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公开(公告)号：KR1020140081676A
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：KR1020130153324
申请日：2013-12-10
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: C23C4/08 , C23C4/12 , C23C4/137 , H01G11/06 , H01G11/32 , H01G11/50 , H01G11/86 , H01M4/0419 , H01M4/139 , H01M4/587 , H01M10/0525 , Y02E60/122 , Y02E60/13 , Y02P70/54
Abstract: A time for doping an electrode material on an electrode sheet with a lithium ion can be reduced. The electrode manufacturing apparatus includes a processing chamber (200) to and from which the electrode sheet is loaded and unloaded; a rare gas supply unit (230) configured to introduce a rare gas into the processing chamber; an exhaust device (220) configured to exhaust an inside of the processing chamber to a certain vacuum level; and a lithium thermal spraying unit (210) configured to dope with the lithium ion by forming a lithium thin film on the carbon material (C) of the electrode sheet (W) loaded into the processing chamber while melting and spraying lithium-containing powder.
Abstract translation: 可以减少在具有锂离子的电极片上掺杂电极材料的时间。 电极制造装置包括负载和卸载电极片的处理室（200）; 配置为将稀有气体引入所述处理室的稀有气体供给单元（230） 排气装置（220），其构造成将所述处理室的内部排出到一定的真空度; 以及配置为通过在熔融喷射含锂粉末的同时在装载到处理室中的电极片（W）的碳材料（C）上形成锂薄膜来掺杂锂离子的锂热喷涂单元（210）。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR102099656B1
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：KR1020130153324
申请日：2013-12-10
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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公开(公告)号：KR102264000B1
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：KR1020140026059
申请日：2014-03-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: C23C4/12
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公开(公告)号：KR101674000B1
公开(公告)日：2016-11-08
申请号：KR1020137027936
申请日：2012-02-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: C23C16/4412
Abstract: 기판처리장치는, 유기금속화합물을포함하는원료가스를이용하여기판처리를행하는처리실과유기금속화합물을회수하는회수장치를포함한다. 회수장치는, 처리실로부터배출된가스가통류하는통류부, 통류부로유입된가스에포함되는미반응의유기금속화합물을통류부내에서석출시키도록상기통류부를냉각하는냉각부, 통류부의상류측과하류측을연통하는바이패스로, 통류부의상류측에설치되고, 처리실로부터배출된가스의통류부에의유입을허가또는저지하는제 1 개폐부, 통류부의상류측에설치되고, 처리실로부터배출된가스의바이패스로에의유입을허가또는저지하는바이패스로개폐부, 및통류부의하류측에설치된배출관을포함한다.
Abstract translation: 该基板处理装置包括：处理室，其中使用含有有机金属化合物的原料气体处理基板; 以及还原有机金属化合物的回收装置。 回收装置包括：循环单元，其中从处理室排出的气体循环; 冷却单元，其冷却循环单元，使得已经流入循环单元的气体中包含的未反应的有机金属化合物在循环单元内沉淀; 旁通通道，其在所述循环单元的上游侧和下游侧连通; 第一打开/关闭单元，设置在循环单元的上游，并允许或防止从处理室排出的气体流入循环单元; 旁通通道打开/关闭单元，设置在循环单元的上游，并允许或防止已经从处理室排出的气体流入旁通通道; 以及设置在循环单元的下游的排出管。
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公开(公告)号：KR1020140110758A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：KR1020140026059
申请日：2014-03-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: C23C4/12
CPC classification number: B05B17/0676 , B05B7/1445 , B05B7/1463 , B05B7/1626 , C23C4/02 , C23C4/12
Abstract: The present invention provides a hopper capable of supplying a material having microparticles. The hopper includes: a container that contains the material that is powder of which a particle has a diameter of 0.1-10 μm; a pressure controlling part which periodically generates pressure variance in the inside of the container; and a shaker which vibrates the container. The hopper: supplies the material in the container from a hole, formed on the container, by the periodic pressure variance and vibrations; and transfers the material by using carrier gas.
Abstract translation: 本发明提供能够供给具有微粒的材料的料斗。 料斗包括：容器，其含有粒径为0.1-10μm的粉末的材料; 在容器的内部周期性地产生压力变化的压力控制部; 以及使容器振动的摇动器。 料斗：通过周期性压力变化和振动，从容器中形成的孔中提供容器中的材料; 并通过使用载气转移材料。
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公开(公告)号：KR1020140029412A
公开(公告)日：2014-03-10
申请号：KR1020137027936
申请日：2012-02-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: C23C16/4412 , C23C16/18 , C23C16/4408 , H01L21/31
Abstract: 기판 처리 장치는, 유기 금속 화합물을 포함하는 원료 가스를 이용하여 기판 처리를 행하는 처리실과 유기 금속 화합물을 회수하는 회수 장치를 포함한다. 회수 장치는, 처리실로부터 배출된 가스가 통류하는 통류부, 통류부로 유입된 가스에 포함되는 미반응의 유기 금속 화합물을 통류부 내에서 석출시키도록 상기 통류부를 냉각하는 냉각부, 통류부의 상류측과 하류측을 연통하는 바이패스로, 통류부의 상류측에 설치되고, 처리실로부터 배출된 가스의 통류부에의 유입을 허가 또는 저지하는 제 1 개폐부, 통류부의 상류측에 설치되고, 처리실로부터 배출된 가스의 바이패스로에의 유입을 허가 또는 저지하는 바이패스로 개폐부, 및 통류부의 하류측에 설치된 배출관을 포함한다.
Abstract translation: 该基板处理装置包括：处理室，其中使用含有有机金属化合物的原料气体处理基板; 以及回收有机金属化合物的回收装置。 回收装置包括：循环单元，其中从处理室排出的气体循环; 冷却单元，其冷却循环单元，使得已经流入循环单元的气体中包含的未反应的有机金属化合物在循环单元内沉淀; 旁通通道，其在所述循环单元的上游侧和下游侧连通; 第一打开/关闭单元，设置在循环单元的上游，并允许或防止从处理室排出的气体流入循环单元; 旁通通道打开/关闭单元，设置在循环单元的上游，并允许或防止已经从处理室排出的气体流入旁通通道; 以及设置在循环单元的下游的排出管。
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