公开(公告)号：KR1020160007409A

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：KR1020150097592

申请日：2015-07-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠우라신 ,  정준영

IPC: H01L21/3065 ,  H05H1/46 ,  H01L21/683 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01J37/32532 ,  C23C16/45565 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32568

Abstract: 본발명은상부전극의리프팅힘의미세한조정을행하는것을목적으로한다. 플라즈마처리장치는지지부재와, 연락부재와, 슬라이딩부재를구비한다. 지지부재는일부가쿨링플레이트내에배치되고, 상부전극을중력방향으로지지한다. 연락부재는일부가쿨링플레이트내에배치되어쿨링플레이트의직경방향으로연장되고, 지지부재와계합한다. 슬라이딩부재는연락부재를쿨링플레이트의직경방향내측으로슬라이딩시킴으로써, 지지부재를윗방향으로밀어올려, 상부전극을쿨링플레이트로리프팅한다.

Abstract translation: 本发明旨在精细地调节上电极的提升力。 等离子体处理装置包括支撑构件，连接构件和滑动构件。 一些支撑构件布置在冷却板中并且构造成在重力方向上支撑上电极。 一些连接构件布置在冷却板中并沿着冷却板的直径方向延伸以与支撑构件接合。 滑动构件被构造成使连接构件在冷却板的直径方向上向内滑动，从而向上推动支撑构件并将上部电极提升到冷却板。

公开(公告)号：KR1020160007394A

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：KR1020150096952

申请日：2015-07-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠우라신 ,  정준영 ,  감바라게이타

IPC: H01L21/3065 ,  H05H1/46 ,  H01L21/683 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01J37/32568 ,  C23C16/45565 ,  H01J37/32522 ,  H01J37/32532 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67109

Abstract: (과제) 상부전극의리프팅하는힘을유연하게조정하는것. (해결수단) 플라즈마처리장치는, 지지부재와, 연락부재와, 회전부재와, 고정부재를구비한다. 지지부재는, 일부가쿨링플레이트내에배치되고, 쿨링플레이트의아래쪽에배치되는상부전극을지지한다. 연락부재는, 일부가쿨링플레이트내에배치되고, 쿨링플레이트의지름방향으로연장되어, 지지부재에걸어맞춰진다. 회전부재는, 쿨링플레이트의외주를따라서배치되고, 쿨링플레이트측에형성된오목부가연락부재와걸어맞춰진다. 고정부재는, 회전부재의오목부내에서연락부재에맞닿고, 연락부재에토크를주는것에의해상부전극을쿨링플레이트에리프팅하여고정한다. 고정부재는토크관리가가능하다.

Abstract translation: 本发明是为了灵活地调整上升电极的力。 一种等离子体处理装置，包括：支撑构件; 联系人; 旋转构件; 和固定构件。 支撑构件部分地设置在冷却板中，并且支撑设置在冷却板下方的上电极。 接触构件部分地设置在冷却板中，沿着冷却板的直径方向延伸，并且被紧固到支撑构件。 旋转构件沿着冷却板的外周配置，并且形成在冷却板侧的凹部被紧固到接触构件。 固定构件与旋转构件的凹部中的接触构件接触，并且向接触构件施加扭矩以将上部电极提升并固定到冷却板。 固定构件可以控制扭矩。