公开(公告)号：KR1020170028849A

公开(公告)日：2017-03-14

申请号：KR1020160111667

申请日：2016-08-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 토미오카타케토시 ,  사사키야스하루 ,  키시히로키 ,  서지수

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/683 ,  H01L21/02 ,  H05H1/46

CPC classification number: B24B37/32 ,  B24B37/20

Abstract: 포커스링의흡착특성을안정화시키는것을목적으로한다. 처리용기내에서기판을배치하는하부전극의주연부에배치되고, 상기하부전극의부재와접촉하는포커스링으로서, 상기포커스링의접촉면은실리콘함유재료, 알루미나(AlO) 또는석영중 어느하나로형성되고, 상기포커스링의접촉면및 상기하부전극의부재의접촉면중 적어도어느하나는 0.1 μm 이상의표면거칠기인포커스링이제공된다.

Abstract translation: 聚焦环设置在下电极的周边部分上，该下电极在处理容器中接收基板，从而与下电极的部件接触。 聚焦环包括与下电极的构件接触并由含硅材料，氧化铝和石英中的任一种制成的接触表面。 聚焦环的接触表面和下电极的构件的接触表面中的至少一个具有0.1微米或更大的表面粗糙度。