마이크로파 플라즈마 처리 장치, 슬롯 안테나 및 반도체 장치
    1.
    发明公开
    마이크로파 플라즈마 처리 장치, 슬롯 안테나 및 반도체 장치 审中-实审
    微波等离子体加工设备,天线和半导体器件

    公开(公告)号:KR1020150007260A

    公开(公告)日:2015-01-20

    申请号:KR1020140086645

    申请日:2014-07-10

    Abstract: 본 발명은 마이크로파 플라즈마 처리 장치를 적절하게 냉각시키는 것을 목적으로 한다.
    마이크로파 플라즈마 처리 장치는, 하나의 실시형태에 있어서, 냉각 플레이트를 갖는다. 또한, 마이크로파 플라즈마 처리 장치는, 냉각 플레이트의 처리 용기측에 간격을 두고 설치되는 중간 금속체로서, 간격은 마이크로파의 도파로를 형성하고, 냉각 플레이트와 도파로의 일부를 차단하도록 배치된 하나 또는 복수의 볼록부에서 접촉하고 있는 중간 금속체를 갖는다. 또한, 마이크로파 플라즈마 처리 장치는, 도파로에 마이크로파를 공급하기 위한 동축 도파관과, 도파로를 경유한 마이크로파를 방사하는 슬롯 안테나판과, 슬롯 안테나판의 처리 용기측에 설치되는 유전체창과, 유전체창에 의해 밀폐되도록 설치되는 처리 용기를 포함한다.

    Abstract translation: 本发明的目的是适当地冷却微波等离子体处理装置。 根据本发明的实施例的微波等离子体处理装置具有冷却板。 此外,微波等离子体处理装置涉及在冷却板的处理容器中以规则的间隔安装的中间金属,形成微波的波导,并且与一个或多个块单元接触,该块单元布置成阻挡冷却板 和波导的一部分。 另外,微波等离子体处理装置具有:向波导供给微波用的同轴波导管,辐射穿过波导的微波的缝隙天线板,安装在槽型天线板的加工容器侧的电介质窗; 并且所述处理容器安装成由所述电介质窗封闭。

    마이크로파 플라즈마 처리 장치, 슬롯 안테나 및 반도체 장치
    2.
    发明公开
    마이크로파 플라즈마 처리 장치, 슬롯 안테나 및 반도체 장치 审中-实审
    微波等离子体加工设备,天线和半导体器件

    公开(公告)号:KR1020150007258A

    公开(公告)日:2015-01-20

    申请号:KR1020140086633

    申请日:2014-07-10

    CPC classification number: H01J37/32229 H01J37/3222

    Abstract: 본 발명은, 처리 용기 내의 플라즈마 농도를 균일하게 하는 것을 목적으로 한다.
    본 발명의 마이크로파 플라즈마 처리 장치는, 하나의 실시형태에 있어서, 동축 도파관의 내측 도체와 중간 도체 사이의 공간을 통해, 슬롯판과 중간 금속체 사이의 공간 중 중간 금속체의 볼록부보다 중심측에 있는 중심측 공간에서 마이크로파를 전송함으로써 제1 슬롯에 마이크로파를 전송하는 내측 도파로에 있어서, 제1 슬롯의 상부에 설치되는 내측 지파판을 갖는다. 또한, 마이크로파 플라즈마 처리 장치는, 하나의 실시형태에 있어서, 동축 도파관의 중간 도체와 외측 도체 사이의 공간과, 중간 금속체와 냉각 플레이트 사이의 공간을 순서대로 통해, 슬롯판과 중간 금속체 사이의 공간 중 중간 금속체의 볼록부보다 외주측에 있는 외주측 공간에서 마이크로파를 전송함으로써 제2 슬롯에 마이크로파를 전송하는 외측 도파로에 있어서, 제2 슬롯의 상부에 설치되는 외측 지파판을 갖는다.

    Abstract translation: 提供本发明以均衡加工容器中的血浆浓度。 根据本发明的实施例的微波等离子体处理装置具有内部慢波板,其安装在通过在中心空间中传送微波而将微波传输到第一狭槽的内部波导路径中的第一狭槽的上部, 通过同轴波导的内部和中间导体之间的空间,在槽板和中间金属体之间的空间之间比中间金属体的凸部更靠近中心。 在本实施例中,微波等离子体处理装置具有外部慢波板,该外部慢波板安装在外部波导路径的第二槽的上部,该外部波导路径将微波传输到第二槽,通过在更靠近 通过使同轴波导的中间和外部导体之间的空间和中间金属体与冷却板之间的空间顺序通过,在槽板和中间金属体之间的空间之间的中间金属体的凸部的外周侧。

Patent Agency Ranking