公开(公告)号：KR1020090075687A

公开(公告)日：2009-07-08

申请号：KR1020097007376

申请日：2007-09-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시다야스시 ,  하라요시따까 ,  가네꼬도모히로

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01L21/67745 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67276 ,  G03F7/16 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70775 ,  H01L21/673 ,  H01L21/67703

Abstract: A time that when a substrate wastefully stays at an inspection module is reduced, and the throughput of the coating/developing apparatus is improved. A coating/developing apparatus is provided with a plurality of inspection modules having different times required for inspecting substrates, which have been processed at a process station, at an inspection station for receiving the substrate and transferring them to a carrier station; a buffer unit for having the substrate temporarily stay; and a substrate transfer means of which operation is controlled by a control section. While the inspection module processes the substrate, a subsequent substrate to be inspected by the inspection module is transferred to the buffer unit by the substrate transfer means to stay at the buffer unit. Thus, the stay of the substrate at the inspection module is suppressed and the throughput can be improved.

Abstract translation: 当基板浪费地停留在检查模块时的时间减少，并且提高了涂布/显影装置的生产量。 涂布显影装置具有多个检查模块，该检查模块具有在检测站处理的基板的检查所需时间不同的时间，用于接收基板并将其传送到承载站; 用于使衬底暂时停留的缓冲单元; 以及由控制部控制操作的基板转印单元。 当检查模块处理衬底时，由检查模块检查的随后的衬底被衬底转移装置转移到缓冲单元以停留在缓冲单元上。 因此，能够抑制基板在检查模块的滞留，能够提高生产率。

公开(公告)号：KR101436177B1

公开(公告)日：2014-09-01

申请号：KR1020090045707

申请日：2009-05-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네꼬도모히로 ,  마쯔모또다께시

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/02 ,  H01L21/66 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67288 ,  G05B2219/37224 ,  H01L21/67276

Abstract: 본 발명의 과제는, 검사 모듈의 트러블이 해소된 후에, 빠르게 제품용 기판을 당해 검사 모듈로 반송하여 검사를 행하는 것이다.
상기 제품용 기판이 반송 경로에 있어서의 상기 검사 모듈보다도 n개 전의 기준 모듈을 통과할 때에, 상기 검사 모듈에 대해 당해 제품용 기판이 속하는 로트에 대해 검사를 행하기 위한 검사 예약 신호를 출력한다. 상기 검사 모듈에 트러블이 발생하고 있는 동안에 있어서는, 상기 제품용 기판에 대한 검사 예약 신호의 출력을 금지하여, 당해 검사 모듈로 반송될 예정의 제품용 기판을 당해 검사 모듈의 다음 반송 순서의 모듈에 반송한다. 당해 검사 모듈의 트러블이 해소되고, 확인 검사용 기판을 우선적으로 검사 모듈에 반송할 때에는, 상기 확인 검사용 기판에 대한 검사 예약 신호를 출력하여 상기 검사 모듈로 반송하고, 당해 검사 모듈의 확인 검사를 행한다.
도포ㆍ현상 장치, 캐리어 블록, 적재부, 개폐부, 전달 아암

公开(公告)号：KR101257536B1

公开(公告)日：2013-04-23

申请号：KR1020080077205

申请日：2008-08-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야따아끼라 ,  가네꼬도모히로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67276

Abstract: 본 발명은 노광 후의 기판을 가열하는 가열 모듈이 가열 처리를 위해 준비가 갖추어지는 시점에 맞추어, 대기 모듈로부터 효율적으로 노광 전의 기판을 불출하고, 대기 모듈에서 불필요하게 기판이 대기하는 것을 억제하는 것이다.
체재 시간의 계산의 대상으로 되어 있는 기판보다도 앞의 기판군에 대해, 노광 장치 내에 반입출의 각 시점으로부터 계산된 노광 장치 내의 체재 시간 t3을 기초로 하여, t1 : 대기 시간 계산의 대상으로 되는 기판(B1)이 대기 모듈로부터 반출할 수 있는 상태가 된 시점으로부터, 당해 기판(B1)에 사용되는 가열 모듈이 당해 기판(B1)의 가열 처리를 위해 준비가 갖추어지는 시점까지의 시간과, t2 : 상기 타이밍의 계산의 대상으로 되는 기판(B1)이 대기 모듈로부터 반출된 시점으로부터 당해 기판(B1)에 사용되는 가열 모듈에 도달하기까지의 시점까지의 시간을 계산하고, t1 - t2에 의해 그 대기 모듈에서의 대기 시간의 계산을 행한다.
버퍼 모듈, 웨이퍼, 캐리어, 처리 블록, 노광 후 가열 처리 유닛

公开(公告)号：KR101223843B1

公开(公告)日：2013-01-17

申请号：KR1020080049388

申请日：2008-05-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 신도모노리 ,  오까무라고오지 ,  가네꼬도모히로 ,  미야따아끼라 ,  후지마루슈우조오

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/68 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67225 ,  H01L21/67276

