도포, 현상 장치 및 도포, 현상 장치의 운전 방법 및 기억 매체
    1.
    发明公开
    도포, 현상 장치 및 도포, 현상 장치의 운전 방법 및 기억 매체 有权
    涂料开发设备,涂料开发设备和储存介质的操作方法

    公开(公告)号:KR1020080104986A

    公开(公告)日:2008-12-03

    申请号:KR1020080049388

    申请日:2008-05-28

    CPC classification number: H01L21/67225 H01L21/67276 G03F7/16 G03F7/30

    Abstract: A coating and developing device and an operation method of the coating and developing device and a storage media are provided to collect the substrate on which the protective film is not coated appropriately without giving the bad effect on the process efficiency of the substrate. A coating and developing device comprises the coating module(COT), the developer module(DEV), the heat module, the module group, and the substrate transfer. The coating module sprays the resist onto the surface of substrate. The developer module forms the liquid layer on the surface of substrate in the exposure part, and supplies the developer to the substrate which completes the exposure dipping and develops the substrate. The heat module heats the substrate. The module group comprises the cooling module for freezing the substrate. The module group has the sequence number for transferring. The substrate transfer performs the substrate transfer between the modules of the module group.

    Abstract translation: 提供了一种涂覆和显影装置以及涂覆和显影装置和存储介质的操作方法以收集其上未适当涂覆保护膜的基板,而不会对基板的处理效率产生不良影响。 涂覆和显影装置包括涂层模块(COT),显影剂模块(DEV),加热模块,模块组和基底转移。 涂层模块将抗蚀剂喷涂到基材的表面上。 显影剂模块在曝光部分的基板的表面上形成液体层,并将显影剂供给到完成曝光浸渍的基板,并显影基板。 加热模块加热基板。 模块组包括用于冷冻基板的冷却模块。 模块组具有用于传输的序列号。 衬底转移在模块组的模块之间执行衬底传送。

    도포, 현상 장치 및 도포, 현상 장치의 운전 방법 및 기억 매체
    2.
    发明授权
    도포, 현상 장치 및 도포, 현상 장치의 운전 방법 및 기억 매체 有权
    涂料开发设备,涂料开发设备和储存介质的操作方法

    公开(公告)号:KR101223843B1

    公开(公告)日:2013-01-17

    申请号:KR1020080049388

    申请日:2008-05-28

    CPC classification number: H01L21/67225 H01L21/67276

    Abstract: 액침 노광에 적용되는 도포, 현상 장치에 있어서, 적정하게 보호막이 도포되어 있지 않은 기판에 대해 정상적인 기판의 처리 효율에 악영향을 미치는 일 없이 회수할 수 있고, 또한 보호막의 제거 작업의 간편화를 도모할 수 있는 기술을 제공하는 것이다.
    본 발명의 도포, 현상 장치에서는, 액침 노광에 대한 보호막의 도포가 적정하게 행해지지 않은 이상 기판에 대해서는, 노광부로 반입시키지 않고 대기 모듈에서 대기시키고, 순번이 하나 앞인 기판이 노광부로부터 반출되어 지정 모듈, 예를 들어 현상 전의 가열 모듈로 반입된 후, 상기 이상 기판을 상기 지정 모듈로 반입하도록 하여, 이른바 스케줄 반송에는 영향을 미치지 않도록 하는 동시에, 이상 기판에 대해서도 보호막 제거 유닛에 있어서의 처리를 실행하도록 제어한다.
    가열 모듈, 보호막, 기판, 현상 장치, 웨이퍼

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