公开(公告)号：KR100248566B1

公开(公告)日：2000-03-15

申请号：KR1019930011793

申请日：1993-06-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론도오호쿠가부시끼가이샤

Inventor： 오사와데쓰

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67115 ,  C23C16/0209 ,  C30B33/00 ,  H01L21/31662 ,  H01L21/324 ,  Y10S148/038

Abstract: 프로세스튜브 내에 반도체 웨이퍼가 탑재된 웨이퍼 보트를 삽입하고, 프로세스튜브 내에 처리가스를 도입하여 열처리를 할 때에, 이 열처리에 앞서서 프로세스튜브 내를 열처리 때보다도 높은 온도로 유지하면서 열처리 때의 압력보다도 낮은 압력으로 되도록 프로세스튜브 내를 배기한다. 열처리 종료후, 프로세스튜브 내를 N
2 가스로 가스 퍼지한다.

公开(公告)号：KR3001592490000S

公开(公告)日：1995-02-09

申请号：KR3019930020094

申请日：1993-09-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론도오호쿠가부시끼가이샤

Designer： 오사와데쓰

公开(公告)号：KR1019940018937A

公开(公告)日：1994-08-19

申请号：KR1019940001400

申请日：1994-01-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론도오호쿠가부시끼가이샤

Inventor： 오사와데쓰

IPC: H01L21/324

Abstract: 여러개의 반도체 웨이퍼를 서로 간격을 두고 수납하고, 열처리로 내에서 웨이퍼를 열처리하기 위한, 열처리보우트는, 바닥판과, 바닥판 바깥면 부에 세워서 설치된 제1의 지주와, 제1의 지주에 대해서 중심각이 105∼120도가 되도록 양측에 각각 바닥판 위에 세워서 설치된 제2 및 제3의 지주와, 바닥판과 대향해서 바닥판과 함께 제1, 제2 및 제3의 지주를 유지하는 천정판을 구비하고 있다. 이 열처리용 보우트에 웨이퍼를 지지한 상태에서 웨이퍼에 가하여지는 최대 응력은 3지점으로 분산되어 최소가 된다.

公开(公告)号：KR1019940006208A

公开(公告)日：1994-03-23

申请号：KR1019930011793

申请日：1993-06-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론도오호쿠가부시끼가이샤

Inventor： 오사와데쓰

IPC: H01L21/304

Abstract: 프로세스튜브 내에 반도체 웨이퍼가 탑재된 웨이퍼 보트를 삽입하고, 프로세스튜브 내에 처리가스를 도입하는 열처리를 할 때에, 이 열처리에 앞서서 프로세스튜브 내를 열처리 때보다도 높은 온도로 유지하면서 열처리 때의 압력보다도 낮은 압력으로 되도록 프로세스튜브 내를 배기한다. 열처리 종료후, 프로세스튜브 내를 N
2 가스로 가스퍼지한다.

公开(公告)号：KR100282463B1

公开(公告)日：2001-04-02

申请号：KR1019940001400

申请日：1994-01-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론도오호쿠가부시끼가이샤

Inventor： 오사와데쓰

IPC: H01L21/324

Abstract: 여러개의 반도체 웨이퍼를 서로 간격을 두고 수납하고, 열처리로 내에서 웨이퍼를 열처리하기 위한, 열처리보오트는, 바닥판과, 바닥판 바깥면부에 세워서 설치된 제1의 지주와, 제1의 지주에 대해서 중심각이 105∼120도가 되도록 양측에 각각 바닥판 위에 세워서 설치된 제2 및 제3의 지주와, 바닥판과 대향해서 바닥판과 함께 제1, 제2 및 제3의 지주를 유지하는 천정판을 구비하고 있다. 이 열처리용 보오트에 웨이퍼를 지지한 상태에서 웨이퍼에 가하여지는 최대 응력은 3지점으로 분산되어 최소가 된다.

公开(公告)号：KR1019940018908A

公开(公告)日：1994-08-19

申请号：KR1019940000499

申请日：1994-01-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야기가쓰신 ,  오사와데쓰

IPC: H01L21/22

Abstract: 하부의 개구로부터 피처리체(웨이퍼)를 수용하여 열처리를 행하는 프로세스 튜브와 웨이퍼를 유지하는 웨이퍼 보트를 재치하여 프로세스 튜브 내에 수용하는 승강기구(보트엘리베이터)와, 웨이퍼를 승강기구로 이재하는 웨이퍼 이재장치로 본 발명의 종형 처리장치의 주요부를 구성한다. 여기에서는 승강기구에 코일스프링의 탄성력에 의해서 탄성지지되고, 그 상부에 웨이퍼를 수용하는 웨이퍼 보트를 재치함과 동시에, 프로세스 튜브의 개구부를 폐색하는 캡을 설치한다. 또, 승강기구의 캡 최하강 위치에 캡에 힘을 가하는 코일스프링의 탄성력을 구속하는 캡 구속 부재를 설치한다. 이에 의하여 웨이퍼의 이재장치에 의한 이재시에 캡을 구속하는 캡 구속부재로 구속하여 코일스프링의 휘어짐에 의한 웨이퍼 보트 따위의 경사등에 따르는 웨이퍼로의 파티클 부착과 손상등을 방지한다.

