公开(公告)号：KR100929526B1

公开(公告)日：2009-12-03

申请号：KR1020030017229

申请日：2003-03-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타케쿠마타카시 ,  후루쇼토시노부 ,  오오토타케시 ,  미야모토히로유키 ,  요시하라코우스케 ,  호리신야 ,  하라히로유키

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67253 ,  H01L21/6715

Abstract: A process liquid supply mechanism for supplying a process liquid comprises a process liquid supply source for supplying a process liquid, a process liquid discharging nozzle for discharging the process liquid, a pipe connecting the process liquid supply source to the process liquid discharging nozzle, a pump mounted to the pipe for allowing the process liquid to be discharged from the process liquid discharging nozzle, a pressure sensor for detecting the pressure of the process liquid at a prescribed position intermediate between the pump and the process liquid discharging nozzle, and a controller for controlling the inner pressure of the pump based on the pressure value detected by the pressure sensor and the relationship obtained in advance between the pressure and the discharging rate of the process liquid such that the process liquid is discharged at a prescribed discharging rate.

Abstract translation: 用于供应处理液的处理液供应机构包括用于供应处理液的处理液供应源，用于排出处理液的处理液排出喷嘴，用于将处理液供应源连接到处理液排出喷嘴的管，泵 为了使处理液从处理液排出喷嘴排出而安装在配管上的压力传感器，检测泵和处理液排出喷嘴的中间的规定位置的处理液的压力的压力传感器， 基于由压力传感器检测到的压力值和预先获得的在处理液体的压力和排出速率之间的关系，泵的内部压力使得处理液体以预定的排出速率排出。

公开(公告)号：KR1020030076387A

公开(公告)日：2003-09-26

申请号：KR1020030017229

申请日：2003-03-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타케쿠마타카시 ,  후루쇼토시노부 ,  오오토타케시 ,  미야모토히로유키 ,  요시하라코우스케 ,  호리신야 ,  하라히로유키

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67253 ,  H01L21/6715

Abstract: 본 발명은, 처리액 공급기구 및 처리액 공급방법에 관한 것으로, 처리액을 공급하기 위한 처리액 공급기구는, 처리액을 공급하는 처리액 공급원과, 처리액을 토출하기 위한 처리액 토출노즐과, 처리액 공급원과 처리액 토출노즐을 연결하는 배관과, 이 배관에 설치되고, 상기 처리액 토출노즐에서 처리액을 토출하기 위한 펌프와, 상기 펌프에서 상기 처리액 토출노즐에 이르기까지 사이의 소정위치에서 처리액의 압력을 검출하는 압력센서와, 이 압력센서에 의한 검출치와, 미리 구해져 있는 처리액의 압력 및 처리액의 토출률의 관계에 기초하여, 처리액의 토출률이 소정 수치가 되도록, 펌프의 내압을 제어하는 콘트롤러를 구비하는 것을 특징으로 한다.