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公开(公告)号:KR1019950034537A
公开(公告)日:1995-12-28
申请号:KR1019950004757
申请日:1995-03-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/30
Abstract: 본 발명은, 피처리체에 처리액을 공급하여 피처리체에 처리를 하는 처리공정과, 피처리체에 세정액을 공급하여 피처리체를 세정하는 세정공정을 가지며, 처리공정과 세정공정이 적어도 일부에서 오버랩하는 피처리체의 레지스트 처리방법을 제공한다.
또한, 본 발명은, 대향하는 한 쌍의 끝단테두리를 가지는 사각형상의 피처리체의 윗쪽에 처리액을 공급하는 처리액 공급수단을 위치시키는 공정과, 처리액 공급수단에 의해서 처리액을 피처리체에 공급하면서, 처리액 공급수단을 피처리체의 한 쌍의 끝단테두리의 한 쪽의 끝단테두리를 향하여 피처리체에 대하여 상대적으로 이동시키는 공정과, 처리액 공급 수단에 의해서 처리액을 피처리체에 공급하면서, 처리액 공급수단을 피처리에의 상기 한 쪽의 끝단테두리부터 한 쌍의 끝단테두리의 다른 쪽의 끝단테두리를 향하여 피처리체에 대하여 상대적으로 이동시키는 공정을 가지는 피처리체의 레지스트 처리방법을 제공한다.-
公开(公告)号:KR100248565B1
公开(公告)日:2000-05-01
申请号:KR1019950004757
申请日:1995-03-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/30
CPC classification number: G03F7/162 , G03F7/3021 , Y10S134/902
Abstract: 본 발명은, 피처리체에 처리액을 공급하여 피처리체에 처리를 하는 처리공정과, 피처리체에 세정액을 공급하여 피처리체를 세정하는 세정공정을 가지며, 처리공정과 세정공정이 적어도 일부에서 오버랩하는 피처리체의 레지스트 처리방법을 제공한다.
또한, 본 발명은, 대향하는 한 쌍의 끝단테두리를 가지는 사각형상의 피처리체의 윗쪽에 처리액을 공급하는 처리액 공급수단을 위치시키는 공정과, 처리액 공급수단에 의해서 처리액을 피처리체에 공급하면서, 처리액 공급수단을 피처리체의 한 쌍의 끝단테두리의 한 쪽의 끝단테두리를 향하여 피처리체에 대하여 상대적으로 이동시키는 공정과, 처리액 공급 수단에 의해서 처리액을 피처리체에 공급하면서, 처리액 공급수단을 피처리체의 상기 한 쪽의 끝단테두리로부터 한 쌍의 끝단테두리의 다른 쪽의 끝단테두리를 향하여 피처리체에 대하여 상대적으로 이동시키는 공정을 가지는 피처리체의 레지스트 처리방법을 제공한다.
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