도포막형성방법, 도포유니트, 에이징유니트, 용매치환유니트,및 도포막형성장치
    1.
    发明授权
    도포막형성방법, 도포유니트, 에이징유니트, 용매치환유니트,및 도포막형성장치 失效
    涂膜形成方法,涂布单元,老化单元,溶剂替换单元和涂膜形成设备

    公开(公告)号:KR100524205B1

    公开(公告)日:2006-04-17

    申请号:KR1019980054990

    申请日:1998-12-15

    Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
    도포막형성방법, 도포유니트, 에이징유니트, 용매치환유니트, 및 도포막형성장치
    2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
    밀폐용기내로의 가스도입 개시시의 농도 및 온도의 변동을 억제하는 것, 밀폐용기내에 기판 예컨대 웨이퍼를 반입한 직후에 있어서의 용매성분의 가스의 결로를 막는 것 및 그에 따라 양질인 얇은 막 예컨대 층간절연막을 얻을 수 있는 도포막형성방법, 에이징유니트, 도포막형성장치를 제공함.
    3. 발명의 해결방법의 요지
    웨이퍼(W) 반입전에 혼합가스를 생성하여 배기하여 두고, 챔버(3)내로의 가스도입 개시시의 용매성분의 농도 및 온도의 변동을 억제한다. 에이징유니트내에 웨이퍼(W)를 반입하고 나서 겔화시키는 공정을 몇 개의 단계로 나눈다. 웨이퍼(W) 온도가 소정의 처리온도에 달할 때까지 혼합가스중의 용매성분의 평균농도를 웨이퍼(W) 온도에 대하여 서서히 높게 하여 간다. 그에 따라 밀폐용기내에 웨이퍼(W)를 반입한 직후에 있어서의 용매성분의 가스의 결로를 방지한다.
    4. 발명의 중요한 용도
    반도체디바이스의 층간절연막을 형성하는 방법에 사용됨.

    처리액 공급노즐 및 처리액 공급장치
    2.
    发明授权
    처리액 공급노즐 및 처리액 공급장치 失效
    过程液体供应喷嘴和过程液体供应装置

    公开(公告)号:KR100935280B1

    公开(公告)日:2010-01-06

    申请号:KR1020090076610

    申请日:2009-08-19

    CPC classification number: H01L21/67051 B05B15/555 B05B15/557

    Abstract: 처리액 공급노즐은 도포액을 토출하는 토출구를 갖는 대략 관형상의 주노즐과, 상기 주노즐이 삽입관통 가능한 관통구멍을 갖는 대략 그릇형상의 노즐홀더와, 상기 노즐홀더의 안둘레면과 상기 주노즐의 바깥둘레면과의 사이에 형성되고, 적어도 소정의 세정액이 공급되는 공간부를 구비한다. 상기 노즐홀더 또는 노즐은 상대적으로 상하이동 가능한 구성으로 되어 있고, 상기 주노즐의 토출구가 상기 관통구멍으로부터 돌출한 상태에서 상기 토출구로부터 도포액이 토출되고, 상기 노즐은 상기 노즐홀더에 수용된 상태에서 세정액에 의해서 세정된다.

    처리액 공급노즐 및 처리액 공급장치
    3.
    发明授权
    처리액 공급노즐 및 처리액 공급장치 失效
    处理液供给喷嘴和处理液供给装置

    公开(公告)号:KR100935281B1

    公开(公告)日:2010-01-06

    申请号:KR1020040008887

    申请日:2004-02-11

    CPC classification number: H01L21/67051 B05B15/555 B05B15/557

    Abstract: 처리액 공급노즐은 도포액을 토출하는 토출구를 갖는 대략 관형상의 주노즐과, 상기 주노즐이 삽입관통 가능한 관통구멍을 갖는 대략 그릇형상의 노즐홀더와, 상기 노즐홀더의 안둘레면과 상기 주노즐의 바깥둘레면과의 사이에 형성되고, 적어도 소정의 세정액이 공급되는 공간부를 구비한다. 상기 노즐홀더 또는 노즐은 상대적으로 상하이동 가능한 구성으로 되어 있고, 상기 주노즐의 토출구가 상기 관통구멍으로부터 돌출한 상태에서 상기 토출구로부터 도포액이 토출되고, 상기 노즐은 상기 노즐홀더에 수용된 상태에서 세정액에 의해서 세정된다.

