公开(公告)号：KR101569956B1

公开(公告)日：2015-11-17

申请号：KR1020117004516

申请日：2009-07-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 월래스제이알 ,  하멜린토마스 ,  다카하시히로유키 ,  라플람아서에이치 ,  휘만그레고리알

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/324 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67103 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67742

Abstract: 복수의기판을처리하기위한화학처리시스템및 열처리시스템을구비하는고생산성의처리시스템이개시되어있다. 화학처리시스템은건식비플라즈마환경에서복수의기판을화학적으로처리하도록구성되어있다. 열처리시스템은화학처리시스템에서화학적으로처리된복수의기판을열적으로처리하도록구성되어있다.

公开(公告)号：KR1020110040957A

公开(公告)日：2011-04-20

申请号：KR1020117004516

申请日：2009-07-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 월래스제이알 ,  하멜린토마스 ,  다카하시히로유키 ,  라플람아서에이치 ,  휘만그레고리알

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/324 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67103 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/02 ,  H01L21/324 ,  H01L21/76825

Abstract: 복수의 기판을 처리하기 위한 화학 처리 시스템 및 열처리 시스템을 구비하는 고생산성의 처리 시스템이 개시되어 있다. 화학 처리 시스템은 건식 비플라즈마 환경에서 복수의 기판을 화학적으로 처리하도록 구성되어 있다. 열처리 시스템은 화학 처리 시스템에서 화학적으로 처리된 복수의 기판을 열적으로 처리하도록 구성되어 있다.