公开(公告)号：KR1019940012487A

公开(公告)日：1994-06-23

申请号：KR1019930025448

申请日：1993-11-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오사와데쓰

IPC: H01L21/02

Abstract: 처리종료 보트를 대기시키는 제1대기위치와 다음의 처리를 위한 웨이퍼 보트를 대기시키는 제2대기위치가 설치되어 있는 2보트 시스템의 종형 열처리장치로서, 상기 제1과, 제2대기위치와 종형 반응로와의 사이에서 웨이퍼보트를 교환하는 보트 이재장치를 구비하고, 이 보트 이재장치는 적어도 회전 방향 및 이 회전중심으로부터 반경방향에서의 변위를 포함한 2차원면에서의 변위가 될 수 있도록 되어 있다. 또 제1과 제2의 대기위치 사이를 아주 근접시키어 점유 스페이서를 적게 하기 위하여 양 위치사이에서의 열의 방향을 방지하는 차열부재가 그 사이에 설치되어 있다. 이러한 구성에 의하여 보트 이재장치의 점유 스페이서를 적게하여 소형화가 가능한 구성을 구비한 종형 열처리장치가 얻어진다.

公开(公告)号：KR1020010075662A

公开(公告)日：2001-08-09

申请号：KR1020017005210

申请日：1999-10-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 니시나카야마야스히코 ,  이시자와시게루 ,  사에키히로아키 ,  가와노다카시 ,  오사와데쓰

IPC: H01L21/68

Abstract: 기준위치에 대하여 유지부(48)의 위치맞춤을 하는 반송시스템의 반송위치맞춤 방법이다. 제어부(72)에, 회전기준대(60)상의 소정위치인 오리엔터티칭 기준위치 및 용기재치대에 얹어 놓이는 카세트용기내의 소정위치인 용기티칭 기준위치에 대한 각각의 임시의 위치좌표를 미리 입력한다. 유지부(48)에 정확히 위치맞춤하여 유지시킨 피반송체(W)를 오리엔터티칭 기준위치의 임시의 위치좌표에 근거하는 제어에 의해서 회전기준대(60)까지 반송하여 이재한다. 회전기준대(60)에 재치된 피반송체(W)의 편심량과 편심방향을 위치자세검출부(62)에 의해서 검출한다. 검출된 편심량과 편심방향과 따라서 오리엔터티칭 기준위치에 대한 임시의 위치좌표를 보정하여 적정위치좌표로 한다. 다음에, 용기티칭 기준위치에 정확히 위치맞춤한 피반송체(W)를 용기티칭 기준위치의 임시의 위치좌표에 근거하는 제어에 의해서 회전기준대(60)까지 반송하여 이재한다. 회전기준대(60)에 재치된 피반송체(W)의 편심량과 편심방향을 위치자세검출부(62)에 의해서 검출한다. 검출된 편심량과 편심방향과 따라서 용기티칭 기준위치에 대한 임시의 위치좌표를 보정하여 적정위치좌표로 한다.

公开(公告)号：KR100250011B1

公开(公告)日：2000-03-15

申请号：KR1019930025448

申请日：1993-11-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오사와데쓰

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67109 ,  C23C16/54 ,  C30B35/005 ,  H01L21/67769

Abstract: 처리종료 보트를 대기시키는 제1 대기위치와 다음의 처리를 위한 웨이퍼 보트를 대기시키는 제2 대기위치가 설치되어 있는 2보트 시스템의 종형 열처리장치로서, 상기 제1과, 제2 대기위치와 종형 반응로와의 사이에서 웨이퍼보트를 교환하는 보트 이재장치를 구비하고, 이 보트 이재장치는 적어도 회전 방향 및 이 회전중심으로 부터 반경 방향에서의 변위를 포함한 2차원면에서의 변위가 될수 있도록 되어 있다. 또 제1과 제2의 대기위치 사이를 아주 근접시키어 점유 스페이서를 적게 하기 위하여 양 위치 사이에서의 열의 영향을 방지하는 차열부재가 그 사이에 설치하여 있다. 이러한 구성에 의하여 보트 이재장치의 점유 스페이서를 적게하여 소형화가 가능한 구성을 구비한 종형 열처리장치가 얻어진다.

公开(公告)号：KR100245404B1

公开(公告)日：2000-02-15

申请号：KR1019940000499

申请日：1994-01-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야기가쓰신 ,  오사와데쓰

IPC: H01L21/22

CPC classification number: C23C16/54 ,  C30B25/08

Abstract: 하부의 개구로부터 미처리체(웨이퍼)를 수용하여 열처리를 행하는 프로세스 튜브와 웨이퍼를 유지하는 웨이퍼 보트를 재치하여 프로세스 튜브 내에 수용하는 승강기구(보트엘리베이터)와, 웨이퍼를 승강기구로 이재하는 웨이퍼 이재장치로 본 발명의 종형 처리장치의 주요부를 구성한다. 여기에서는 승강기구에 코일스프링의 탄성력에 의해서 탄성지지되고, 그 상부에 웨이퍼를 수용하는 웨이퍼 보트를 재치함과 동시에, 프로세스 튜브의 개구부를 폐색하는 캡을 설치한다. 또, 승강기구의 캡 최하강 위치에 캡에 힘을 가하는 코일스프링이 탄성력을 구속하는 캡 구속부재를 설치한다. 이에 의하여 웨이퍼의 이제장치에 의한 이재시에 캡을 구속하는 캡 구속부재로 구속하여 코일스프링의 휘어짐에 의한 웨이퍼 보트 따위의 경사등에 따르는 웨이퍼로의 파티클 부착과 손상등을 방지한다.