公开(公告)号：KR1020150006781A

公开(公告)日：2015-01-19

申请号：KR1020140077970

申请日：2014-06-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아마노요시후미 ,  이토유키 ,  오카모토에이이치로

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/08 ,  H01L21/66

CPC classification number: B08B13/00 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67259

Abstract: 본 발명은 장치의 대형화를 초래하는 일없이 간단하면서 확실하게 노즐로부터의 처리액의 토출을 확인할 수 있도록 하는 것을 과제로 한다.
기판에 대하여 처리액을 토출하는 노즐을 가지며, 상기 노즐로부터의 처리액의 토출 상태를 확인용 지그를 이용하여 확인할 수 있게 한 기판 처리 장치를 구비하는 기판 처리 시스템으로서, 상기 노즐로부터 토출된 처리액을 받는 액수용부를 갖는 확인용 지그가 상기 기판 처리 장치의 정해진 위치에 설치되었음을 검출하는(단계 S103) 지그 센서부와, 상기 노즐로부터의 처리액의 토출을 제어하는 제어부를 구비하고, 상기 제어부는, 상기 노즐로부터의 처리액의 토출이 금지되어 있는 상태에서 상기 지그 센서부의 검출에 기초하여 상기 확인용 지그가 상기 기판 처리 장치의 정해진 위치에 설치되었다고 판단한 경우, 상기 노즐의 처리액의 토출을 허가한다(단계 S106).

Abstract translation: 本发明的目的是简单且完美地确定来自喷嘴的处理溶液的排放而不扩大装置。 基板处理系统具有基板处理装置，该基板处理装置具有用于排出基板的处理液的喷嘴，并使用检查夹具从喷嘴确定处理液的排出状态。 基板处理系统包括夹具传感器单元，用于检测具有用于接收从喷嘴排出的处理溶液的溶液接收单元的检查夹具是否安装在基板处理装置的预定位置（步骤S103）; 以及控制单元，用于控制来自喷嘴的处理溶液的排出。 如果根据夹具传感器单元的检测确定检查夹具安装在基板处理装置的预定位置，则控制单元允许从喷嘴排出处理溶液。 禁止从喷嘴处理溶液（步骤S016）。

公开(公告)号：KR1020140052850A

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：KR1020130125123

申请日：2013-10-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  아마노요시후미 ,  오카모토에이치로 ,  이토유키

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: The purpose of the present invention is to reduce a burden of an exhaust system which absorbs a cup body and to prevent effectively a processing liquid from being attached to a substrate after the processing liquid supplied to the substrate is scattered from the substrate. When a substrate (W) is processed, a protective wall (52) of a ring shape is located on the substrate which is maintained on a substrate maintaining unit (3). The protective wall (52) of the ring shape is extended along a circumference direction of the substrate. A radius direction position of a circumference edge unit of the protective wall lower side is same as a radius direction position of an inner circumference edge of the circumference edge unit of the upper side of the substrate which is maintained on the substrate maintaining unit or is located on the outside of the radius direction. A first air gap (G1) is formed between the protective wall and the upper side of the substrate. A second air gap (G2) is formed between the protective wall and a wall body (262) which defines an upper opening of the cup body. Gas located in the upper side of the substrate is inserted into an internal space of the cup body through the first and second air gaps if the internal space of the cup body (2) is absorbed.

Abstract translation: 本发明的目的是减少吸收杯体的排气系统的负担，并且在从基板散射供给到基板的处理液散布后，有效地防止处理液附着于基板。 当处理基板（W）时，环状的保护壁（52）位于保持在基板保持单元（3）上的基板上。 环状的保护壁（52）沿着基板的圆周方向延伸。 保护壁下侧的周缘部的半径方向位置与保持在基板保持部上的基板的上侧的周缘部的内周缘的位置的半径方向位置相同 在半径方向的外侧。 在保护壁和基板的上侧之间形成第一气隙（G1）。 第二气隙（G2）形成在保护壁和限定杯体的上部开口的壁体（262）之间。 如果杯体（2）的内部空间被吸收，则位于基板上侧的气体通过第一和第二气隙被插入杯体的内部空间。

公开(公告)号：KR1020160095624A

公开(公告)日：2016-08-11

申请号：KR1020160011485

申请日：2016-01-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 장지안 ,  아마노요시후미 ,  오카모토에이이치로 ,  이토유키

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683

CPC classification number: B05C11/00 ,  B08B2203/0229 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68792

Abstract: 기판을액처리할때에생기는기류를저해하지않고기판을양호하게액처리할수 있는기판액처리장치(기판액처리방법)를제공한다. 본발명에서는, 기판(1004)을유지하여회전시키는기판회전유지부(1013)와, 기판회전유지부(1013)에의해유지된기판(1004)의하면에처리액을공급하는처리액공급부(1014)를가지며, 기판회전유지부(1013)는, 기판(1004)의아래쪽에간격을두고배치한베이스플레이트(1025)와, 베이스플레이트(1025)에의해지지되고, 기판(1004)의외주바깥쪽에배치한커버체(1026)와, 베이스플레이트(1025)와커버체(1026)의사이에형성되고, 기판(1004)의아래쪽에서생긴기류를배출하기위한배출구(1043)를가지며, 베이스플레이트(1025)와커버체(1026)의지지부분(1037)은, 베이스플레이트(1025)의상면보다바깥쪽으로돌출시켜커버체(1026)와접속했다.

