公开(公告)号：KR101939166B1

公开(公告)日：2019-01-16

申请号：KR1020130012463

申请日：2013-02-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 쿠루수켄토

IPC: H01L21/302

公开(公告)号：KR1020130092457A

公开(公告)日：2013-08-20

申请号：KR1020130012463

申请日：2013-02-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 쿠루수켄토

IPC: H01L21/302

CPC classification number: B08B1/002 ,  B08B1/04 ,  H01L21/02074 ,  H01L21/304 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67051

Abstract: PURPOSE: A substrate processing scrubber, a substrate processing device and a substrate processing method are provided to eliminate a target object from a substrate by restricting a scrubber main body from being inclined by reaction force from the substrate. CONSTITUTION: A substrate processing scrubber (29) eliminates a target object from a substrate. The substrate processing scrubber has a base frame (31) connected to a rotary shaft (28), a scrubber main body (32) and a processing liquid supplying part (36). The scrubber main body are plurally installed having intervals in a rotating direction. The processing liquid supplying part supplies processing liquid to the scrubber main body. The scrubber main body forms the area of a mounting surface with the base frame larger than the area contacting the surface of the substrate.

Abstract translation: 目的：提供衬底处理洗涤器，衬底处理装置和衬底处理方法，以通过限制洗涤器主体不受来自衬底的反作用力的倾斜而从衬底中消除目标物体。 构成：衬底处理洗涤器（29）从衬底消除目标物体。 基板处理洗涤器具有连接到旋转轴（28），洗涤器主体（32）和处理液供给部（36）的基架（31）。 洗涤器主体多个安装有沿旋转方向的间隔。 处理液供给部向洗涤器主体供给处理液。 洗涤器主体形成安装表面的区域，其中底座框架大于接触衬底表面的区域。

公开(公告)号：KR1020170110008A

公开(公告)日：2017-10-10

申请号：KR1020170028949

申请日：2017-03-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아마노요시후미 ,  이토유키 ,  쿠루수켄토

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 복수의상이한종류의세정액을브러시로공급하는경우에있어서도양호한세정처리를행할수 있는기판세정장치를제공하는것이다. 실시형태에따른기판세정장치는기판유지부와브러시와암과토출부와안내부재를구비한다. 기판유지부는기판을회전가능하게유지한다. 브러시는본체부와, 본체부의하부에마련되고기판에눌리는세정체와, 본체부에형성된상하양단이개구되는중공부를가진다. 암은브러시의본체부를스핀들을개재하여회전가능하게지지한다. 토출부는암에마련되고, 토출부로부터복수종류의처리액이전환하여토출되는것이가능하다. 안내부재는토출부와브러시의사이에배치되고, 토출부로부터토출된처리액을일단받아브러시의중공부로유도한다.

Abstract translation: 本发明提供一种基板清洗装置，即使在刷子供给多种不同种类的清洗液的情况下也能够进行良好的清洗处理。 根据实施例的基板清洁设备包括基板保持部分，刷子，臂，排出部分和引导部件。 基板保持部可旋转地保持基板。 刷子具有主体部分，设置在主体部分的下部以抵靠基板的清洁体，以及具有形成在主体部分中的上端和下端都打开的综片。 手臂通过心轴可旋转地支撑着刷子的主体。 排出部分设置在臂中，并且多种处理液体可以从排出部分切换并排出。 引导构件设置在排出部和刷子之间，并且将从排出部排出的处理液接收一次以将其引导到刷子的中心。