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公开(公告)号：KR1020040079843A
公开(公告)日：2004-09-16
申请号：KR1020040008887
申请日：2004-02-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67051 , B05B15/555 , B05B15/557
Abstract: PURPOSE: A process liquid supply nozzle is provided to eliminate the process liquid left on the outer circumferential surface of a nozzle by cleaning the entire outer circumferential surface of the nozzle when the process liquid supply nozzle is cleaned. CONSTITUTION: A nozzle is of almost a pipe type having a discharge hole(1a) for discharging the process liquid. A nozzle holder(2) of almost receptacle type has a through hole(2a) through which the nozzle can passes. At least a predetermined cleaning liquid is supplied to a space part formed between the inner circumferential surface of the nozzle holder and the outer circumferential surface of the nozzle. While the discharge hole of the nozzle protrudes from the through hole, the process liquid is discharged from the discharge hole. While the nozzle is received in the nozzle holder, the nozzle holder and the nozzle are so constituted to be capable of moving vertically and relatively so that the nozzle is cleaned by the cleaning liquid.
Abstract translation: 目的：提供一种工艺液体供给喷嘴，用于通过在处理液体供给喷嘴被清洁时清洁喷嘴的整个外周表面来消除留在喷嘴外周表面上的处理液体。 构成：喷嘴几乎是具有用于排出处理液体的排出孔（1a）的管式。 几乎插座型的喷嘴座（2）具有通孔（2a），喷嘴可以穿过该通孔。 至少将预定的清洗液供给到形成在喷嘴保持架的内周面和喷嘴的外周面之间的空间部。 当喷嘴的排出孔从通孔突出时，处理液体从排出孔排出。 当喷嘴被容纳在喷嘴保持器中时，喷嘴保持器和喷嘴被构造成能够垂直和相对移动，使得喷嘴被清洁液体清洁。
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公开(公告)号：KR101521302B1
公开(公告)日：2015-05-18
申请号：KR1020090059236
申请日：2009-06-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/687 , H01L21/302
Abstract: 본발명은회전도포장치의세정에이용하는세정용지그로서, 세정용지그를비교적낮은회전속도로회전시키는경우에도, 용기를상측부에서세정하는것이가능한세정용지그및 이세정용지그를이용한세정방법을제공하는것을목적으로한다. 본발명의일 실시형태에따른세정용지그(50)는, 용기내에회전가능하게유지된기판상에처리액을적하하고, 이기판의회전에의해이 기판상에처리액의막을도포하는회전도포장치에서용기를세정하는데 사용할수 있는세정용지그로서, 회전도포장치에서회전되었을때에, 이면에공급되어회전에의해안내되는용제를유지하여용기내로비산시킬수 있도록형성된외주면(500)을구비한다.
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公开(公告)号：KR100935281B1
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：KR1020040008887
申请日：2004-02-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67051 , B05B15/555 , B05B15/557
Abstract: 처리액 공급노즐은 도포액을 토출하는 토출구를 갖는 대략 관형상의 주노즐과, 상기 주노즐이 삽입관통 가능한 관통구멍을 갖는 대략 그릇형상의 노즐홀더와, 상기 노즐홀더의 안둘레면과 상기 주노즐의 바깥둘레면과의 사이에 형성되고, 적어도 소정의 세정액이 공급되는 공간부를 구비한다. 상기 노즐홀더 또는 노즐은 상대적으로 상하이동 가능한 구성으로 되어 있고, 상기 주노즐의 토출구가 상기 관통구멍으로부터 돌출한 상태에서 상기 토출구로부터 도포액이 토출되고, 상기 노즐은 상기 노즐홀더에 수용된 상태에서 세정액에 의해서 세정된다.
