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公开(公告)号：KR200484875Y1
公开(公告)日：2017-11-02
申请号：KR2020120006034
申请日：2012-07-10
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: B01D46/52 , B01D46/42 , H01L21/677
Abstract: 본고안은, 도포처리를행하는복수개의처리유닛에청정한기체를균일하게유하시킬수 있는공통의필터엘리먼트를포함하는공기청정용필터장치를제공하는것을목적으로한다. 기판에액 처리를실시하는액 처리컵을복수개 구비하는액 처리유닛의상부로부터아래쪽에위치하는적어도상기복수개의처리컵의면에대하여균일한기류를유하시키기위한필터엘리먼트를포함하는공기청정용필터장치로서, 여과기재를플리츠가공하고, 보형부재에의해플리츠형상이유지되는필터엘리먼트(10)와, 적어도상기여과기재의상면의여과전기체가통과하는여과영역에피착되는합성수지제의부직포시트(52)와, 부직포시트의상측을눌러고정하는라스망부재(53)를구비한다.
Abstract translation: 本发明的一个目的是提供一种空气净化过滤装置，其包括能够将清洁气体均匀地输送到多个处理单元以执行涂覆处理的通用过滤元件。 包含用于液体处理杯过滤元件，用于从具有多个液体处理单元的顶部的基底相对于向下流动的均匀气流的表面上的至少所述多个治疗杯，其位于所述清洁过滤器的底部的执行溶液处理空气 一种由合成树脂制成的无纺织物片（52），该无纺织物片至少附着在过滤材料上表面上的过滤体所通过的过滤区域和无纺织物片 以及锉刀构件53，用于压迫和固定无纺布片的上侧。
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公开(公告)号：KR101554050B1
公开(公告)日：2015-09-17
申请号：KR1020100108072
申请日：2010-11-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , H01L21/302
CPC classification number: B05C5/0237 , B05C5/0225 , B05C13/02 , G03F7/162
Abstract: 본발명은저비용으로약액의건조를억제할수 있는약액공급노즐을제공하는것을목적으로한다. 본발명의약액공급노즐은, 유로부재의선단부에접속되는노즐본체에차단밸브와, 약액을흡인유로에흡인하는흡인부가설치되어있다. 따라서약액토출후에상기차단밸브의하류측에잔류하는약액을, 차단밸브의상류측으로흡인하여제거하여, 차단밸브에의해노즐본체안의약액유로를차단할수 있다. 이것에의해, 상기약액유로에서의약액의건조및 고화를억제할수 있다. 또한, 약액유로의하류에시너등을흡인하여약액유로를막을필요가없고, 더미디스펜스의횟수도억제할수 있기때문에, 처리비용의상승을억제할수 있다.
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公开(公告)号：KR101200155B1
公开(公告)日：2012-11-12
申请号：KR1020110106232
申请日：2011-10-18
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/6715 , H01L21/00 , H01L21/67178 , H01L21/67184 , H01L21/6719
Abstract: 본 발명은 도포 현상장치 및 그 방법에 관한 것으로서 처리 블럭 (S2)에 도포막 형성용의 단위 블럭인 TCT층 (B3) ; COT층 (B4); BCT층 (B5)와 현상 처리용의 단위 블럭인 DEV층 (B1; B2)를 서로 적층하여 설치한다. 반사 방지막을 형성하는 경우 하지 않는 경우의 어느 경우에 있어서도 TCT층 (B3); COT층 (B4) ; BCT층 (B5) 중 사용하는 단위 블럭을 선택함으로써 대응할 수 있고 이 때 반송 프로그램의 복잡화를 억제하여 소프트웨어의 간이화를 도모할 수 있다.
