公开(公告)号：KR100870692B1

公开(公告)日：2008-11-27

申请号：KR1020077011755

申请日：2006-01-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하시마히토시

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/34 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67288 ,  H01L21/67109

Abstract: 본 발명에 있어서는 냉각 처리 장치에 웨이퍼의 휨을 측정하는 휨 측정부가 설치된다. 냉각판 표면에는 기체의 분출과 흡인을 선택적으로 행할 수 있는 복수의 분출·흡인구가 형성된다. 냉각판 표면에는 웨이퍼의 중앙부에 대응하는 위치에 제1 분출·흡인구가 형성되고, 웨이퍼 외주부에 대응하는 위치에 제2 분출·흡인구가 형성된다. 장치 제어부는 휨 측정부에 의한 웨이퍼의 휨 측정 결과에 기초하여 제1 분출·흡인구와 제2 분출·흡인구의 분출 또는 흡인을 선택하고, 분출에 의한 가압력 또는 흡인력에 의해 냉각판에서 냉각되는 웨이퍼를 평탄하게 유지한다.

公开(公告)号：KR1020170037841A

公开(公告)日：2017-04-05

申请号：KR1020160123346

申请日：2016-09-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하시마히토시

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 절연성의유로부재에의해형성된처리액공급로를거쳐처리액을기판에공급함에있어서, 처리액의대전량을파악하는것이다. 처리액공급로(2)의처리액및 유로부재에접촉하도록제 1 전극을이루는전극봉(71)을마련하고, 또한이 전극봉(71)에도전판(74), 지지체(75)를개재하여차폐용도전체(76)를마련한다. 또한, 차폐용도전체(76)에근접하도록표면전위측정부(77)를마련하고, 또한표면전위의측정값을표시하는표시부(201)를마련한다. 절연성의처리액공급로(2)에처리액을통류시키면, 마찰에의해정전기가발생하여처리액및 유로부재가대전되는데, 전극봉(71)과유로가밀접하는구조를채용하면, 처리액및 유로부재의각각의대전량의합에대응하는전하량이제 1 전극의표면전위로서표면전위측정부(77)로측정된다. 측정된표면전위는표시부(201)에표시된다.

Abstract translation: 当通过由绝缘流路部件形成的处理液供给路径将处理液供给到基板时，处理液的供给量被掌握。 过程中提供的电极71，在形成第一电极，以便在与所述处理液和流路部件向液体供给（2）接触，并且还经由前板74，支撑75到电极71，屏蔽的目的 提供整个身体76。 此外，以便更接近所述主体（76）屏蔽应用提供表面电位测量单元77，并且还提供一个显示表面电位的测量值的显示部201。 当通流的处理液至处理液供给绝缘（2）的，如果通过摩擦有处理液，并通过静电充电的通道构件，采用一种结构，其中关闭到电极71 gwayu，处理液和通道 作为电荷量的表面电位现在bujaeui，对应于医疗​​每个具有一个表面电位测量单元77测得的总量的总和的第一电极。 测量的表面电位显示在显示单元201上。

公开(公告)号：KR100935281B1

公开(公告)日：2010-01-06

申请号：KR1020040008887

申请日：2004-02-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라마쓰마코토 ,  하시마히토시 ,  사사가와노리히코 ,  히라오다케시

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B05B15/555 ,  B05B15/557

Abstract: 처리액 공급노즐은 도포액을 토출하는 토출구를 갖는 대략 관형상의 주노즐과, 상기 주노즐이 삽입관통 가능한 관통구멍을 갖는 대략 그릇형상의 노즐홀더와, 상기 노즐홀더의 안둘레면과 상기 주노즐의 바깥둘레면과의 사이에 형성되고, 적어도 소정의 세정액이 공급되는 공간부를 구비한다. 상기 노즐홀더 또는 노즐은 상대적으로 상하이동 가능한 구성으로 되어 있고, 상기 주노즐의 토출구가 상기 관통구멍으로부터 돌출한 상태에서 상기 토출구로부터 도포액이 토출되고, 상기 노즐은 상기 노즐홀더에 수용된 상태에서 세정액에 의해서 세정된다.

