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公开(公告)号:KR101236160B1
公开(公告)日:2013-02-22
申请号:KR1020117006035
申请日:2009-07-17
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/312 , C23C14/12 , C08G73/10
CPC classification number: H01L21/312 , B05D1/60 , C08G73/1046 , C08G73/105 , C08G73/1067 , C08G73/1071 , C08L79/08 , H01L21/02118 , H01L21/02269 , H01L21/481 , H01L23/49894 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 원료 형성면에 중합막을 형성하기 위한 복수의 원료를 소정 패턴으로 형성한 제 1 기판(16)과, 중합막을 형성해야 할 성막면을 가지는 제 2 기판(15)을, 원료 형성면과 성막면이 마주하도록 처리 용기(2) 내에 대향하여 설치하고, 처리 용기(2) 내를 진공 분위기로 하고, 제 1 기판(16)을 상기 복수의 원료(17, 18)가 증발하는 제 1 온도로 가열하여 증발시키고 또한, 제 2 기판(15)을 복수의 원료가 중합 반응을 일으키는 제 2 온도로 가열하고, 제 1 기판(16)으로부터 증발한 복수의 원료(17, 18)를 제 2 기판(15)의 성막면에서 반응시켜 성막면에 소정의 중합막을 형성한다.
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公开(公告)号:KR1020110051250A
公开(公告)日:2011-05-17
申请号:KR1020117006035
申请日:2009-07-17
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/312 , C23C14/12 , C08G73/10
CPC classification number: H01L21/312 , B05D1/60 , C08G73/1046 , C08G73/105 , C08G73/1067 , C08G73/1071 , C08L79/08 , H01L21/02118 , H01L21/02269 , H01L21/481 , H01L23/49894 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 원료 형성면에 중합막을 형성하기 위한 복수의 원료를 소정 패턴으로 형성한 제 1 기판(16)과, 중합막을 형성해야 할 성막면을 가지는 제 2 기판(15)을, 원료 형성면과 성막면이 마주하도록 처리 용기(2) 내에 대향하여 설치하고, 처리 용기(2) 내를 진공 분위기로 하고, 제 1 기판(16)을 상기 복수의 원료(17, 18)가 증발하는 제 1 온도로 가열하여 증발시키고 또한, 제 2 기판(15)을 복수의 원료가 중합 반응을 일으키는 제 2 온도로 가열하고, 제 1 기판(16)으로부터 증발한 복수의 원료(17, 18)를 제 2 기판(15)의 성막면에서 반응시켜 성막면에 소정의 중합막을 형성한다.
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