Abstract translation: 本发明涉及一种能够令人满意地处理基板而不会减少当基板被液体处理时产生的空气流的基板液体处理装置（基板液体处理方法）。 根据本发明的基板液体处理装置包括：保持并旋转基板的基板旋转维持单元（1013）; 以及供给单元（1014），其向由所述基板旋转维持单元（1013）维持的所述基板（1004）的下表面供给处理液，其中，所述基板旋转维持单元（1013）包括基板（1025） 设置在所述基板（1004）下方的间隔处，由所述基板（1025）支撑并设置在所述基板（1004）的外周的外侧的盖主体（1026）和出口（1043） 其形成在基板（1025）和盖主体（1026）之间，以排出在基板（1004）下方产生的空气流，并且基板（1025）的支撑部分和盖体（1026）向外突出 从所述基板（1025）的上表面连接到所述盖主体（1026）。

公开(公告)号：KR101974663B1

公开(公告)日：2019-09-05

申请号：KR1020130125123

申请日：2013-10-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  아마노요시후미 ,  오카모토에이치로 ,  이토유키

IPC: H01L21/302

公开(公告)号：KR1020160027911A

公开(公告)日：2016-03-10

申请号：KR1020150117948

申请日：2015-08-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아마노요시후미 ,  이토유키 ,  오카모토에이이치로

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/6715

Abstract: 컵내의가스유로의유로저항을저감한다. 기판액처리장치는, 공급된처리액을받아회수하는컵(50)을구비하고있다. 컵내에는, 컵의상부의개구(50A)에면하는링 형상의제 1 배기공간(530)과, 컵의배기구(52)에면하고, 또한상기제 1 배기공간에인접하는링 형상의제 2 배기공간(540)을가진다. 제 1 배기공간과제 2 배기공간은원주방향의전체둘레에걸쳐연속적또는단속적으로연통하고있다. 제 2 배기공간의내주가장자리를획정하는내주벽(580)은, 당해내주벽의상측부분을이루는제 1 벽부분(581)과, 당해내주벽의하측부분을이루고, 또한상기제 1 벽부분보다반경방향내측에위치하는제 2 벽부분(582)을가진다.

Abstract translation: 杯内的气体流路的流路阻力减小。 基板液体处理装置具有容纳并收集供给的处理液的杯（5）。 与杯的上部的孔部分（50A）接触的第一环形排空空间（530）和接触杯的排气（52）并与第一排气相邻的第二环形排空空间（540） 杯子里面有空间。 第一耗尽空间和第二耗尽空间在圆周方向上连续地或间歇地连续地在整个圆周上连通。 限定第二耗尽空间的内边缘的内主壁（580）具有：形成内主壁的上侧部的第一壁部（581） 以及形成内主壁的下侧部分并且位于比第一壁部分在径向方向的内侧上的第二壁部分（582）。

公开(公告)号：KR1020140052849A

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：KR1020130125120

申请日：2013-10-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  아마노요시후미 ,  오카모토에이치로 ,  이토유키

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: The present invention is to effectively suppress a processing liquid supplied to a substrate from being scattered and adhered again onto the substrate, while reducing a load on an exhaust apparatus that exhaust a cup. When a substrate W is processed, a ring-shaped cover member (5) covers a peripheral portion of the upper surface of the substrate (W) held by the substrate holding unit (3), and a central portion of the substrate located at an inner position than the peripheral portion in a radial direction is exposed without being covered by the cover member. The bottom surface (52) of the cover member forms a gap (G) between the lower surface of the cover member and the peripheral portion of the substrate held by the substrate holding member. When the interior surface of the cup (2) is exhausted through an exhaust pipe (245), a gas present above the cover member is introduced into the interior space of the cup through a space enclosed by the internal peripheral surface (51) and the gap (G).

Abstract translation: 本发明是为了有效地抑制供给到基板的处理液在再次排出并附着在基板上的同时减少排出杯的排气装置的负荷。 当处理衬底W时，环形覆盖构件（5）覆盖由衬底保持单元（3）保持的衬底（W）的上表面的周边部分，并且衬底的中心部分位于 在径向方向上的周边部分的内部位置暴露而不被盖构件覆盖。 盖构件的底面（52）在盖构件的下表面和由基板保持构件保持的基板的周边部分之间形成间隙（G）。 当杯（2）的内表面通过排气管（245）排出时，存在于盖构件上方的气体通过由内周面（51）包围的空间引入杯的内部空间，并且 间隙（G）。

公开(公告)号：KR102227409B1

公开(公告)日：2021-03-11

申请号：KR1020140077970

申请日：2014-06-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아마노요시후미 ,  이토유키 ,  오카모토에이이치로