레지스트막 형성용의 단위 블럭과 반사 방지막 형성용의 단위 블럭을 적층해 설치하는 것으로 레지스트막의 상하에 반사 방지막을 형성하는 것에 있어 공간절약화를 도모하는 것과 또 반사 방지막을 형성하는 경우 하지 않는 경우의 어느 것에도 대응하는 것이 가능하고 이 때 소프트웨어의 간이화를 도모하는 기술을 제공한다.-
公开(公告)号：KR1020120106586A
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：KR1020120025434
申请日：2012-03-13
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , B65G49/07 , B25J15/06
CPC classification number: H01L21/6838 , B25J15/0616 , B25J15/0683
Abstract: PURPOSE: A substrate holding device is provided to stably hold a substrate by elastically deforming an O ring interposed between an outer groove formed in a pad body and an inner groove formed in a pad holding member. CONSTITUTION: A transfer arm body(30) has a suction path. A pad body(40) includes an absorbing unit with an absorbing surface and a suction hole, and a cylindrical mounting unit. A pad holding member includes an insertion hole and a connection path and is fixed to the transfer arm body. An O ring is elastically deformed and is interposed between an arced outer groove(46) formed in the mounting unit and an arced inner groove(55) formed in the insertion hole of the pad holding member.
Abstract translation: 目的：提供一种基板保持装置，通过弹性变形形成在垫体的外槽之间的O形环和形成在垫保持构件中的内槽的弹性变形来稳定地保持基板。 构成：传送臂体（30）具有吸引路径。 垫体（40）包括具有吸收表面和吸入孔的吸收单元和圆柱形安装单元。 垫保持构件包括插入孔和连接路径，并且固定到传送臂主体。 O形环弹性变形，并且插入在形成在安装单元中的弧形外槽（46）和形成在垫保持构件的插入孔中的弧形内槽（55）之间。
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公开(公告)号：KR1020120079807A
公开(公告)日：2012-07-13
申请号：KR1020110141910
申请日：2011-12-26
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/0274 , G03F7/70733 , H01L21/67718 , H01L21/67721
Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to prevent gas from being stayed in a substrate transfer region by separating a partition plate from a partitioned location in maintenance. CONSTITUTION: A clean gas supply part(42) is formed in order to be communicated with a gas diffusion chamber in a partition plate. A gas supply path supplies gas to the clean gas supply part. A filter(37) is installed in the gas supply path. A plurality of outlets(45) is formed on a lower portion of the partition plate. The plurality of outlets discharges the gas diffused within the gas diffusion chamber to a substrate transfer region.
Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，用于通过在维护中将分隔板与分隔位置分离来防止气体滞留在基板传送区域中。 构成：形成清洁气体供给部（42），以与分隔板中的气体扩散室连通。 气体供给路径向清洁气体供给部供给气体。 过滤器（37）安装在气体供给路径中。 多个出口（45）形成在隔板的下部。 多个出口将在气体扩散室内扩散的气体排出到基板传送区域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101117872B1
公开(公告)日：2012-07-12
申请号：KR1020060004421
申请日：2006-01-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/67276 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/67754
Abstract: 본 발명은 도포· 현상장치 및 도포 · 현상방법에 관한 것으로서 도포·현상 장치는 웨이퍼에 대해서 레지스트막을 형성한 후 노광 장치에 반송하고 노광후의 기판을 현상 처리하는 처리 블럭과 처리 블럭과 노광 장치와의 사이에 설치된 인터페이스 반송 기구를 구비하고 상기 처리 블럭은 도포막 형성용의 단위 블럭과 현상 처리용의 단위 블럭을 갖고 이들이 적층된 상태로 배치되고 있다. 상기 인터페이스 반송 기구에 이상이 일어났을 때에 도포막 형성용의 단위 블럭내에 존재하는 웨이퍼에 대해서 상기 단위 블럭내에서 통상의 처리를 실시한 후처리 후의 웨이퍼를 수용유니트에 퇴피시키는 것과 동시에 도포막 형성용의 단위 블럭내로의 웨이퍼의 반입을 금지하는 기술을 제공한다.
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公开(公告)号：KR1020110128766A
公开(公告)日：2011-11-30
申请号：KR1020110106232
申请日：2011-10-18
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/6715 , H01L21/00 , H01L21/67178 , H01L21/67184 , H01L21/6719 , H01L21/0273
Abstract: PURPOSE: A coating and developing apparatus and a substrate processing apparatus are provided to save a space by forming a reflection preventing layer on the top and bottom of a resist film. CONSTITUTION: A substrate(W) is carried by a carrier and is received in the processing block. The coating film including the resist film is formed in the processing block. The substrate is exposed by light through an interface which is connected to the opposite side of the carrier block against a corresponding processing block and is carried. The substrate, which returns through an interface block(S3) after being exposed by light, is developed in the processing block and received in the carrier block. The processing block includes a laminated unit block for forming a plurality of coating films and a laminated unit block for developing and processing.