Abstract translation: 处理液供给喷嘴围绕所述管状的主喷嘴和喷嘴保持件，具有插入可能的大致碗状的颗粒通孔的主喷嘴和喷嘴保持件的内周面，主要具有用于排出涂敷液的排出口 并且在喷嘴与喷嘴的外周面之间形成有空间部分，并且至少供给有预定的清洁液。 喷嘴保持件或喷嘴相对而处于向上和向下移动的结构，所述主喷嘴的排出口，并从排出的涂布液在从贯通孔突出的状态下排出口，收容在所述喷嘴保持件的状态下的管嘴清洗液 由装置进行清洁。

公开(公告)号：KR1020140098756A

公开(公告)日：2014-08-08

申请号：KR1020147014228

申请日：2012-11-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하시마히토시

IPC: H05F3/04 ,  H01L21/02 ,  H01L21/677 ,  H01T23/00

CPC classification number: H01L21/673

Abstract: 기판 처리 장치의 각 부재 또는 부유 파티클을 제전하기 위한 제전용 지그는, 기판 처리 장치의 반송 기구에 의해 반송 가능하며, 또한 각 처리 모듈 내에서 재치 가능한 기판 형상을 가진다. 상기 제전용 지그는, 방전 전극과, 유전 전극과, 이들 방전 전극과 유전 전극의 사이에 개재되는 유전체로 구성된 이온 발생 전극과, 상기 방전 전극 및 상기 유전 전극에 대하여 전압을 인가하는 고압 전원 회로와, 상기 고압 전원 회로에 에너지를 공급하는 배터리를 구비한다.

公开(公告)号：KR1020040079843A

公开(公告)日：2004-09-16

申请号：KR1020040008887

申请日：2004-02-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라마쓰마코토 ,  하시마히토시 ,  사사가와노리히코 ,  히라오다케시

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B05B15/555 ,  B05B15/557

Abstract: PURPOSE: A process liquid supply nozzle is provided to eliminate the process liquid left on the outer circumferential surface of a nozzle by cleaning the entire outer circumferential surface of the nozzle when the process liquid supply nozzle is cleaned. CONSTITUTION: A nozzle is of almost a pipe type having a discharge hole(1a) for discharging the process liquid. A nozzle holder(2) of almost receptacle type has a through hole(2a) through which the nozzle can passes. At least a predetermined cleaning liquid is supplied to a space part formed between the inner circumferential surface of the nozzle holder and the outer circumferential surface of the nozzle. While the discharge hole of the nozzle protrudes from the through hole, the process liquid is discharged from the discharge hole. While the nozzle is received in the nozzle holder, the nozzle holder and the nozzle are so constituted to be capable of moving vertically and relatively so that the nozzle is cleaned by the cleaning liquid.

Abstract translation: 目的：提供一种工艺液体供给喷嘴，用于通过在处理液体供给喷嘴被清洁时清洁喷嘴的整个外周表面来消除留在喷嘴外周表面上的处理液体。 构成：喷嘴几乎是具有用于排出处理液体的排出孔（1a）的管式。 几乎插座型的喷嘴座（2）具有通孔（2a），喷嘴可以穿过该通孔。 至少将预定的清洗液供给到形成在喷嘴保持架的内周面和喷嘴的外周面之间的空间部。 当喷嘴的排出孔从通孔突出时，处理液体从排出孔排出。 当喷嘴被容纳在喷嘴保持器中时，喷嘴保持器和喷嘴被构造成能够垂直和相对移动，使得喷嘴被清洁液体清洁。

公开(公告)号：KR100935280B1

公开(公告)日：2010-01-06

申请号：KR1020090076610

申请日：2009-08-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라마쓰마코토 ,  하시마히토시 ,  사사가와노리히코 ,  히라오다케시

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B05B15/555 ,  B05B15/557

Abstract: 처리액 공급노즐은 도포액을 토출하는 토출구를 갖는 대략 관형상의 주노즐과, 상기 주노즐이 삽입관통 가능한 관통구멍을 갖는 대략 그릇형상의 노즐홀더와, 상기 노즐홀더의 안둘레면과 상기 주노즐의 바깥둘레면과의 사이에 형성되고, 적어도 소정의 세정액이 공급되는 공간부를 구비한다. 상기 노즐홀더 또는 노즐은 상대적으로 상하이동 가능한 구성으로 되어 있고, 상기 주노즐의 토출구가 상기 관통구멍으로부터 돌출한 상태에서 상기 토출구로부터 도포액이 토출되고, 상기 노즐은 상기 노즐홀더에 수용된 상태에서 세정액에 의해서 세정된다.

