公开(公告)号：KR1020140004007A

公开(公告)日：2014-01-10

申请号：KR1020130073251

申请日：2013-06-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토카오루 ,  미즈사와야스시 ,  하라마사미치

IPC: C23C16/448 ,  C23C16/16 ,  H01L21/205 ,  C23C16/44 ,  C23C16/511 ,  C23C16/50 ,  C23C16/455

CPC classification number: C23C16/448 ,  C23C16/16 ,  H01L21/205

Abstract: When supplying a gas phase raw material, which sublimates a precursor of a raw material, to a process chamber for performing film forming treatment on an object to be treated, a method prepared by the present invention efficiently sublimates the precursor inside a raw material container. Trays (41), which accommodate the precursor (50), in multiple layers are accumulated on top of each other inside a housing (24) having an opening (30) that communicates with the process chamber (2). Each tray (41) comprises: an inlet (a hole) (45) which introduces carrier gas into the tray (41); an outlet (a gap) (28) which communicates with the opening (30) as the carrier gas leaks along with the gas phase raw material of the precursor (50); and a cover (46) which can be opened and closed and holds the precursor (50) inside the tray (41).

Abstract translation: 当将将原料前体升华的气相原料供给到用于对待处理物体进行成膜处理的处理室时，本发明制备的方法有效地使原料容器内的前体升华。 容纳前体（50）的多个托盘（41）在具有与处理室（2）连通的开口（30）的壳体（24）内彼此堆积。 每个托盘（41）包括：将载气引入托盘（41）中的入口（孔）（45）; 当载气与前体（50）的气相原料一起泄漏时，与开口（30）连通的出口（间隙）（28）; 以及可以打开和关闭并将前体（50）保持在托盘（41）内部的盖（46）。

公开(公告)号：KR101677973B1

公开(公告)日：2016-11-21

申请号：KR1020130073251

申请日：2013-06-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토카오루 ,  미즈사와야스시 ,  하라마사미치

IPC: C23C16/448 ,  C23C16/16 ,  H01L21/205 ,  C23C16/44 ,  C23C16/511 ,  C23C16/50 ,  C23C16/455

Abstract: 피처리체에성막처리를행하는프로세스챔버로, 원료의전구체를승화시킨기상원료를공급할시, 원료용기내의전구체를효율좋게승화시킨다. 프로세스챔버(2)에연통하는개구(30)를가지는하우징(24) 내에, 전구체(50)를수용하는트레이(41)가상하로복수단적층되고, 각트레이(41)는, 캐리어가스를트레이(41) 내로도입하는입구(홀(45)) 및캐리어가스가전구체(50)의기상원료와함께유출되어개구(30)에연통하는출구(간극(28))를가지고, 또한전구체(50)를트레이(41) 내에보지하는덮개(46)를개폐가능하게구비하고있다.

公开(公告)号：KR1020100063694A

公开(公告)日：2010-06-11

申请号：KR1020107000890

申请日：2008-09-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하라마사미치 ,  고미아츠시 ,  마에카와신지 ,  야마모토카오루 ,  다가사토시

IPC: C23C16/448 ,  H01L21/31

CPC classification number: C23C16/4481 ,  Y10T137/8158 ,  Y10T137/8376

Abstract: Provided is a raw gas supply system (6) for supplying a raw gas to a gas using system (2) set in a pressure-reduced atmosphere. The system comprises a material tank (40) for reserving a liquid material or a solid material, a material passage (46) connected at its one end to the material tank and at its other end to the gas using system, a carrier gas supply mechanism (54) for supplying a carrier gas to the inside of the material tank, ON/OFF valves (48 and 50) disposed midway of the material passage, a heater (64) for heating the material passage and the ON/OFF valves, and a temperature control unit (92) for controlling the heater. The material passage and the ON/OFF valves are formed of a metal material having an excellent heat conductivity.

