公开(公告)号：KR100629022B1

公开(公告)日：2007-04-25

申请号：KR1019980049892

申请日：1998-11-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타나카히로시 ,  키타하라시게노리 ,  히로시로코키치

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 초음파 세정장치에 관한 것으로, 반도체 웨이퍼나 LCD용 유리기판 등의 피처리체를 초음파를 이용해서 세정하는 초음파 세정장치에 관한 것이다.
종래의 초음파 세정장치는 세정조의 하면에 부착하는 기포를 충분히 제거할 수 없었다.
본 발명은 피처리체를 세정하기 위한 세정액을 수용하는 세정조, 서로 대향하는 제 1측 및 제 2측을 갖음과 더불어, 상기 세정조의 저부가 침적되는 진동전파용 액체를 수용하기 위한 중간조에 있어서, 그 제 1측에 상기 진동전파용 액체를 그 중간조 밖으로 유출시키기 위한 유출부가 설치되어 있는 중간조, 상기 중간조에 설치되고, 상기 진동전파용 액체에 초음파 진동을 가하기 위한 수단과, 상기 중간조의 제 2측에 설치되고, 상기 제 1측을 향해서 상기 진동전파용 액체를 흘리는 수단을 구비하여, 진동전파용 액체의 유량을 많게 하지 않으면서도, 세정조의 하면으로의 기포의 부착을 제거함으로써, 세정효율을 향상시킬 수 있는 초음파 세정장치를 제시하고 있다.

公开(公告)号：KR1019990045451A

公开(公告)日：1999-06-25

申请号：KR1019980049892

申请日：1998-11-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타나카히로시 ,  키타하라시게노리 ,  히로시로코키치

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 초음파 세정장치에 관한 것으로, 반도체 웨이퍼나 LCD용 유리기판 등의 피처리체를 초음파를 이용해서 세정하는 초음파 세정장치에 관한 것이다.
종래의 초음파 세정장치는 세정조의 하면에 부착하는 기포를 충분히 제거할 수 없었다.
본 발명은 피처리체를 세정하기 위한 세정액을 수용하는 세정조, 서로 대향하는 제 1측 및 제 2측을 갖음과 더불어, 상기 세정조의 저부가 침적되는 진동전파용 액체를 수용하기 위한 중간조에 있어서, 그 제 1측에 상기 진동전파용 액체를 그 중간조 밖으로 유출시키기 위한 유출부가 설치되어 있는 중간조, 상기 중간조에 설치되고, 상기 진동전파용 액체에 초음파 진동을 가하기 위한 수단과, 상기 중간조의 제 2측에 설치되고, 상기 제 1측을 향해서 상기 진동전파용 액체를 흘리는 수단을 구비하여, 진동전파용 액체의 유량을 많게 하지 않으면서도, 세정조의 하면으로의 기포의 부착을 제거함으로써, 세정효율을 향상시킬 수 있는 초음파 세정장치를 제시하고 있다.