公开(公告)号：KR101608509B1

公开(公告)日：2016-04-01

申请号：KR1020090098167

申请日：2009-10-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 키노시타미치오

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05B1/14 ,  B05B12/08 ,  B05B15/531 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021

Abstract: 사용하지않은도포액노즐선단부를건조억제용제로봉지하여장시간건조를방지하는처리를용이하게최적의상태로조정하고, 흡인용제층의양으로설정되는장시간동안더미디스펜스를행하지않아도되도록하는것에있다. 기판유지부에대략수평으로유지된기판의표면에, 도포액노즐로부터도포액을공급하여상기기판의표면을향해토출(吐出)시켜도포막을형성하는액처리를하는액처리장치(방법)에있어서, 도포액노즐(10) 선단부를촬상하는수단을마련하고, 미리장시간건조를방지하는처리를행하는경우의도포액의위치, 건조억제용제의위치를촬상영상이표시되는화면중으로삽입되는소프트스케일(121a)에의해설정을행함으로써, 육안에의존하지않고설정치에기초하여디스펜스제어하고, 상기도포액노즐의선단부내의도포액의건조억제의조정을행한다.

公开(公告)号：KR1020100044098A

公开(公告)日：2010-04-29

申请号：KR1020090098167

申请日：2009-10-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 키노시타미치오

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05B1/14 ,  B05B12/08 ,  B05B15/531 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67017

Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus and a liquid processing method are provided to omit a dummy dispense operation by preventing a coating liquid in the tip of a nozzle from drying. CONSTITUTION: A nozzle transfer unit transfers a coating liquid nozzle(10). The coating liquid nozzle stands-by in a nozzle bath. The coating liquid includes a dry suppression solvent. A dispenser control unit(119) controls the suction operation and the dispense operation of the dry suppression solvent. A control unit(9) controls the dispense control unit. A verification unit(121) analyses and verifies a nozzle image data. An operation display unit(120) displays the nozzle image data.

Abstract translation: 目的：提供一种液体处理装置和液体处理方法，以通过防止喷嘴尖端中的涂布液干燥而省略虚拟分配操作。 构成：喷嘴转移单元转移涂布液喷嘴（10）。 涂布液喷嘴在喷嘴槽中待机。 涂布液包括干燥抑制溶剂。 分配器控制单元（119）控制干燥抑制溶剂的抽吸操作和分配操作。 一个控制单元（9）控制分配控制单元。 验证单元（121）分析和验证喷嘴图像数据。 操作显示单元（120）显示喷嘴图像数据。

公开(公告)号：KR1020040111070A

公开(公告)日：2004-12-31

申请号：KR1020040044273

申请日：2004-06-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이이다나루아키 ,  이토카즈히코 ,  키노시타미치오

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67754 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/681 ,  Y10S414/139 ,  Y10S414/141

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus and an aligning method of a substrate carrier apparatus are provided to perform a precise alignment of the substrate carrier apparatus on a processing unit. CONSTITUTION: A substrate processing apparatus includes a first optical detection mark(7A), a second optical detection mark(7B), an optical sensor(6), and a controller(C). The first optical detection mark on an outer surface of an exterior casing includes a predetermined positional coordinate in a lateral direction with respect to a carrier opening. The second optical detection mark on the outer surface of the exterior casing includes a predetermined positional coordinate in a vertical direction with respect to the carrier opening. The optical sensor is provided on the substrate carrier apparatus to detect the first or second optical detection marks. The controller includes two programs. One of the programs rotates the substrate carrier apparatus, and moves the substrate carrier apparatus in the vertical direction, to allow the substrate carrier apparatus to face the carrier opening of the processing unit. The other program allows the substrate carrier apparatus to enter a processing unit to perform an operation of data acquisition on a precise transfer position.