    Abstract translation: 处理液供给喷嘴围绕所述管状的主喷嘴和喷嘴保持件,具有插入可能的大致碗状的颗粒通孔的主喷嘴和喷嘴保持件的内周面,主要具有用于排出涂敷液的排出口 并且在喷嘴与喷嘴的外周面之间形成有空间部分,并且至少供给有预定的清洁液。 喷嘴保持件或喷嘴相对而处于向上和向下移动的结构,所述主喷嘴的排出口,并从排出的涂布液在从贯通孔突出的状态下排出口,收容在所述喷嘴保持件的状态下的管嘴清洗液 由装置进行清洁。

    에이징유니트 및 처리방법
    4.
    发明公开
    에이징유니트 및 처리방법 失效
    老化单位和处理方法

    公开(公告)号:KR1020050055686A

    公开(公告)日:2005-06-13

    申请号:KR1020050046175

    申请日:2005-05-31

    Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
    도포막형성방법, 도포유니트, 에이징유니트, 용매치환유니트, 및 도포막형성장치
    2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
    밀폐용기내로의 가스도입 개시시의 농도 및 온도의 변동을 억제하는 것, 밀폐용기내에 기판 예컨대 웨이퍼를 반입한 직후에 있어서의 용매성분의 가스의 결로를 막는 것 및 그에 따라 양질인 얇은 막 예컨대 층간절연막을 얻을 수 있는 도포막형성방법, 에이징유니트, 도포막형성장치를 제공함.
    3. 발명의 해결방법의 요지
    웨이퍼(W) 반입전에 혼합가스를 생성하여 배기하여 두고, 챔버(3)내로의 가스도입 개시시의 용매성분의 농도 및 온도의 변동을 억제한다. 에이징유니트내에 웨이퍼(W)를 반입하고 나서 겔화시키는 공정을 몇 개의 단계로 나눈다. 웨이퍼(W) 온도가 소정의 처리온도에 달할 때까지 혼합가스중의 용매성분의 평균농도를 웨이퍼(W) 온도에 대하여 서서히 높게 하여 간다. 그에 따라 밀폐용기내에 웨이퍼(W)를 반입한 직후에 있어서의 용매성분의 가스의 결로를 방지한다.
    4. 발명의 중요한 용도
    반도체디바이스의 층간절연막을 형성하는 방법에 사용됨.

    에이징유니트 및 처리방법
    5.
    发明授权
    에이징유니트 및 처리방법 失效
    老化单元和处理方法

    公开(公告)号:KR100503391B1

    公开(公告)日:2005-07-22

    申请号:KR1020050046175

    申请日:2005-05-31

    Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
    도포막형성방법, 도포유니트, 에이징유니트, 용매치환유니트, 및 도포막형성장치
    2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
    밀폐용기내로의 가스도입 개시시의 농도 및 온도의 변동을 억제하는 것, 밀폐용기내에 기판 예컨대 웨이퍼를 반입한 직후에 있어서의 용매성분의 가스의 결로를 막는 것 및 그에 따라 양질인 얇은 막 예컨대 층간절연막을 얻을 수 있는 도포막형성방법, 에이징유니트, 도포막형성장치를 제공함.
    3. 발명의 해결방법의 요지
    웨이퍼(W) 반입전에 혼합가스를 생성하여 배기하여 두고, 챔버(3)내로의 가스도입 개시시의 용매성분의 농도 및 온도의 변동을 억제한다. 에이징유니트내에 웨이퍼(W)를 반입하고 나서 겔화시키는 공정을 몇 개의 단계로 나눈다. 웨이퍼(W) 온도가 소정의 처리온도에 달할 때까지 혼합가스중의 용매성분의 평균농도를 웨이퍼(W) 온도에 대하여 서서히 높게 하여 간다. 그에 따라 밀폐용기내에 웨이퍼(W)를 반입한 직후에 있어서의 용매성분의 가스의 결로를 방지한다.
    4. 발명의 중요한 용도
    반도체디바이스의 층간절연막을 형성하는 방법에 사용됨.

    처리액 공급노즐 및 처리액 공급장치
    6.
    发明公开
    처리액 공급노즐 및 처리액 공급장치 失效
    过程液体喷嘴,过程液体供应装置和喷嘴清洗方法,用于消除喷嘴外部圆周表面上的工艺液体

    公开(公告)号:KR1020040079843A

    公开(公告)日:2004-09-16

    申请号:KR1020040008887

    申请日:2004-02-11

    CPC classification number: H01L21/67051 B05B15/555 B05B15/557

    Abstract: PURPOSE: A process liquid supply nozzle is provided to eliminate the process liquid left on the outer circumferential surface of a nozzle by cleaning the entire outer circumferential surface of the nozzle when the process liquid supply nozzle is cleaned. CONSTITUTION: A nozzle is of almost a pipe type having a discharge hole(1a) for discharging the process liquid. A nozzle holder(2) of almost receptacle type has a through hole(2a) through which the nozzle can passes. At least a predetermined cleaning liquid is supplied to a space part formed between the inner circumferential surface of the nozzle holder and the outer circumferential surface of the nozzle. While the discharge hole of the nozzle protrudes from the through hole, the process liquid is discharged from the discharge hole. While the nozzle is received in the nozzle holder, the nozzle holder and the nozzle are so constituted to be capable of moving vertically and relatively so that the nozzle is cleaned by the cleaning liquid.