Abstract translation: 设置有用于将原料气体供给到设置在减压气氛中的气体使用系统（2）的原料气体供给系统（6）。 该系统包括用于储存液体材料或固体材料的材料罐（40），其一端连接到材料罐并且在另一端连接到气体使用系统的材料通道（46），载气供应机构 （54），用于向所述材料罐的内部供给载气，设置在所述材料通道的中途的开/关阀（48和50），用于加热所述材料通道和所述通/断阀的加热器（64），以及 用于控制加热器的温度控制单元（92）。 材料通道和ON / OFF阀由具有优异导热性的金属材料形成。

公开(公告)号：KR101674000B1

公开(公告)日：2016-11-08

申请号：KR1020137027936

申请日：2012-02-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토카오루 ,  하라마사미치 ,  고미아츠시 ,  히라타토시하루 ,  타가사토시

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/18 ,  H01L21/31

CPC classification number: C23C16/4412

Abstract: 기판처리장치는, 유기금속화합물을포함하는원료가스를이용하여기판처리를행하는처리실과유기금속화합물을회수하는회수장치를포함한다. 회수장치는, 처리실로부터배출된가스가통류하는통류부, 통류부로유입된가스에포함되는미반응의유기금속화합물을통류부내에서석출시키도록상기통류부를냉각하는냉각부, 통류부의상류측과하류측을연통하는바이패스로, 통류부의상류측에설치되고, 처리실로부터배출된가스의통류부에의유입을허가또는저지하는제 1 개폐부, 통류부의상류측에설치되고, 처리실로부터배출된가스의바이패스로에의유입을허가또는저지하는바이패스로개폐부, 및통류부의하류측에설치된배출관을포함한다.

Abstract translation: 该基板处理装置包括：处理室，其中使用含有有机金属化合物的原料气体处理基板; 以及还原有机金属化合物的回收装置。 回收装置包括：循环单元，其中从处理室排出的气体循环; 冷却单元，其冷却循环单元，使得已经流入循环单元的气体中包含的未反应的有机金属化合物在循环单元内沉淀; 旁通通道，其在所述循环单元的上游侧和下游侧连通; 第一打开/关闭单元，设置在循环单元的上游，并允许或防止从处理室排出的气体流入循环单元; 旁通通道打开/关闭单元，设置在循环单元的上游，并允许或防止已经从处理室排出的气体流入旁通通道; 以及设置在循环单元的下游的排出管。

公开(公告)号：KR1020140029412A

公开(公告)日：2014-03-10

申请号：KR1020137027936

申请日：2012-02-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토카오루 ,  하라마사미치 ,  고미아츠시 ,  히라타토시하루 ,  타가사토시

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/18 ,  H01L21/31

CPC classification number: C23C16/4412 ,  C23C16/18 ,  C23C16/4408 ,  H01L21/31

Abstract: 기판 처리 장치는, 유기 금속 화합물을 포함하는 원료 가스를 이용하여 기판 처리를 행하는 처리실과 유기 금속 화합물을 회수하는 회수 장치를 포함한다. 회수 장치는, 처리실로부터 배출된 가스가 통류하는 통류부, 통류부로 유입된 가스에 포함되는 미반응의 유기 금속 화합물을 통류부 내에서 석출시키도록 상기 통류부를 냉각하는 냉각부, 통류부의 상류측과 하류측을 연통하는 바이패스로, 통류부의 상류측에 설치되고, 처리실로부터 배출된 가스의 통류부에의 유입을 허가 또는 저지하는 제 1 개폐부, 통류부의 상류측에 설치되고, 처리실로부터 배출된 가스의 바이패스로에의 유입을 허가 또는 저지하는 바이패스로 개폐부, 및 통류부의 하류측에 설치된 배출관을 포함한다.

Abstract translation: 该基板处理装置包括：处理室，其中使用含有有机金属化合物的原料气体处理基板; 以及回收有机金属化合物的回收装置。 回收装置包括：循环单元，其中从处理室排出的气体循环; 冷却单元，其冷却循环单元，使得已经流入循环单元的气体中包含的未反应的有机金属化合物在循环单元内沉淀; 旁通通道，其在所述循环单元的上游侧和下游侧连通; 第一打开/关闭单元，设置在循环单元的上游，并允许或防止从处理室排出的气体流入循环单元; 旁通通道打开/关闭单元，设置在循环单元的上游，并允许或防止已经从处理室排出的气体流入旁通通道; 以及设置在循环单元的下游的排出管。