公开(公告)号：KR1020070084527A

公开(公告)日：2007-08-24

申请号：KR1020077011755

申请日：2006-01-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하시마히토시

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/34 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67288 ,  H01L21/67109

Abstract: A cooling treatment device, comprising a warpage measuring part measuring the warpage of a wafer. A plurality of suction and discharge ports capable of selectively sucking and discharging a gas are formed in the front surface of a cooling plate. The first suction and discharge port is formed in the surface of the cooling plate at a position corresponding to the center part of the wafer, and the second suction and discharge port is formed at a position corresponding to the outer peripheral part of the wafer. Based on the results of measurements of the warpage of the wafer by the warpage measuring part, a device control part selects the suctions or discharges of the first suction and discharge port and the second suction and discharge port, and maintains flat the water cooled by the cooling plate by a pressing force by blowing or a sucking force.

Abstract translation: 一种冷却处理装置，包括测量晶片翘曲的翘曲测量部件。 在冷却板的前表面上形成能够选择性地吸入和排出气体的多个抽吸和排出口。 第一吸入口与冷却板的表面形成在与晶片的中央部相对应的位置，第二吸引排出口形成在与晶片的外周部相对应的位置。 基于由翘曲测量部分对晶片的翘曲的测量结果，设备控制部件选择第一吸入口和第二吸出口的吸入或排出，并且将由 冷却板通过吹动的压力或吸力。

公开(公告)号：KR101753333B1

公开(公告)日：2017-07-03

申请号：KR1020147014228

申请日：2012-11-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하시마히토시

IPC: H05F3/04 ,  H01L21/02 ,  H01L21/677 ,  H01T23/00

CPC classification number: H01L21/673

Abstract: 기판처리장치의각 부재또는부유파티클을제전하기위한제전용지그는, 기판처리장치의반송기구에의해반송가능하며, 또한각 처리모듈내에서재치가능한기판형상을가진다. 상기제전용지그는, 방전전극과, 유전전극과, 이들방전전극과유전전극의사이에개재되는유전체로구성된이온발생전극과, 상기방전전극및 상기유전전극에대하여전압을인가하는고압전원회로와, 상기고압전원회로에에너지를공급하는배터리를구비한다.

Abstract translation: 为了排出基板处理装置的各部件或悬浮粒子而需要除去的部件能够通过基板处理装置的运送机构运送，并且具有能够配置在各处理模块中的基板形状。 一种离子发生电极，具有放电电极，电介质电极，介于放电电极和电介质电极之间的电介质，用于向放电电极和电介质电极施加电压的高压电源电路， 以及用于向高压电源电路供应能量的电池。

公开(公告)号：KR1020090120436A

公开(公告)日：2009-11-24

申请号：KR1020090076610

申请日：2009-08-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라마쓰마코토 ,  하시마히토시 ,  사사가와노리히코 ,  히라오다케시

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B05B15/555 ,  B05B15/557

Abstract: PURPOSE: A processing liquid supply nozzle and a processing liquid supply apparatus are provided to wash all the outside circumferences of a nozzle when washing the processing liquid supply nozzle, thereby cleaning processing liquid left in the outside circumferences. CONSTITUTION: A processing liquid supply nozzle and a processing liquid supply apparatus(120) includes a nozzle, a nozzle holder and a space unit. The nozzle of a pipe(110a) has an outlet which discharges processing liquid. The nozzle holder(2) has a hole unit into or through which the nozzle can be inserted or penetrate. The space unit is formed between an outside circumference of the nozzle and an inside circumference of the nozzle holder. Washing liquid is supplied to the space unit. The nozzle is inserted into/penetrates the center of the hole unit. The outside circumference of the nozzle point-contacts a wall of the hole unit.

Abstract translation: 目的：提供一种处理液供给喷嘴和处理液供给装置，用于在洗涤处理液供给喷嘴时，对喷嘴的所有外周进行清洗，从而清洗残留在外周的处理液。 构成：处理液供给喷嘴和处理液供给装置（120）具有喷嘴，喷嘴保持架和空间部。 管道（110a）的喷嘴具有排出处理液体的出口。 喷嘴保持器（2）具有孔单元，喷嘴可插入或穿过该孔。 空间单元形成在喷嘴的外周和喷嘴保持架的内周之间。 洗涤液体被供应到空间单元。 喷嘴插入/穿过孔单元的中心。 喷嘴点的外圆周与孔单元的壁相接触。