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公开(公告)号：KR1019950034537A
公开(公告)日：1995-12-28
申请号：KR1019950004757
申请日：1995-03-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/30
Abstract: 본 발명은, 피처리체에 처리액을 공급하여 피처리체에 처리를 하는 처리공정과, 피처리체에 세정액을 공급하여 피처리체를 세정하는 세정공정을 가지며, 처리공정과 세정공정이 적어도 일부에서 오버랩하는 피처리체의 레지스트 처리방법을 제공한다.
또한, 본 발명은, 대향하는 한 쌍의 끝단테두리를 가지는 사각형상의 피처리체의 윗쪽에 처리액을 공급하는 처리액 공급수단을 위치시키는 공정과, 처리액 공급수단에 의해서 처리액을 피처리체에 공급하면서, 처리액 공급수단을 피처리체의 한 쌍의 끝단테두리의 한 쪽의 끝단테두리를 향하여 피처리체에 대하여 상대적으로 이동시키는 공정과, 처리액 공급 수단에 의해서 처리액을 피처리체에 공급하면서, 처리액 공급수단을 피처리에의 상기 한 쪽의 끝단테두리부터 한 쌍의 끝단테두리의 다른 쪽의 끝단테두리를 향하여 피처리체에 대하여 상대적으로 이동시키는 공정을 가지는 피처리체의 레지스트 처리방법을 제공한다.-
公开(公告)号：KR1019960008976A
公开(公告)日：1996-03-22
申请号：KR1019950023817
申请日：1995-08-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/02
CPC classification number: B05C11/1039 , B05C5/0208 , B05C11/08 , G03F7/3021 , Y10S134/902
Abstract: 피처리체를현상액으로현상하는현상액처리장치는, 피처리체를회전가능하게유지하는유지부재와, 피처리체에현상액을공급하는현상액공급노즐과, 피처리체로공급된현상액을흡인하는현상액흡인노즐과, 현상액공급노즐을피처리체위쪽으로이동시키는현상액공급노즐이동기구와, 현상액흡인노즐을피처리체위쪽으로이동시키는현상액흡인노즐이동기구를구비하고, 현상액공급노즐을이동시켜서현상액을피처리체에공급한후, 현상액흡인노즐을이동시켜서피처리체상의현상액을흡인한다.
Abstract translation: 用于开发与显影溶液在加工对象物的显影剂装置被保持，其旋转地保持加工对象部件，以及一个显影液吸嘴和显影液供给喷嘴供给的显影液被处理，抽吸供给显影剂体被处理，并且 具有用于显影液供给喷嘴移动机构为显影液供给喷嘴移动到目标位置，移动显影溶液吸引喷嘴朝向目标位置并且，通过移动显影液供给喷嘴的显影剂吸嘴移动机构后供给显影液的待处理 ，显影剂吸嘴移动以吸引待处理物体上的显影剂。
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公开(公告)号：KR100267618B1
公开(公告)日：2000-10-16
申请号：KR1019950023817
申请日：1995-08-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/02
CPC classification number: B05C11/1039 , B05C5/0208 , B05C11/08 , G03F7/3021 , Y10S134/902
Abstract: 피처리체를 현상액으로 현상하는 현상액 처리장치는, 피처리체를 회전 가능하게 유지하는 유지부재와, 피처리체에 현상액을 공급하는 현상액 공급노즐과, 피처리체로 공급된 현상액을 흡인하는 현상액 흡인노즐과, 현상액 공급노즐을 피처리체 위쪽으로 이동시키는 현상액 공급노즐 이동기구와, 현상액 흡인노즐을 피처리체 위쪽으로 이동시키는 현상액 흡인노즐 이동기구를 구비하고, 현상액공급노즐을 이동시켜서 현상액을 피처리체에 공급한 후, 현상액 흡인노즐을 이동시켜서 피처리체상의 현상액을 흡인한다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1019930024108A
公开(公告)日：1993-12-21
申请号：KR1019920007845
申请日：1992-05-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 세정장치는, 피처리체를 반출 및 반입하기 위한 개구부를 가지고, 처리액에 의하여 피처리체를 세정하기 위한 세정처리실과, 상기 개구부를 개폐하기 위한 개폐기구와, 상기 개구기구를 세정하기 위한 세정노즐과를 갖추고 있다. 또, 세정처리액이 저유되고 피처리체를 세정처리액에 의하여 세정하는 용기를 갖추고 있으며, 이 용기로부터 세정액이 배출되어서 피처리체의 적어도 일부가 노출하였을때에, 피처리체에 세정액을 공급하는 노즐을 갖추고 있다.
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公开(公告)号：KR100248565B1
公开(公告)日：2000-05-01
申请号：KR1019950004757
申请日：1995-03-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/30
CPC classification number: G03F7/162 , G03F7/3021 , Y10S134/902
Abstract: 본 발명은, 피처리체에 처리액을 공급하여 피처리체에 처리를 하는 처리공정과, 피처리체에 세정액을 공급하여 피처리체를 세정하는 세정공정을 가지며, 처리공정과 세정공정이 적어도 일부에서 오버랩하는 피처리체의 레지스트 처리방법을 제공한다.
또한, 본 발명은, 대향하는 한 쌍의 끝단테두리를 가지는 사각형상의 피처리체의 윗쪽에 처리액을 공급하는 처리액 공급수단을 위치시키는 공정과, 처리액 공급수단에 의해서 처리액을 피처리체에 공급하면서, 처리액 공급수단을 피처리체의 한 쌍의 끝단테두리의 한 쪽의 끝단테두리를 향하여 피처리체에 대하여 상대적으로 이동시키는 공정과, 처리액 공급 수단에 의해서 처리액을 피처리체에 공급하면서, 처리액 공급수단을 피처리체의 상기 한 쪽의 끝단테두리로부터 한 쌍의 끝단테두리의 다른 쪽의 끝단테두리를 향하여 피처리체에 대하여 상대적으로 이동시키는 공정을 가지는 피처리체의 레지스트 처리방법을 제공한다.-
公开(公告)号：KR100186043B1
公开(公告)日：1999-04-15
申请号：KR1019930009372
申请日：1993-05-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 기판세정장치는, LCD용 유리기판의 양면을 브러시 세정하기 위한 상하 브러시 부재를 가지는 브러시 세정기구와, 상하 브러시 부재의 각각을 회전시키는 회전기구와, 상하 브러시 부재의 각각에 순수한 물을 공급하는 세정액 공급기구와, 기판을 상하 브러시 부재 상호간에 반송하며, 상하 브러시 부재의 상호간 위치로서 기판을 반송방향으로 왕복 운동시키는 반송기구와, 상기 반송수단의 동작을 제어하는 콘트롤러를 가진다.
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公开(公告)号：KR100175072B1
公开(公告)日：1999-04-01
申请号：KR1019920007937
申请日：1992-05-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 세정장치는, 피처리체를 반출 및 반입하기 위한 개구부를 가지고, 처리액에 의하여 피처리체를 세정하기 위한 세정처리실과, 상기 개구부를 개폐하기 위한 개폐기구와, 상기 개구기구를 세정하기 위한 세정노즐과를 갖추고 있다. 또, 세정처리액이 저유되고 피처리체를 세정처리액에 의하여 세정하는 세정처리 용기를 갖추고 있으며, 이 용기로부터 세정액이 배출되어서 피처리체의 적어도 일부가 노출하였을 때에, 피처리체에 세정액을 공급하는 노즐을 갖추고 있다.
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公开(公告)号：KR1019920022412A
公开(公告)日：1992-12-19
申请号：KR1019920007937
申请日：1992-05-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 내용 없음.
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