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/08 ,  H01L21/66

Abstract: 본발명은장치의대형화를초래하는일없이간단하면서확실하게노즐로부터의처리액의토출을확인할수 있도록하는것을과제로한다. 기판에대하여처리액을토출하는노즐을가지며, 상기노즐로부터의처리액의토출상태를확인용지그를이용하여확인할수 있게한 기판처리장치를구비하는기판처리시스템으로서, 상기노즐로부터토출된처리액을받는액수용부를갖는확인용지그가상기기판처리장치의정해진위치에설치되었음을검출하는(단계 S103) 지그센서부와, 상기노즐로부터의처리액의토출을제어하는제어부를구비하고, 상기제어부는, 상기노즐로부터의처리액의토출이금지되어있는상태에서상기지그센서부의검출에기초하여상기확인용지그가상기기판처리장치의정해진위치에설치되었다고판단한경우, 상기노즐의처리액의토출을허가한다(단계 S106).

公开(公告)号：KR101899169B1

公开(公告)日：2018-09-14

申请号：KR1020130125120

申请日：2013-10-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  아마노요시후미 ,  오카모토에이치로 ,  이토유키

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: 본발명은컵체를흡인하는배기장치의부담을저감하면서, 기판에공급된처리액이기판으로부터비산한후에재차기판에부착하는것을효과적으로방지하는것을목적으로한다. 기판(W)의처리중, 링형의커버부재(5)는기판유지부(3)에유지된기판(W) 상면의둘레가장자리부를덮고, 이둘레가장자리부보다반경방향내측에있는기판의중앙부는커버부재에덮이지않고노출되어있다. 커버부재의하면(52)은, 기판유지부에유지된기판의상면의둘레가장자리부와의사이에간극(G)을형성한다. 컵체(2)의내부공간이배기구(245)를통해흡인되면, 커버부재의위쪽에있는기체가, 커버부재의내주면(51)에둘러싸인공간및 간극(G)을통해, 컵체의내부공간에도입된다.

公开(公告)号：KR1020170110008A

公开(公告)日：2017-10-10

申请号：KR1020170028949

申请日：2017-03-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아마노요시후미 ,  이토유키 ,  쿠루수켄토

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 복수의상이한종류의세정액을브러시로공급하는경우에있어서도양호한세정처리를행할수 있는기판세정장치를제공하는것이다. 실시형태에따른기판세정장치는기판유지부와브러시와암과토출부와안내부재를구비한다. 기판유지부는기판을회전가능하게유지한다. 브러시는본체부와, 본체부의하부에마련되고기판에눌리는세정체와, 본체부에형성된상하양단이개구되는중공부를가진다. 암은브러시의본체부를스핀들을개재하여회전가능하게지지한다. 토출부는암에마련되고, 토출부로부터복수종류의처리액이전환하여토출되는것이가능하다. 안내부재는토출부와브러시의사이에배치되고, 토출부로부터토출된처리액을일단받아브러시의중공부로유도한다.

Abstract translation: 本发明提供一种基板清洗装置，即使在刷子供给多种不同种类的清洗液的情况下也能够进行良好的清洗处理。 根据实施例的基板清洁设备包括基板保持部分，刷子，臂，排出部分和引导部件。 基板保持部可旋转地保持基板。 刷子具有主体部分，设置在主体部分的下部以抵靠基板的清洁体，以及具有形成在主体部分中的上端和下端都打开的综片。 手臂通过心轴可旋转地支撑着刷子的主体。 排出部分设置在臂中，并且多种处理液体可以从排出部分切换并排出。 引导构件设置在排出部和刷子之间，并且将从排出部排出的处理液接收一次以将其引导到刷子的中心。

公开(公告)号：KR1020160063273A

公开(公告)日：2016-06-03

申请号：KR1020150165617

申请日：2015-11-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아마노요시후미 ,  이토유키 ,  오카모토에이치로 ,  이와나가가즈야 ,  이케베료지

IPC: H01L21/66

CPC classification number: G06T7/0008 ,  G06T7/62 ,  G06T2207/30148

Abstract: 본발명은시스템의대형화를초래하지않고단시간에기판의막 제거의상태와포위부재의유지상태를확인할수 있도록하는것을목적으로한다. 포위부재(302)의상방에설치되며, 둘레가장자리부의처리막이제거된웨이퍼(W) 및포위부재(302)를제1∼제3 카메라(601∼603)에의해촬상하고, 측정처리장치(800)에있어서, 이들카메라에의해얻어진촬상화상을처리함으로써, 웨이퍼(W)의둘레가장자리부에있어서상기처리막이존재하지않는커트폭및 웨이퍼(W)의둘레가장자리단과포위부재(302) 사이의간극폭을측정한다.

Abstract translation: 本发明的目的是在不引起系统扩大的情况下在短时间内检查基板的膜去除状态和周围部件的维持状态。 根据安装在周围部件（302）的上部的测量处理装置（800），对周围部件（302）和周边部分的处理膜进行照射的周边部件（302）和 首先，第二和第三相机（601-603），测量处理装置测量周围部件（302）和晶片（W）的周缘部分之间的间隙宽度和处理膜不切割的切割宽度 存在于晶片（W）的圆周边缘部分，通过处理由照相机获得的拍摄图像。