Abstract: 액침 노광에 적용되는 도포, 현상 장치에 있어서, 적정하게 보호막이 도포되어 있지 않은 기판에 대해 정상적인 기판의 처리 효율에 악영향을 미치는 일 없이 회수할 수 있고, 또한 보호막의 제거 작업의 간편화를 도모할 수 있는 기술을 제공하는 것이다.
본 발명의 도포, 현상 장치에서는, 액침 노광에 대한 보호막의 도포가 적정하게 행해지지 않은 이상 기판에 대해서는, 노광부로 반입시키지 않고 대기 모듈에서 대기시키고, 순번이 하나 앞인 기판이 노광부로부터 반출되어 지정 모듈, 예를 들어 현상 전의 가열 모듈로 반입된 후, 상기 이상 기판을 상기 지정 모듈로 반입하도록 하여, 이른바 스케줄 반송에는 영향을 미치지 않도록 하는 동시에, 이상 기판에 대해서도 보호막 제거 유닛에 있어서의 처리를 실행하도록 제어한다.
가열 모듈, 보호막, 기판, 현상 장치, 웨이퍼

公开(公告)号：KR101266735B1

公开(公告)日：2013-05-28

申请号：KR1020097007376

申请日：2007-09-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시다야스시 ,  하라요시따까 ,  가네꼬도모히로

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01L21/67745 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67276

Abstract: 본발명은검사모듈로기판이불필요하게체류하는시간을삭감하고, 이에의해도포, 현상장치의처리량을향상시킬수 있는기술을제공하는것이다. 처리스테이션에서처리를받은기판을, 캐리어스테이션으로전달하는검사스테이션에있어서, 검사에필요로하는시간이서로상이한복수의검사모듈과, 기판을일시적으로체류시키는버퍼유닛과, 제어부에의해그 동작이제어되는기판반송수단이마련되고, 검사모듈이기판의처리를행하는동안, 후속의, 그검사모듈에의한검사대상으로되어있는기판은상기기판반송수단에의해버퍼유닛으로반송되어체류됨으로써, 검사모듈에있어서의기판의체류를억제하여처리량의향상을도모할수 있다.

公开(公告)号：KR101161467B1

公开(公告)日：2012-07-02

申请号：KR1020070036835

申请日：2007-04-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네꼬도모히로 ,  미야따아끼라

IPC: H01L21/027

CPC classification number: Y02P90/02

Abstract: 카세트 스테이션과 처리 스테이션 사이에 검사 스테이션이 마련된 도포, 현상 장치에 있어서, 검사 모듈에 의해 기판이 불필요하게 체재되는 시간을 삭감하는 것이다.
검사 스테이션 내의 기판 반송 수단은 카세트 스테이션과 처리 스테이션 사이의 기판의 전달을 우선하고, 처리 스테이션 내의 기판 반송 수단의 사이클 타임 내의 남은 시간으로 검사 모듈에 대해 기판의 전달을 행하고, 검사 모듈로부터의 기판의 반출에 대해서는 기판의 추월을 행할 수 있도록(처리 순서가 큰 기판보다도 처리 순서가 작은 기판을 반출할 수 있음) 하고, 검사 모듈로의 기판의 반입에 대해서는 기판의 추월을 금지하고 있다.
웨이퍼, 카세트 스테이션, 전달 아암, 메인 아암, 전달 모듈, 검사 모듈

公开(公告)号：KR1020090123798A

公开(公告)日：2009-12-02

申请号：KR1020090045707

申请日：2009-05-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네꼬도모히로 ,  마쯔모또다께시

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/02 ,  H01L21/66 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67288 ,  G05B2219/37224 ,  H01L21/67276 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/16 ,  G03F7/3064 ,  G03F7/3071 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67242 ,  H01L21/67703

Abstract: PURPOSE: A coating-developing apparatus and coating-developing method, and storage medium are provided to select preferentially the inspection reservation signal of the confirmation probing board. CONSTITUTION: The substrate for the product for doing the coating/developing process wafer(W) is accepted. The carrier(C1) for the product wafer and confirmation probing board verifier wafer(CW) is accepted in the carrier(C2) for the verifier wafer. The loading unit(22), and opening and closing part(23) and transfer arm(24) are installed in the carrier block(21). In the inside of the carrier block, surrounding is surrounded with the respective housing, the block(40) and processing block(S1) are included. The reservation signal receiving part receives the inspection reservation signal outputted from the controller(100). The host computer(101) is connected to controller.

