公开(公告)号：KR1020160095624A

公开(公告)日：2016-08-11

申请号：KR1020160011485

申请日：2016-01-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 장지안 ,  아마노요시후미 ,  오카모토에이이치로 ,  이토유키

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683

CPC classification number: B05C11/00 ,  B08B2203/0229 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68792

Abstract: 기판을액처리할때에생기는기류를저해하지않고기판을양호하게액처리할수 있는기판액처리장치(기판액처리방법)를제공한다. 본발명에서는, 기판(1004)을유지하여회전시키는기판회전유지부(1013)와, 기판회전유지부(1013)에의해유지된기판(1004)의하면에처리액을공급하는처리액공급부(1014)를가지며, 기판회전유지부(1013)는, 기판(1004)의아래쪽에간격을두고배치한베이스플레이트(1025)와, 베이스플레이트(1025)에의해지지되고, 기판(1004)의외주바깥쪽에배치한커버체(1026)와, 베이스플레이트(1025)와커버체(1026)의사이에형성되고, 기판(1004)의아래쪽에서생긴기류를배출하기위한배출구(1043)를가지며, 베이스플레이트(1025)와커버체(1026)의지지부분(1037)은, 베이스플레이트(1025)의상면보다바깥쪽으로돌출시켜커버체(1026)와접속했다.

Abstract translation: 本发明涉及一种能够令人满意地处理基板而不会减少当基板被液体处理时产生的空气流的基板液体处理装置（基板液体处理方法）。 根据本发明的基板液体处理装置包括：保持并旋转基板的基板旋转维持单元（1013）; 以及供给单元（1014），其向由所述基板旋转维持单元（1013）维持的所述基板（1004）的下表面供给处理液，其中，所述基板旋转维持单元（1013）包括基板（1025） 设置在所述基板（1004）下方的间隔处，由所述基板（1025）支撑并设置在所述基板（1004）的外周的外侧的盖主体（1026）和出口（1043） 其形成在基板（1025）和盖主体（1026）之间，以排出在基板（1004）下方产生的空气流，并且基板（1025）的支撑部分和盖体（1026）向外突出 从所述基板（1025）的上表面连接到所述盖主体（1026）。