Abstract translation: 目的：通过在抗蚀膜的顶部和底部形成反射防止层来提供涂覆和显影装置和基板处理装置以节省空间。 构成：衬底（W）由载体承载并被接收在处理块中。 在处理块中形成包括抗蚀剂膜的涂膜。 衬底通过接口暴露，该接口与载体块的相反侧相对于相应的处理块连接并被承载。 在光被曝光之后通过界面块（S3）返回的衬底在处理块中显影并被接收在载体块中。 处理块包括用于形成多个涂膜的层压单元块和用于显影和加工的层压单元块。
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公开(公告)号：KR101010158B1
公开(公告)日：2011-01-20
申请号：KR1020060014997
申请日：2006-02-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67178 , H01L21/6715 , H01L21/67253
Abstract: 본 발명은 액처리 장치 및 액처리 방법에 관한 것으로서 각 기판보지부를 각각 둘러싸는 복수의 컵체에 각각 접속된 복수의 배기로를 공통화하고 기판을 기판보지부에 의해 기판을 회전시켜서 액처리를 행하는 것에 있어 각 배기로에 설치된 배기량 조정부의 개폐도를 각 기판보지부의 회전수의 조합과 각 배기로의 설정배기량의 조합을 대응지은 데이터를 참조하여 조정하고 있다. 따라서 본 발명에 의하면 어떤 컵내의 기판이 어떤 공정을 행하고 있는 것에 좌우되지 않고 항상 컵내를 예정한 배기량으로 배기할 수 있는 기술을 제공한다.
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公开(公告)号：KR1020060093042A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：KR1020060014997
申请日：2006-02-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67178 , H01L21/6715 , H01L21/67253 , G03F7/3021 , B08B3/02 , H01L21/67051
Abstract: 본 발명은 액처리 장치 및 액처리 방법에 관한 것으로서 각 기판보지부를 각각 둘러싸는 복수의 컵체에 각각 접속된 복수의 배기로를 공통화하고 기판을 기판보지부에 의해 기판을 회전시켜서 액처리를 행하는 것에 있어 각 배기로에 설치된 배기량 조정부의 개폐도를 각 기판보지부의 회전수의 조합과 각 배기로의 설정배기량의 조합을 대응지은 데이터를 참조하여 조정하고 있다. 따라서 본 발명에 의하면 어떤 컵내의 기판이 어떤 공정을 행하고 있는 것에 좌우되지 않고 항상 컵내를 예정한 배기량으로 배기할 수 있는 기술을 제공한다.
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公开(公告)号：KR1020060088495A
公开(公告)日：2006-08-04
申请号：KR1020060009384
申请日：2006-01-31
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67184 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/67207 , H01L21/67745 , H01L21/67017 , H01L21/6715
Abstract: 본 발명은 도포 현상장치에 관한 것으로서 복수의 단위 블럭의 집합체로부터 되는 도포·현상 장치가 제공된다. 제 1의 단위 블럭 적층체와 제 2의 단위 블럭 적층체가 전후방향이 다른 위치에 배치된다. 노광 후의 현상 처리를 실시하는 현상 유니트를 포함한 복수의 처리 유니트 및 이들 유니트간의 기판의 반송을 실시하는 반송 수단을 구비한 현상용 단위 블럭이 최하단에 배치된다. 노광전의 도포 처리를 실시하는 도포 유니트를 포함한 복수의 처리 유니트 및 이들 유니트간의 기판의 반송을 실시하는 반송 수단을 구비한 도포용 단위 블럭은 현상용 단위 블럭 위에 배치된다. 도포용 단위 블럭은 제 1의 단위 블럭 적층체 및 제 2의 단위 블럭 적층체의 양쪽 모두에 배치된다. 반사 방지막과 레지스트막의 적층 위치 관계에 따라 도포·현상 장치내에 있어서 노광전의 웨이퍼나 경유하는 도포용 단위 블럭을 결정한다. 노광 후의 웨이퍼는 도포용 단위 블럭을 통과하는 일 없이 현상용 단위 블럭만을 통과하는 기술을 제공한다.
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