了与显影单元相对，车床单元（U1〜U5）由多个层压模块构成。 传送臂（A1）安装在DEV层（B1）中，并将晶片发送到每个加热模块。