Abstract translation: 处理液供给喷嘴围绕所述管状的主喷嘴和喷嘴保持件，具有插入可能的大致碗状的颗粒通孔的主喷嘴和喷嘴保持件的内周面，主要具有用于排出涂敷液的排出口 并且在喷嘴与喷嘴的外周面之间形成有空间部分，并且至少供给有预定的清洁液。 喷嘴保持件或喷嘴相对而处于向上和向下移动的结构，所述主喷嘴的排出口，并从排出的涂布液在从贯通孔突出的状态下排出口，收容在所述喷嘴保持件的状态下的管嘴清洗液 由装置进行清洁。
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公开(公告)号：KR101774368B1
公开(公告)日：2017-09-04
申请号：KR1020110087686
申请日：2011-08-31
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/162 , G03F7/3021 , H01L21/6715 , H01L21/67178
Abstract: 액처리장치에있어서, 기판의처리중에사용하고있지않은처리노즐을메인터넌스할수 있고, 스루풋의향상을도모하고또한공간절약화를도모하는것이다. 수직축중심으로회동가능한회동기체와, 제 1 처리영역및 제 2 처리영역의외측에서대기한상태로상기회동기체에설치되고, 상기제 1 처리영역및 제 2 처리영역에공용되고또한기판으로각각상이한처리액을공급하기위한복수의처리노즐과, 상기회동기체에설치되고또한진퇴가능한노즐보지부를구비하고, 복수의처리노즐로부터선택된처리노즐을상기노즐보지부에의해보지하여제 1 처리영역및 제 2 처리영역으로부터선택된처리영역으로반송하는노즐반송기구를구비하도록액처리장치를구성하고, 대기부에서대기하고있는처리노즐에대하여메인터넌스를행한다.
Abstract translation: 在液体处理装置中，能够维持在处理基板时不使用的处理喷嘴，能够提高处理量，并且能够节省空间。 并且在所述旋转体中，第一手柄区和治疗区域的外部到大气hansangtae第二的垂直轴中心的可能的旋转被设置在所述旋转体，第一个是共用的第一处理区和第二处理区也各自不同的工艺来在衬底 安装在多个处理喷嘴的液体和供给所述旋转气体也向前和向后移动具有可用的喷嘴看出部，从多个处理喷嘴的选择不尝试保持部的喷嘴的处理喷嘴第一处理区和第二 配置，其包括用于输送从所述处理区域中选择的处理区域的喷嘴输送机构，以及相对于可在等待等待喷嘴进行维护过程中的液体处理装置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020160007392A
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：KR1020150096662
申请日：2015-07-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/6715 , B01F3/0853 , B01F3/0861 , B01F5/0057 , B01F5/0071 , B01F7/00908 , B01F7/00916 , B01F15/00883 , B01F15/00889 , B01F2003/0896 , G03F7/3021
Abstract: 본발명은점도가비교적높은약액을배출하기위한약액배출기구에있어서, 그약액의배액로가차지하는높이를작게할 수있는기술을제공하는것을과제로한다. 약액이저류되는저류공간을구비한저류부와, 상기저류공간에, 상기약액의점도를낮추는희석액을공급하기위해개구된희석액공급구와, 상기희석액과상기약액을교반시키기위해상기저류공간에유체를공급하여, 그희석액및 약액에와류를형성하기위한와류형성부와, 교반이끝난상기희석액및 약액을, 상기희석액의공급에의해유입시켜상기저류공간으로부터배출하기위해, 그저류공간에있어서상기희석액공급구의상측으로개구된배액구를구비하도록배액기구를구성한다. 이러한구성에의해, 배액구로부터배출되는폐액의점도를저하시킬수 있고, 그배액구에접속되는배액로의수평면에대한기울기를크게할 필요가없어진다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于排出具有较高粘度的药液的化学液体排出机构，并且提供能够降低药液的液体排出路径所占的高度的技术。 所述化学液体排放机构包括：储存单元，其具有储存有化学液体的储存空间; 打开稀释剂供应口以提供用于降低化学液体的粘度的稀释剂; 涡流形成单元，其将流体供应到存储空间以将稀释剂与化学液体混合，并在稀释剂和化学液体中形成涡流; 以及液体排出口，其朝向储存空间中的稀释液供给口的上侧开放，使得混合稀释剂和药液通过稀释剂的供应被引入并从储存空间排出。 通过这样的结构，能够降低从排出口排出的废液的粘度，并且不必增加液体排出路径相对于与液体排出口连接的水平面的倾斜度 港口。
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公开(公告)号：KR100935280B1
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：KR1020090076610
申请日：2009-08-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67051 , B05B15/555 , B05B15/557
Abstract: 처리액 공급노즐은 도포액을 토출하는 토출구를 갖는 대략 관형상의 주노즐과, 상기 주노즐이 삽입관통 가능한 관통구멍을 갖는 대략 그릇형상의 노즐홀더와, 상기 노즐홀더의 안둘레면과 상기 주노즐의 바깥둘레면과의 사이에 형성되고, 적어도 소정의 세정액이 공급되는 공간부를 구비한다. 상기 노즐홀더 또는 노즐은 상대적으로 상하이동 가능한 구성으로 되어 있고, 상기 주노즐의 토출구가 상기 관통구멍으로부터 돌출한 상태에서 상기 토출구로부터 도포액이 토출되고, 상기 노즐은 상기 노즐홀더에 수용된 상태에서 세정액에 의해서 세정된다.
