公开(公告)号：KR1020160086272A

公开(公告)日：2016-07-19

申请号：KR1020150187625

申请日：2015-12-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 감바라게이타 ,  사사키료

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H01L21/3213

CPC classification number: H01J37/32532 ,  F28F13/00 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/32724

Abstract: 피냉각부재와쿨링플레이트를적정하게접촉시킴으로써피냉각부재의온도분포를균일하게하는것을목적으로한다. 피냉각부재와, 냉각기구를가지며, 상기쿨링플레이트의외주측에서상기피냉각부재를그 쿨링플레이트에지지시키는클램프를가지며, 상기쿨링플레이트의상기피냉각부재와대향하는면은, 중앙부가둘레가장자리부보다상기피냉각부재측으로튀어나온구면형상을가지며, 상기피냉각부재의상기쿨링플레이트와대향하는면은소정의압력이상으로압박되어있는냉각구조물이제공된다.

Abstract translation: 本发明的目的是通过将要冷却的构件和冷却板适当地连接来均匀地分配要冷却的构件的温度。 提供一种冷却结构，其包括：要冷却的构件; 以及具有冷却装置的夹具，并且将冷却板的外周侧的被冷却部件支撑到冷却板。 面对冷却板冷却部件的一侧，与圆周缘部相比，朝向待冷却部件突出的球状中心部。 要冷却的构件的冷却板的一侧被加压预定压力或更多。

公开(公告)号：KR1020160019375A

公开(公告)日：2016-02-19

申请号：KR1020150110666

申请日：2015-08-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이시카와다쿠야 ,  사토나오유키 ,  감바라게이타 ,  사사키료

IPC: H01L21/3065 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/32724 ,  H01J37/32522 ,  H01J37/32642

Abstract: 전열시트의열화를억제하는것을목적으로한다. 온도조절기구를갖는배치대에배치된기판의외측에설치되고전열시트를통해상기배치대와접촉되는포커스링을갖는플라즈마처리장치로서, 상기포커스링의열 전도율보다낮은열 전도율을갖는단열층이상기포커스링의면들중 상기전열시트측의면에설치되는플라즈마처리장치가제공된다.

Abstract translation: 本发明是为了防止电热片的劣化。 等离子体处理装置技术领域本发明涉及一种具有聚焦环的等离子体处理装置，该聚焦环安装在布置在具有温度控制单元的布置单元中的基板的外侧，并且通过电加热片接触该布置单元。 等离子体处理装置包括导热率低于聚焦环的导热率的绝缘层。 绝缘层安装在聚焦环表面之间的电加热片的表面上。

公开(公告)号：KR1020160074409A

公开(公告)日：2016-06-28

申请号：KR1020150178822

申请日：2015-12-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 감바라게이타 ,  이시카와다쿠야 ,  사토나오유키 ,  사사키료

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/324 ,  H01L51/00 ,  H01L21/02

Abstract: 소정의인장특성을갖는밀착성이높은전열시트를공급한다. 실리콘을포함하는부재와알루미늄을포함하는부재의사이에전열시트를사이에두고소정시간가압한후, 전열시트를사이에둔 2개의부재의일단을제 1 클램프로파지하고, 제 1 클램프와대향하는위치에서다른쪽의부재의일단을제 2 클램프로파지하고, 제 1 및제 2 클램프의한쪽의클램프를고정하고, 다른쪽의클램프를반대측에 0.1㎜/분내지 0.5㎜/분의속도로인장하는시험을 N회(2≤N≤10) 실시했을때에전열시트의변위량(X)이 0.2㎜≤X≤0.4㎜의범위일때의인장력의경사(Y)가 0.1N/㎜≤Y≤50N/㎜의범위이며, 또한인장력의불균일은전열시트의변위량(X)이 0.2㎜≤X≤0.4㎜의범위에있어서인장력의중앙값의 ±25%의범위내인인장특성을갖는전열시트가제공된다.

Abstract translation: 本发明提供一种具有高附着力和预定拉伸性能的加热片。 将加热片放置在硅构件和铝构件之间并加压预定时间，然后通过第一夹具保持两个构件中的一个构件的端部，另一个构件的端部由第二夹具保持 面向第一夹具的位置。 第一和第二夹具中的一个被固定，另一个夹具以0.1mm / min和0.5mm / min的速度延伸到相对侧。 如果进行N（2 <= N <= 10）次的测试，拉力的倾角（Y）为：0.1N / mm <= Y <= 50N / mm，当加热的位移（X） 片材为：0.2mm <= X <= 0.4mm。 此外，当加热片的位移（X）为：0.2mm <= X <= 0.4mm时，拉力的不平衡是拉伸力的中心值的±25％。

公开(公告)号：KR1020160007394A

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：KR1020150096952

申请日：2015-07-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠우라신 ,  정준영 ,  감바라게이타

IPC: H01L21/3065 ,  H05H1/46 ,  H01L21/683 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01J37/32568 ,  C23C16/45565 ,  H01J37/32522 ,  H01J37/32532 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67109

Abstract: (과제) 상부전극의리프팅하는힘을유연하게조정하는것. (해결수단) 플라즈마처리장치는, 지지부재와, 연락부재와, 회전부재와, 고정부재를구비한다. 지지부재는, 일부가쿨링플레이트내에배치되고, 쿨링플레이트의아래쪽에배치되는상부전극을지지한다. 연락부재는, 일부가쿨링플레이트내에배치되고, 쿨링플레이트의지름방향으로연장되어, 지지부재에걸어맞춰진다. 회전부재는, 쿨링플레이트의외주를따라서배치되고, 쿨링플레이트측에형성된오목부가연락부재와걸어맞춰진다. 고정부재는, 회전부재의오목부내에서연락부재에맞닿고, 연락부재에토크를주는것에의해상부전극을쿨링플레이트에리프팅하여고정한다. 고정부재는토크관리가가능하다.

Abstract translation: 本发明是为了灵活地调整上升电极的力。 一种等离子体处理装置，包括：支撑构件; 联系人; 旋转构件; 和固定构件。 支撑构件部分地设置在冷却板中，并且支撑设置在冷却板下方的上电极。 接触构件部分地设置在冷却板中，沿着冷却板的直径方向延伸，并且被紧固到支撑构件。 旋转构件沿着冷却板的外周配置，并且形成在冷却板侧的凹部被紧固到接触构件。 固定构件与旋转构件的凹部中的接触构件接触，并且向接触构件施加扭矩以将上部电极提升并固定到冷却板。 固定构件可以控制扭矩。