    Abstract translation: 目的:提供一种工艺液体供给喷嘴,用于通过在处理液体供给喷嘴被清洁时清洁喷嘴的整个外周表面来消除留在喷嘴外周表面上的处理液体。 构成:喷嘴几乎是具有用于排出处理液体的排出孔(1a)的管式。 几乎插座型的喷嘴座(2)具有通孔(2a),喷嘴可以穿过该通孔。 至少将预定的清洗液供给到形成在喷嘴保持架的内周面和喷嘴的外周面之间的空间部。 当喷嘴的排出孔从通孔突出时,处理液体从排出孔排出。 当喷嘴被容纳在喷嘴保持器中时,喷嘴保持器和喷嘴被构造成能够垂直和相对移动,使得喷嘴被清洁液体清洁。

    처리액 공급노즐 및 처리액 공급장치
    7.
    发明公开
    처리액 공급노즐 및 처리액 공급장치 失效
    过程液体供应喷嘴和过程液体供应装置

    公开(公告)号:KR1020090120436A

    公开(公告)日:2009-11-24

    申请号:KR1020090076610

    申请日:2009-08-19

    CPC classification number: H01L21/67051 B05B15/555 B05B15/557

    Abstract: PURPOSE: A processing liquid supply nozzle and a processing liquid supply apparatus are provided to wash all the outside circumferences of a nozzle when washing the processing liquid supply nozzle, thereby cleaning processing liquid left in the outside circumferences. CONSTITUTION: A processing liquid supply nozzle and a processing liquid supply apparatus(120) includes a nozzle, a nozzle holder and a space unit. The nozzle of a pipe(110a) has an outlet which discharges processing liquid. The nozzle holder(2) has a hole unit into or through which the nozzle can be inserted or penetrate. The space unit is formed between an outside circumference of the nozzle and an inside circumference of the nozzle holder. Washing liquid is supplied to the space unit. The nozzle is inserted into/penetrates the center of the hole unit. The outside circumference of the nozzle point-contacts a wall of the hole unit.

    Abstract translation: 目的:提供一种处理液供给喷嘴和处理液供给装置,用于在洗涤处理液供给喷嘴时,对喷嘴的所有外周进行清洗,从而清洗残留在外周的处理液。 构成:处理液供给喷嘴和处理液供给装置(120)具有喷嘴,喷嘴保持架和空间部。 管道(110a)的喷嘴具有排出处理液体的出口。 喷嘴保持器(2)具有孔单元,喷嘴可插入或穿过该孔。 空间单元形成在喷嘴的外周和喷嘴保持架的内周之间。 洗涤液体被供应到空间单元。 喷嘴插入/穿过孔单元的中心。 喷嘴点的外圆周与孔单元的壁相接触。

    도포막형성방법, 도포유니트, 에이징유니트, 용매치환유니트,및 도포막형성장치

    公开(公告)号:KR1019990063060A

    公开(公告)日:1999-07-26

    申请号:KR1019980054990

    申请日:1998-12-15

    Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
    도포막형성방법, 도포유니트, 에이징유니트, 용매치환유니트, 및 도포막형성장치
    2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
    밀폐용기내로의 가스도입 개시시의 농도 및 온도의 변동을 억제하는 것, 밀폐용기내에 기판 예컨대 웨이퍼를 반입한 직후에 있어서의 용매성분의 가스의 결로를 막는 것 및 그에 따라 양질인 얇은 막 예컨대 층간절연막을 얻을 수 있는 도포막형성방법, 에이징유니트, 도포막형성장치를 제공함.
    3. 발명의 해결방법의 요지
    웨이퍼(W) 반입전에 혼합가스를 생성하여 배기하여 두고, 챔버(3)내로의 가스도입 개시시의 용매성분의 농도 및 온도의 변동을 억제한다. 에이징유니트내에 웨이퍼(W)를 반입하고 나서 겔화시키는 공정을 몇 개의 단계로 나눈다. 웨이퍼(W) 온도가 소정의 처리온도에 달할 때까지 혼합가스중의 용매성분의 평균농도를 웨이퍼(W) 온도에 대하여 서서히 높게 하여 간다. 그에 따라 밀폐용기내에 웨이퍼(W)를 반입한 직후에 있어서의 용매성분의 가스의 결로를 방지한다.
    4. 발명의 중요한 용도
    반도체디바이스의 층간절연막을 형성하는 방법에 사용됨.

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