公开(公告)号：KR101177965B1

公开(公告)日：2012-08-28

申请号：KR1020080038861

申请日：2008-04-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠오카노부아키 ,  하시모토타카히로 ,  츠치야카츠히로 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03B27/32 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021

Abstract: 본 발명은 도포, 현상 장치에 있어서 스루풋을 향상시킨다.
수평축의 주위에 회동하고, 회동축이 서로 평행이 되도록 전후에 배치된 한 쌍의 회동체(91, 92)와 이들 회동체(91, 92)의 사이에 걸쳐 주회 궤도에 따라 이동하고 그 위에 적재된 웨이퍼(W)의 반송로를 형성하는 반송로 부재(9)와, 상기 반송로의 상류단에 설치된 반입용 수수부(81)와 상기 반송로의 하류단에 설치된 반출용 수수부(82)와, 상기 반송로의 상류단과 하류단 사이에, 웨이퍼(W)를 가열하기 위한 열판(83, 84)을 구비한다.

公开(公告)号：KR1020080096468A

公开(公告)日：2008-10-30

申请号：KR1020080038861

申请日：2008-04-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠오카노부아키 ,  하시모토타카히로 ,  츠치야카츠히로 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03B27/32 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021

Abstract: A coating-developing apparatus, method and storage medium are provided to improve yield by performing consecutive heat treatment on a plurality of substrates using a transfer working table for substrates. A coating-developing apparatus, method and storage medium include a pair of rotation bodies(91,92) disposed in parallel with a rotation axis, rotating around the rotation axis; a transfer guide member(9) for forming a transfer guide for a wafer, moved along the main orbit; a unit(81) for import disposed on the upper part of the guide; a unit(82) for export disposed on the lower part of the guide; a heating plate(83) for heating the wafer.

Abstract translation: 提供一种涂布显影装置，方法和存储介质以通过使用用于基板的转印工作台对多个基板执行连续热处理来提高成品率。 涂布显影装置，方法和存储介质包括一组围绕旋转轴线旋转的旋转轴平行设置的旋转体（91,92）; 用于形成用于晶片的转移引导件的转移引导构件（9）沿主轨道移动; 用于导入的单元（81）设置在引导件的上部; 用于出口的单元（82）设置在引导件的下部; 用于加热晶片的加热板（83）。