Abstract translation: 目的：提供基板载体装置的基板处理装置和对准方法，以在处理单元上执行基板载体装置的精确对准。 构成：基板处理装置包括第一光学检测标记（7A），第二光学检测标记（7B），光学传感器（6）和控制器（C）。 外壳的外表面上的第一光学检测标记在相对于载体开口的横向方向上具有预定的位置坐标。 外壳的外表面上的第二光学检测标记包括相对于载体开口在垂直方向上的预定位置坐标。 光学传感器设置在基板载体装置上以检测第一或第二光学检测标记。 控制器包括两个程序。 其中一个程序旋转衬底载体装置，并使衬底载体装置沿垂直方向移动，以允许衬底载体装置面对处理单元的载体开口。 另一个程序允许基板载体装置进入处理单元，以在精确的传送位置执行数据采集的操作。

公开(公告)号：KR101522695B1

公开(公告)日：2015-05-22

申请号：KR1020100054713

申请日：2010-06-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 노가미츠요시 ,  키노시타미치오 ,  다테이시나오야 ,  히라오타케시 ,  마스나가타카히로 ,  아라키타카노리

IPC: H01L21/027

Abstract: 횡방향으로일렬로배치된기판보지부를구비한복수의액처리부와, 상기액처리부에대하여공용화되고액처리부의배열방향을따라설치된복수의처리액노즐을구비한액처리장치에서, 상기처리액노즐로부터기판으로의처리액의낙하를억제하여수율의저하를방지할수 있는액처리장치를제공하는것이다. 처리액노즐의하방에서상기처리액노즐의배열방향을따라광축을형성하는광 센서와, 각처리액노즐의미사용시에상기광 센서에의해상기광축이차단된상태를검출했을때에처리액의액 맺힘또는적하가발생했다고판정하고판정신호를출력하는수단과, 상기판정신호의출력에기초하여대처동작을행하는대처수단을구비하도록장치를구성한다. 각처리액노즐이횡방향으로배열된각 액처리부상을이동함에있어서, 기판또는기판보지부에처리액이적하하여정상적인처리가방해받거나파티클이되는것이억제된다.

公开(公告)号：KR1020100137363A

公开(公告)日：2010-12-30

申请号：KR1020100054713

申请日：2010-06-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 노가미츠요시 ,  키노시타미치오 ,  다테이시나오야 ,  히라오타케시 ,  마스나가타카히로 ,  아라키타카노리

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0274 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341

Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus, a liquid processing method, and a storage media are provided to protect a liquid processing process by prevent processing liquid from being dropped. CONSTITUTION: A nozzle(40) is arranged at the lower side of a nozzle head(34). The nozzle head is the tip end of an arm(33). A plurality of liquid processing parts is serially arranged to a transversal direction. A nozzle bath is installed to hold the nozzle. A supporting unit is arranged at the upper region of the liquid processing parts and between the nozzle baths. A driving unit moves the supporting unit.

Abstract translation: 目的：提供液体处理装置，液体处理方法和存储介质以通过防止处理液体掉落来保护液体处理过程。 构成：喷嘴（40）布置在喷嘴头（34）的下侧。 喷嘴头是臂（33）的末端。 多个液体处理部件沿横向连续地排列。 安装喷嘴槽以固定喷嘴。 支撑单元布置在液体处理部分的上部区域和喷嘴槽之间。 驱动单元移动支撑单元。

公开(公告)号：KR100988707B1

公开(公告)日：2010-10-18

申请号：KR1020040044273

申请日：2004-06-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이이다나루아키 ,  이토카즈히코 ,  키노시타미치오

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67754 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/681 ,  Y10S414/139 ,  Y10S414/141

Abstract: 본 발명은 기판 처리 장치 및 기판 반송 장치의 위치 맞춤 방법에 관한 것으로서, 반송 장치가 출입하는 처리 유니트의 반송구에 대해서 좌우 방향의 위치 좌표가 미리 결정되어 있는 제 1의 광학적 검출용 마크와 반송구에 대해서 상하 방향의 위치 좌표가 미리 결정되어 있는 제2의 광학적 검출용 마크와, 기판 반송(5) 장치에 설치되어 제1 또는 제2의 광학적 검출용 마크를 검출하기 위한 광 센서를 가지고 있다. 광 센서가 제 1의 광학적 검출용 마크를 검출했을 때의 기판 반송 장치의 위치로부터 미리 결정 된 각도만 기판 반송 장치를 회전시키고, 또 제 2의 광학적 검출용 마크를 검출했을 때의 기판 반송 장치의 위치로부터 미리 결정 된 이동량만 기판 반송 장치를 상하 방향으로 이동시킨다. 기판 반송 장치를 처리 유니트(10)의 반송구에 대향시킨 후, 기판 반송 장치를 처리 유니트내에 진입시켜서 처리유니트내의 재치대의 소정 위치에 기판을 주고 받을 때의 정확한 수수 위치의 데이터를 미리 취득하는 기술을 제공한다.