公开(公告)号：KR100929526B1

公开(公告)日：2009-12-03

申请号：KR1020030017229

申请日：2003-03-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타케쿠마타카시 ,  후루쇼토시노부 ,  오오토타케시 ,  미야모토히로유키 ,  요시하라코우스케 ,  호리신야 ,  하라히로유키

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67253 ,  H01L21/6715

Abstract: A process liquid supply mechanism for supplying a process liquid comprises a process liquid supply source for supplying a process liquid, a process liquid discharging nozzle for discharging the process liquid, a pipe connecting the process liquid supply source to the process liquid discharging nozzle, a pump mounted to the pipe for allowing the process liquid to be discharged from the process liquid discharging nozzle, a pressure sensor for detecting the pressure of the process liquid at a prescribed position intermediate between the pump and the process liquid discharging nozzle, and a controller for controlling the inner pressure of the pump based on the pressure value detected by the pressure sensor and the relationship obtained in advance between the pressure and the discharging rate of the process liquid such that the process liquid is discharged at a prescribed discharging rate.

Abstract translation: 用于供应处理液的处理液供应机构包括用于供应处理液的处理液供应源，用于排出处理液的处理液排出喷嘴，用于将处理液供应源连接到处理液排出喷嘴的管，泵 为了使处理液从处理液排出喷嘴排出而安装在配管上的压力传感器，检测泵和处理液排出喷嘴的中间的规定位置的处理液的压力的压力传感器， 基于由压力传感器检测到的压力值和预先获得的在处理液体的压力和排出速率之间的关系，泵的内部压力使得处理液体以预定的排出速率排出。

公开(公告)号：KR100750891B1

公开(公告)日：2007-08-22

申请号：KR1020010016519

申请日：2001-03-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 키타노타카히로 ,  마츠야마유지 ,  키타노준이치 ,  하라히로유키

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715

Abstract: 노즐로부터 레지스트액과 시너의 혼합액을 웨이퍼상에 공급하는 도포장치에 있어서, 노즐은 혼합액 공급관에 접속되고, 혼합액 공급관에는 레지스트액 공급관, 시너 공급관으로부터 각각 레지스트액 및 시너가 합류관을 통과하여 공급되고 있다. 합류관의 굵기는 다른 공급관의 굵기보다 가늘게 설정되어 있기 때문에 합류관에서 레지스트액과 시너를 효율적으로 혼합할 수 있으므로, 웨이퍼상의 웨이퍼면 내에 균일한 막두께로 혼합액이 도포된다.

公开(公告)号：KR1020010095105A

公开(公告)日：2001-11-03

申请号：KR1020010016519

申请日：2001-03-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 키타노타카히로 ,  마츠야마유지 ,  키타노준이치 ,  하라히로유키

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715

Abstract: PURPOSE: An apparatus for coating a layer is provided to sufficiently mix treatment liquid and a solvent supplied to a substrate, by installing the inner diameter of an interflow pipe smaller than that of another supply pipe so that the treatment liquid and the solvent are effectively mixed in the interflow pipe. CONSTITUTION: A supporting member supports a substrate. A nozzle supplies mixed liquid of the treatment liquid and the solver to the surface of the substrate. The first pipe supplied the mixed liquid to the nozzle, having the first diameter. The second pipe supplies the treatment liquid to the first pipe, having the second diameter. The third pipe supplies the solvent to the first pipe, having the third diameter. The fourth pipe supplied mixed liquid of the treatment liquid and the solvent to the first pipe, having the fourth diameter smaller than the first, second or third diameter and coupled to the first, second and third pipes.

Abstract translation: 目的：提供一种涂层的设备，通过将流水管的内径设置为小于另一供给管的内径，使处理液和溶剂有效地混合，充分地混合处理液和供给到基板的溶剂 在交流管中。 构成：支撑构件支撑基底。 喷嘴将处理液和求解器的混合液体供给到基板的表面。 第一管将混合液体提供给具有第一直径的喷嘴。 第二管将处理液供给具有第二直径的第一管。 第三管将溶剂供给具有第三直径的第一管。 第四管将处理液和溶剂的混合液供给到第一管，其第四直径小于第一，第二或第三直径，并且连接到第一管，第二管和第三管。

公开(公告)号：KR1020030076387A

公开(公告)日：2003-09-26

申请号：KR1020030017229

申请日：2003-03-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타케쿠마타카시 ,  후루쇼토시노부 ,  오오토타케시 ,  미야모토히로유키 ,  요시하라코우스케 ,  호리신야 ,  하라히로유키

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67253 ,  H01L21/6715

Abstract: 본 발명은, 처리액 공급기구 및 처리액 공급방법에 관한 것으로, 처리액을 공급하기 위한 처리액 공급기구는, 처리액을 공급하는 처리액 공급원과, 처리액을 토출하기 위한 처리액 토출노즐과, 처리액 공급원과 처리액 토출노즐을 연결하는 배관과, 이 배관에 설치되고, 상기 처리액 토출노즐에서 처리액을 토출하기 위한 펌프와, 상기 펌프에서 상기 처리액 토출노즐에 이르기까지 사이의 소정위치에서 처리액의 압력을 검출하는 압력센서와, 이 압력센서에 의한 검출치와, 미리 구해져 있는 처리액의 압력 및 처리액의 토출률의 관계에 기초하여, 처리액의 토출률이 소정 수치가 되도록, 펌프의 내압을 제어하는 콘트롤러를 구비하는 것을 특징으로 한다.