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公开(公告)号：KR1020120025413A
公开(公告)日：2012-03-15
申请号：KR1020110087686
申请日：2011-08-31
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/162 , G03F7/3021 , H01L21/6715 , H01L21/67178 , H01L21/0274 , G03F7/2041
Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus, a liquid processing method, and a storage medium are provided to control the degradation of throughput by maintaining a processing nozzle queuing in a standby unit. CONSTITUTION: Different processing liquid is provided from a processing nozzle to a substrate. A nozzle holding part(81) installed at a circulation body(31) is included. The processing nozzle is held by the nozzle holding part. The nozzle holding part is carried to a processing area with a nozzle carrying apparatus. The circulation body is circulated with a rotary driving part.
Abstract translation: 目的：提供液体处理装置，液体处理方法和存储介质，以通过维持在待机单元中排队的处理喷嘴来控制吞吐量的劣化。 构成：从处理喷嘴到基板提供不同的处理液体。 包括安装在循环体（31）上的喷嘴保持部（81）。 加工喷嘴由喷嘴保持部保持。 喷嘴保持部通过喷嘴传送装置搬送到处理区域。 循环体与旋转驱动部一起循环。
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公开(公告)号：KR1020100005668A
公开(公告)日：2010-01-15
申请号：KR1020090059236
申请日：2009-06-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/687 , H01L21/302
CPC classification number: G03F7/162 , H01L21/6704 , H01L21/687
Abstract: PURPOSE: A cleaning jig and a cleaning solution for a spin coater are provided to clean the case of the spin coater from above even while rotating the cleaning jig at relatively low speed. CONSTITUTION: A cleaning jig(50) is used for cleaning a case of a spin coater, the spin coater which drops treating liquid onto a substrate rotating in the case and coats a film of treating liquid on the substrate by rotating the substrate. The cleaning jig has a rim(500) to retain solvent which is supplied and spread by rotation. The rim includes an outer wall surface of a protrusion formed along the perimeter of the cleaning jig.
Abstract translation: 目的：提供用于旋转涂布机的清洁夹具和清洁溶液，即使在以相对低的速度旋转清洁夹具的情况下也可以从上方清洁旋涂机的外壳。 构成：清洗夹具（50）用于清洗旋转涂布机的情况，该旋涂机将处理液体滴落到在壳体上旋转的基板上，并通过旋转基板涂覆在基板上的处理液体膜。 清洁夹具具有边缘（500），以保持通过旋转而供应和扩散的溶剂。 边缘包括沿着清洁夹具的周边形成的突起的外壁表面。
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公开(公告)号：KR1020090120436A
公开(公告)日：2009-11-24
申请号：KR1020090076610
申请日：2009-08-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67051 , B05B15/555 , B05B15/557
Abstract: PURPOSE: A processing liquid supply nozzle and a processing liquid supply apparatus are provided to wash all the outside circumferences of a nozzle when washing the processing liquid supply nozzle, thereby cleaning processing liquid left in the outside circumferences. CONSTITUTION: A processing liquid supply nozzle and a processing liquid supply apparatus(120) includes a nozzle, a nozzle holder and a space unit. The nozzle of a pipe(110a) has an outlet which discharges processing liquid. The nozzle holder(2) has a hole unit into or through which the nozzle can be inserted or penetrate. The space unit is formed between an outside circumference of the nozzle and an inside circumference of the nozzle holder. Washing liquid is supplied to the space unit. The nozzle is inserted into/penetrates the center of the hole unit. The outside circumference of the nozzle point-contacts a wall of the hole unit.
Abstract translation: 目的：提供一种处理液供给喷嘴和处理液供给装置，用于在洗涤处理液供给喷嘴时，对喷嘴的所有外周进行清洗，从而清洗残留在外周的处理液。 构成：处理液供给喷嘴和处理液供给装置（120）具有喷嘴，喷嘴保持架和空间部。 管道（110a）的喷嘴具有排出处理液体的出口。 喷嘴保持器（2）具有孔单元，喷嘴可插入或穿过该孔。 空间单元形成在喷嘴的外周和喷嘴保持架的内周之间。 洗涤液体被供应到空间单元。 喷嘴插入/穿过孔单元的中心。 喷嘴点的外圆周与孔单元的壁相接触。
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