Abstract translation: 目的：提供涂布显影装置和涂布显影方法以及存储介质以优先选择确认探测板的检查预约信号。 构成：用于进行涂布/显影处理晶片（W）的产品的基板被接受。 在验证器晶片的载体（C2）中接受用于产品晶片和确认探测板验证器晶片（CW）的载体（C1）。 装载单元（22）和打开和关闭部分（23）和传送臂（24）安装在承载块（21）中。 在承载块的内部，周围被相应的壳体包围，块（40）和处理块（S1）被包括。 预约信号接收部接收从控制器（100）输出的检查预约信号。 主计算机（101）连接到控制器。

公开(公告)号：KR1020080104986A

公开(公告)日：2008-12-03

申请号：KR1020080049388

申请日：2008-05-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 신도모노리 ,  오까무라고오지 ,  가네꼬도모히로 ,  미야따아끼라 ,  후지마루슈우조오

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/68 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67225 ,  H01L21/67276 ,  G03F7/16 ,  G03F7/30

Abstract: A coating and developing device and an operation method of the coating and developing device and a storage media are provided to collect the substrate on which the protective film is not coated appropriately without giving the bad effect on the process efficiency of the substrate. A coating and developing device comprises the coating module(COT), the developer module(DEV), the heat module, the module group, and the substrate transfer. The coating module sprays the resist onto the surface of substrate. The developer module forms the liquid layer on the surface of substrate in the exposure part, and supplies the developer to the substrate which completes the exposure dipping and develops the substrate. The heat module heats the substrate. The module group comprises the cooling module for freezing the substrate. The module group has the sequence number for transferring. The substrate transfer performs the substrate transfer between the modules of the module group.

Abstract translation: 提供了一种涂覆和显影装置以及涂覆和显影装置和存储介质的操作方法以收集其上未适当涂覆保护膜的基板，而不会对基板的处理效率产生不良影响。 涂覆和显影装置包括涂层模块（COT），显影剂模块（DEV），加热模块，模块组和基底转移。 涂层模块将抗蚀剂喷涂到基材的表面上。 显影剂模块在曝光部分的基板的表面上形成液体层，并将显影剂供给到完成曝光浸渍的基板，并显影基板。 加热模块加热基板。 模块组包括用于冷冻基板的冷却模块。 模块组具有用于传输的序列号。 衬底转移在模块组的模块之间执行衬底传送。

公开(公告)号：KR1020060133888A

公开(公告)日：2006-12-27

申请号：KR1020060035216

申请日：2006-04-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네꼬도모히로 ,  미야따아끼라

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/7075 ,  G03F7/70533 ,  H01L21/67155 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67276 ,  G03F7/70508

Abstract: A system and a method for processing a substrate are provided to control reduction of yield or processing amount by single-sheet-processing plural substrates using a first and a second apparatus. A substrate processing apparatus(100) includes a first apparatus(50) and a second apparatus(60) for single-sheet-processing plural substrates. After a first treatment process by the first apparatus, a second treatment process is performed by the second apparatus. After the second treatment process, a third treatment is performed by the first apparatus. The first apparatus has a first control unit(30) and first communication units(34,35) for communicating with the outside. The first control unit controls a transfer of the substrate. The second apparatus has a second control unit(40) and second communication units(43,44) for communicating with the outside. The second control unit controls a transfer of the substrate. The first and second control units obtain information with respect to treatment time in the other apparatus from the first and second communication units. The first and second control units control a substrate transfer between the first and second apparatuses based on the obtained information.

Abstract translation: 提供一种用于处理基板的系统和方法，以通过使用第一和第二装置对多个基板进行单页处理来控制产量或处理量的降低。 基板处理装置（100）包括第一装置（50）和用于单张处理多个基板的第二装置（60）。 在由第一装置进行第一处理处理之后，由第二装置执行第二处理处理。 在第二处理过程之后，由第一装置进行第三处理。 第一装置具有用于与外部通信的第一控制单元（30）和第一通信单元（34,35）。 第一控制单元控制基板的转印。 第二装置具有用于与外部通信的第二控制单元（40）和第二通信单元（43,44）。 第二控制单元控制基板的转印。 第一和第二控制单元从第一和第二通信单元获得关于另一设备中的治疗时间的信息。 第一和第二控制单元基于获得的信息来控制第一和第二设备之间的基板传送。

公开(公告)号：KR101122820B1

公开(公告)日：2012-03-21

申请号：KR1020070118895

申请日：2007-11-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네꼬도모히로 ,  미야따아끼라

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/7075 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/67276 ,  Y10S414/135

Abstract: 노광 후 베이크 유닛의 대수를 증가시키지 않고, 노광 후 지연 시간을 각 웨이퍼에서 일정하게 할 수 있는 도포?현상 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
이를 위해, 처리부(12)와의 사이에서 웨이퍼(W)의 수수를 행함과 함께, 노광 후의 웨이퍼(W)를 노광 후 베이크 유닛(PEB)으로 반입하는 제1 반송 기구(21)와, 노광 장치(3)와의 사이에서 기판의 수수를 행하는 제2 반송 기구(22)에 의해 노광 종료 후의 웨이퍼(W)를 노광 후 베이크 유닛(PEB)에 반송할 때에, 인터페이스부(13)에, 웨이퍼(W)의 수수부(TRS)를 설치하고, 제어부(20)는, 노광 장치(3)에서의 노광 종료 후, 노광 후 베이크 유닛(PEB)에서 노광 후 베이크 처리가 개시될 때까지의 시간이 웨이퍼마다 일정해지도록 수수부(TRS) 및 노광 후 베이크 유닛(PEB)의 대기부의 2개소에서 기판을 대기시킨다.
베이크 유닛, 도포?현상 장치, 반송 기구, 웨이퍼, 노광 장치