公开(公告)号：KR102138953B1

公开(公告)日：2020-07-28

申请号：KR1020157030300

申请日：2014-05-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도요다게이고 ,  이사고마사루 ,  츠지모토히로시

IPC: H01L21/311 ,  H01J37/32 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683

公开(公告)号：KR1020160013004A

公开(公告)日：2016-02-03

申请号：KR1020157030300

申请日：2014-05-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도요다게이고 ,  이사고마사루 ,  츠지모토히로시

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/311 ,  H01L21/67 ,  H01J37/32 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/3065 ,  H01J37/32522 ,  H01J37/32642 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/6831 ,  H01L22/26

Abstract: 공급되는가스에의해피처리체를플라스마에칭하는에칭방법에있어서, 피처리체의온도제어와는독립하여제어가능한제 1 온조기구에의해포커스링의온도를조정하고, 상기포커스링의온도가목표값에도달할때까지의시간변동을계측하고, 미리설정된시간변동과포커스링의소모정도의상관관계에근거하여, 상기계측된시간변동으로부터상기포커스링의소모정도를추정하고, 상기추정된포커스링의소모정도에근거하여, 상기포커스링의온도의목표값을보정하는, 에칭방법이제공된다.

Abstract translation: 提供了一种用于通过使用供应气体对待处理物体进行等离子体蚀刻的蚀刻方法。 在蚀刻方法中，通过使用可独立于待处理物体的温度控制控制的第一温度调节机构来调节聚焦环的温度，同时测量直到聚焦环的温度达到目标值的时间变化。 基于时间变化与聚焦环的消耗程度之间的预先设定的相关性，从所测量的时间变化估计聚焦环的消耗程度。 基于估计的聚焦环的消耗程度来校正聚焦环的温度的目标值。