Abstract:
본 발명은 하기의 화학식 1의 중합단위와 화학식 2의 중합단위를 포함하고, 화학식 3 및 화학식 4로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1 종 이상의 중합단위를 더 포함하는 공중합체를 포함하는 착색 분산액, 감광성 수지 조성물, 및 이로부터 제조된 블랙 매트릭스 및 블랙 컬럼 스페이서를 제공한다. 본 발명의 착색 분산액과 감광성 수지 조성물은 저장안정성, 해상도가 우수하고, 이로부터 제조된 블랙 매트릭스 및 블랙 컬럼 스페이서는 유전율, 탄성회복율이 우수하고, 내화학성이 특히 우수하다. [화학식 1]
[화학식 2]
[화학식 3]
[화학식 4]
상기 화학식 1 내지 4에서, R 1 은 수소, 메틸기, 에틸기 또는 히드록시메틸기이고, R 2 는 수소, 또는 R 3 과 5원 고리의 카르복실산 무수물 또는 이미드 구조를 형성하는 기이고, R 3 는 R 2 와 5원 고리의 카르복실산 무수물 또는 이미드 구조를 형성하는 기; C 2 -C 12 알킬에스테르; C 1 -C 6 알킬아미드; 히드록시기, C 1 -C 3 알콕시기, 할로겐, 에폭시기, 글리시독시기 및 페닐기로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 치환체로 치환된 C 2 -C 6 알킬에스테르; 글리시독시기로 치환된 C 1 -C 6 알킬; C 1 -C 6 알킬기, C 1 -C 6 알콕시기, 할로겐 및 히드록시기로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 치환체로 치환되거나 치환되지 않은 C 6 -C 12 아릴기; 및 C 5 -C 15 시클로알킬에스테르로 이루어진 그룹으로부터 선택되고, R 4 는 C 1 -C 12 알킬렌기 및 할로겐으로 치환된 C 1 -C 6 알킬렌기로 이루어진 그룹으로부터 선택되고, R 5 및 R 6 는 각각 독립적으로 C 1 -C 12 알킬렌기 및 할로겐으로 치환된 C 1 -C 6 알킬렌기로 이루어진 그룹으로부터 선택되고, a는 5 내지 50의 정수이고, b는 1 내지 60의 정수이며, c는 5 내지 60의 정수이고, d는 5 내지 60의 정수이다.
Abstract:
PURPOSE: A composition for a photo-sensitive resin, a low dielectric constant light shielding layer using the same, and a liquid crystal display device are provided to adjust the generation of stepped parts due to a thermal treating process. CONSTITUTION: A composition for a photo-sensitive resin includes a photopolymerizable unsaturated binder resin, an ethylenically unsaturated bond containing functional monomer, a polymerization initiator, a block organic mixed pigment, and a solvent. The photopolymerizable unsaturated binder resin is obtained by reacting an epoxy adduct and a polybasic acid anhydride. The epoxy adduct is obtained by adding unsaturated basic acid to an epoxy resin represented by chemical formula 1. A light shielding layer includes a film based on the composition.
