Abstract:
본 발명은 하기의 화학식 1의 중합단위와 화학식 2의 중합단위를 포함하고, 화학식 3 및 화학식 4로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1 종 이상의 중합단위를 더 포함하는 공중합체를 포함하는 착색 분산액, 감광성 수지 조성물, 및 이로부터 제조된 블랙 매트릭스 및 블랙 컬럼 스페이서를 제공한다. 본 발명의 착색 분산액과 감광성 수지 조성물은 저장안정성, 해상도가 우수하고, 이로부터 제조된 블랙 매트릭스 및 블랙 컬럼 스페이서는 유전율, 탄성회복율이 우수하고, 내화학성이 특히 우수하다. [화학식 1]
[화학식 2]
[화학식 3]
[화학식 4]
상기 화학식 1 내지 4에서, R 1 은 수소, 메틸기, 에틸기 또는 히드록시메틸기이고, R 2 는 수소, 또는 R 3 과 5원 고리의 카르복실산 무수물 또는 이미드 구조를 형성하는 기이고, R 3 는 R 2 와 5원 고리의 카르복실산 무수물 또는 이미드 구조를 형성하는 기; C 2 -C 12 알킬에스테르; C 1 -C 6 알킬아미드; 히드록시기, C 1 -C 3 알콕시기, 할로겐, 에폭시기, 글리시독시기 및 페닐기로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 치환체로 치환된 C 2 -C 6 알킬에스테르; 글리시독시기로 치환된 C 1 -C 6 알킬; C 1 -C 6 알킬기, C 1 -C 6 알콕시기, 할로겐 및 히드록시기로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 치환체로 치환되거나 치환되지 않은 C 6 -C 12 아릴기; 및 C 5 -C 15 시클로알킬에스테르로 이루어진 그룹으로부터 선택되고, R 4 는 C 1 -C 12 알킬렌기 및 할로겐으로 치환된 C 1 -C 6 알킬렌기로 이루어진 그룹으로부터 선택되고, R 5 및 R 6 는 각각 독립적으로 C 1 -C 12 알킬렌기 및 할로겐으로 치환된 C 1 -C 6 알킬렌기로 이루어진 그룹으로부터 선택되고, a는 5 내지 50의 정수이고, b는 1 내지 60의 정수이며, c는 5 내지 60의 정수이고, d는 5 내지 60의 정수이다.
Abstract:
PURPOSE: A photosensitive resin composition is provided to present a light blocking spacer with high elastic recovery, low permittivity, big height difference between a main spacer and a sub spacer, excellent resistance to chemical material and high rate of upper and lower part of a pattern. CONSTITUTION: A photosensitive resin comprises a copolymer [A], a polymerizable compound [B], and a polymerization initiator [C]. The copolymer [A] includes (a-1) a component induced from a N- substituted maleimide group-containing polymerizable compound of 50-70 weight%, (a-2) a component induced from a ethylenically unsaturated carboxylic acid, a ethylenically unsaturated carboxylic acid anhydride or their mixture of 3-40 weight%, (a-3) a component induced from a aromatic ring-containing ethylenically unsaturated compound of 2-40 weight% and (a-4) a component induced from a ethylenically unsaturated compound different from (a-1) - (a-3) of (a-4) 0-40 weight%.
Abstract:
The present invention relates to a colored photosensitive resin composition and a light shielding spacer using the same. The colored photosensitive resin composition of the present invention comprises the following: (1) a copolymer; (2) a coloring agent; (3) a polymerizable unsaturated compound; (4) a photopolymerization initiator; (5) a phenylamino silane coupling agent; and (6) an epoxy resin or a compound induced from the same is able to realize a micropattern since a pattern property, a shape and the like are able to be easily controlled and have an excellent adhesive property, and especially, time-course stabilization, thereby being able to be usefully applied to the pattern formation of a light shielding spacer.
Abstract:
PURPOSE: A colored photosensitive resin composition is provided to facilitate the control of pattern sensitivity and pattern shape and to sufficiently express the difference between a full tone and a half tone, thereby being useful for forming patterns of a light-blocking spacer. CONSTITUTION: A colored photosensitive resin composition comprises a copolymer; a coloring agent; one or more compound selected from a polymerizable unsaturated compound and an oligomer with an epoxy group; and a photopolymerization initiator represented by chemical formula 1. The copolymer includes a structure unit derived from an N-substituted maleimide group-containing polymerizable compound; a structure unit derived from an ethylenically unsaturated carboxylic acid, an ethylenically unsaturated carboxylic anhydride, or a mixture thereof; and a structure unit derived from an aromatic ring-containing ethylenically unsaturated compound.
Abstract:
본 발명은 화학식 1의 에폭시 수지(A)와 불포화 염기산(B)을 반응시켜 수득되는 에폭시 부가물(AB)에 다염기산 무수물(C)을 반응시켜 수득되는 생성물(P1) 또는 화학식 1의 에폭시 수지(A)와 불포화 염기산(B)을 반응시켜 수득되는 에폭시 부가물(AB)에 다염기산 무수물(C)을 반응시켜 수득되는 생성물(P1)에 추가로 단관능 또는 다관능 에폭시 화합물(D)을 반응시켜 수득되는 생성물(P2)인 광중합성 불포화 수지, 및 상기 광중합성 불포화 수지; 적어도 하나 이상의 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 관능성 모노머; 중합 개시제; 흑색 유기 안료; 및 용제를 포함하는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 감광성 수지 조성물은 유전율이 낮으면서도 차광성이 뛰어나고 해상도 및 탄성 복원력이 우수한 차광성 스페이서를 제공할 수 있다. [화학식 1]
Abstract:
The present invention relates to a colored photosensitive resin composition and a light shielding spacer using the same. The colored photosensitive resin composition of the present invention comprises: (1) a polymer containing (a-1) a component unit derived from a polymerizable compound including N-substituted maleimide group, (a-2) a component unit derived from an ethylenically unsaturated carboxylic acid, an ethylenically unsaturated carboxylic acid anhydride, and a mixture thereof, and (a-3) a component unit derived from an ethylenically unsaturated carboxylic acid containing an aromatic ring; (2) a coloring agent; (3) at least one compound selected from either a polymerizable unsaturated compound or an oligomer having an epoxy group; and (4) a photopolymerization initiator of chemical formula 1, and can make difference between a full tone and a half tone so as to be effectively used in forming a pattern of the light shielding spacer.