열처리 장치 및 열처리 방법
    2.
    发明公开
    열처리 장치 및 열처리 방법 有权
    열처리장치및열처리방법

    公开(公告)号:KR1020030043975A

    公开(公告)日:2003-06-02

    申请号:KR1020037004418

    申请日:2001-09-28

    Abstract: 웨이퍼(W)가 적재되고, 내부에 히터(22)를 갖춘 히터판(21)을 내부에 냉매실을 구비한 냉각 블록(16) 상에 적재한다. 상기 냉각 블록(16)에는 이 냉각 블록을 관통하는 가스 도입관(33)이 설치되어 있다. 가스 도입관(33)은 히터판(21)과 냉각 블록(16)의 간극(41)에 접속되어, 열전도 가스로서의 He 가스를 간극(41)에 공급할 수 있도록 되어 있다. 또한, 간극(41)에는 가스 흡인관(34)이 접속되어, He 가스를 흡인할 수 있도록 되어 있다.

    Abstract translation: 其上安装有晶片W并且在其内部包括加热器的加热器板被放置在其内部包括冷却剂室的冷却块上。 冷却块包括穿过其中的气体引入管。 气体引入管连接到加热器板和冷却块之间的空间,从而能够将He气体作为导热气体供应到该空间。 吸气管34连接到该空间以使得可以吸入氦气。

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