Abstract:
본 발명은 화학식 1의 에폭시 수지(A)와 불포화 염기산(B)을 반응시켜 수득되는 에폭시 부가물(AB)에 다염기산 무수물(C)을 반응시켜 수득되는 생성물(P1) 또는 화학식 1의 에폭시 수지(A)와 불포화 염기산(B)을 반응시켜 수득되는 에폭시 부가물(AB)에 다염기산 무수물(C)을 반응시켜 수득되는 생성물(P1)에 추가로 단관능 또는 다관능 에폭시 화합물(D)을 반응시켜 수득되는 생성물(P2)인 광중합성 불포화 수지, 및 상기 광중합성 불포화 수지; 적어도 하나 이상의 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 관능성 모노머; 중합 개시제; 흑색 유기 안료; 및 용제를 포함하는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 감광성 수지 조성물은 유전율이 낮으면서도 차광성이 뛰어나고 해상도 및 탄성 복원력이 우수한 차광성 스페이서를 제공할 수 있다. [화학식 1]
Abstract:
본 발명은 액정 디스플레이 장치의 차광에 사용되는 블랙매트릭스 제조용 저유전성 감광성 수지 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 제 1 중합체와 하기 화학식 2로 표시되는 제 2 중합체를 포함하며, 6이하의 저유전성의 전기적 특성과 2이상의 광학밀도를 구현하는 그리고 노광 전후의 현상에 대한 충분한 용해도를 가지며 10um정도의 마이크로 홀 패턴이 구현되는 고해상도, 현상 마진 및 밀착성이 우수한 블랙매트릭스 제조용 저유전성 감광성 수지 조성물 및 그로부터 제조되는 블랙매트릭스에 관한 것이다. [화학식 1]
Abstract:
본 발명은 광중합성 불포화 바인더 수지, 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 관능성 모노머, 중합 개시제, 흑색 유기 혼합 안료 및 용제를 포함하고, 상기 광중합성 불포화 바인더 수지는 에폭시 수지에 불포화 염기산을 부가시켜 얻어지는 에폭시 부가물과 다염기산무수물을 반응시켜 얻어지는 생성물인 감광성 수지 조성물에 관한 것으로서, 노광 전 후 현상액에 대한 충분한 용해도를 통해 10~100μm의 사이즈를 가지는 라인과 도트를 형성할 수 있고, 형성된 라인과 도트들의 유전율이 8 이하의 값을 가지면서도 광학밀도가 단위 μm 당 1.0 이상의 차광성을 유지하는 차광층을 제조할 수 있는 감광성 수지 조성물을 제공할 수 있다.
Abstract:
본 발명은 액정 디스플레이 장치의 차광에 사용되는 블랙매트릭스 제조용 저유전성 감광성 수지 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 제 1 중합체와 하기 화학식 2로 표시되는 제 2 중합체를 포함하며, 6이하의 저유전성의 전기적 특성과 2이상의 광학밀도를 구현하는 그리고 노광 전후의 현상에 대한 충분한 용해도를 가지며 10um정도의 마이크로 홀 패턴이 구현되는 고해상도, 현상 마진 및 밀착성이 우수한 블랙매트릭스 제조용 저유전성 감광성 수지 조성물 및 그로부터 제조되는 블랙매트릭스에 관한 것이다. [화학식 1]
Abstract:
PURPOSE: A coloring dispersed solution and a photosensitive resing composition is provided to give an excellent dielectrict constant and elastic recovery rate with especially an excellent chemical resistance black matrix and black column spacer with an excellent resolution and storage stability. CONSTITUTION: A coloring dispersed solution comprises (a) copolymerization unit of chemical formula 1 and a copolymerization uni of chemical formula 2, and a copolymer including 1 or more of copolymerization unit comprised with a chemical formula 3 and 4, (b) dispersing agne, (c) pgment, and (d) solvent. Also the photosensitive resin composition comprises the coloring dispersed solution, alkali soluble resin, polyfuncitonal monomer, photopolymerization initiator, and solvent. The alkali soluble resin polymerizes (meth) acrylic acid, N-substituted maleimid group monomer, and styrene group monomer.
Abstract:
PURPOSE: Photopolymerizable unsaturated resin is provided to provide a block-shielding spacer with excellent resolution and elastic restitution while having a low dielectric constant. CONSTITUTION: Photopolymerizable unsaturated resin is a product which is obtained by reacting an epoxy adduct, which is obtained by reacting epoxy resin indicated in chemical formula 1 with an unsaturated basic acid, with a polybasic acid anhydride. A photosensitive resin composition comprises the photopolymerizable unsaturated resin, a functional monomer which has one or more ethylenically unsaturated bonds, a polymerization initiator, a black organic pigment, and a solvent. The black organic pigment includes one or more selected from a group consisting of aniline black, lactam black, and perylene black.