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公开(公告)号：KR1020140092068A
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：KR1020130004348
申请日：2013-01-15
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/202
Abstract: The present invention relates to a positive type photosensitive resin composition which comprises: copolymers (1) including an organization unit (1-1) induced from an unsaturated monomer containing a carboxyl group, an organization unit (1-2) induced from an unsaturated monomer containing a phenolic hydroxyl group, an organization unit (1-3) induced from an unsaturated monomer containing a lactone group and an organization unit (1-4) induced from an unsaturated monomer different from the organization unit (1-1) through the organization unit (1-3); and a photoresist (2), and to a cured film manufactured thereby. The positive type photosensitive resin composition of the present invention has excellent sensitivity and high normalized thickness after post cure and provides high pattern formability, thereby being usefully applied in manufacture of an insulation film for a liquid crystal display.
Abstract translation: 本发明涉及一种正型感光性树脂组合物，其包含：包含由含有羧基的不饱和单体引发的组织单元（1-1）的共聚物（1），由不饱和单体引发的组织单元（1-2） 含有酚羟基的组合单元（1-3），由含有内酯基团的不饱和单体引发的组织单元（1-3）和由不同于组织单元（1-1）的不饱和单体引发的组织单元（1-4） 单位（1-3）; 和光致抗蚀剂（2），以及由其制成的固化膜。 本发明的正型感光性树脂组合物在后固化后具有优异的灵敏度和高标准化厚度，并提供高图案成形性，从而可用于制造液晶显示器用绝缘膜。
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公开(公告)号：KR1020140069944A
公开(公告)日：2014-06-10
申请号：KR1020120137843
申请日：2012-11-30
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/004 , G03F7/0226 , G03F7/023 , G03F7/0233 , G03F7/039 , G03F7/0758 , G03F7/40
Abstract: The present invention relates to a positive photosensitive resin composition and a cured film manufactured therefrom. The positive photosensitive resin composition of the present invention comprises (1) a copolymer including (1-1) a constituent unit derived from carboxyl-containing unsaturated monomer, (1-2) a constituent unit derived from unsaturated monomer including at least one epoxy group, and (1-3) a constituent unit derived from divinyl monomer including acetal backbone; (2) a quinonediazide based photoactive compound; and (3) a photoacid generator. The positive photosensitive resin compound of the present invention has excellent sensitivity and a high retention rate after development and post-cure, and provides a high pattern formation, so as to be useful in manufacturing an insulator film for a liquid crystal display device.
Abstract translation: 本发明涉及正型感光性树脂组合物及其制造的固化膜。 本发明的正型感光性树脂组合物包含（1）包含（1-1）来自含羧基的不饱和单体的构成单元的共聚物，（1-2）来自含有至少一个环氧基的不饱和单体的构成单元 ，（1-3）衍生自包含缩醛骨架的二乙烯基单体的构成单元; （2）基于醌二叠氮化物的光敏化合物; 和（3）光致酸发生剂。 本发明的正型感光性树脂化合物在显影和后固化之后具有优异的灵敏度和高的保留率，并且提供高图案形成，从而可用于制造用于液晶显示装置的绝缘膜。
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公开(公告)号：KR101327036B1
公开(公告)日：2013-11-07
申请号：KR1020120001962
申请日：2012-01-06
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
Abstract: 본 발명은 하기의 화학식 1의 중합단위와 화학식 2의 중합단위를 포함하고, 화학식 3 및 화학식 4로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1 종 이상의 중합단위를 더 포함하는 공중합체를 포함하는 착색 분산액, 감광성 수지 조성물, 및 이로부터 제조된 블랙 매트릭스 및 블랙 컬럼 스페이서를 제공한다. 본 발명의 착색 분산액과 감광성 수지 조성물은 저장안정성, 해상도가 우수하고, 이로부터 제조된 블랙 매트릭스 및 블랙 컬럼 스페이서는 유전율, 탄성회복율이 우수하고, 내화학성이 특히 우수하다.
[화학식 1]
[화학식 2]
[화학식 3]
[화학식 4]
상기 화학식 1 내지 4에서,
R
1 은 수소, 메틸기, 에틸기 또는 히드록시메틸기이고, R
2 는 수소, 또는 R
3 과 5원 고리의 카르복실산 무수물 또는 이미드 구조를 형성하는 기이고, R
3 는 R
2 와 5원 고리의 카르복실산 무수물 또는 이미드 구조를 형성하는 기; C
2 -C
12 알킬에스테르; C
1 -C
6 알킬아미드; 히드록시기, C
1 -C
3 알콕시기, 할로겐, 에폭시기, 글리시독시기 및 페닐기로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 치환체로 치환된 C
2 -C
6 알킬에스테르; 글리시독시기로 치환된 C
1 -C
6
알킬; C
1 -C
6 알킬기, C
1 -C
6 알콕시기, 할로겐 및 히드록시기로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 치환체로 치환되거나 치환되지 않은 C
6 -C
12 아릴기; 및 C
5 -C
15
시클로알킬에스테르로 이루어진 그룹으로부터 선택되고, R
4 는 C
1 -C
12 알킬렌기 및 할로겐으로 치환된 C
1 -C
6 알킬렌기로 이루어진 그룹으로부터 선택되고, R
5 및 R
6 는 각각 독립적으로 C
1 -C
12 알킬렌기 및 할로겐으로 치환된 C
1 -C
6 알킬렌기로 이루어진 그룹으로부터 선택되고, a는 5 내지 50의 정수이고, b는 1 내지 60의 정수이며, c는 5 내지 60의 정수이고, d는 5 내지 60의 정수이다.-
公开(公告)号：KR1020120103212A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：KR1020110021350
申请日：2011-03-10
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/027 , C07D207/08 , C07D231/18 , C07D409/12 , C07D417/12 , C09B11/24 , G02B5/223 , G03F7/0007 , G03F7/028
Abstract: PURPOSE: A composition for a photo-sensitive resin, a low dielectric constant light shielding layer using the same, and a liquid crystal display device are provided to adjust the generation of stepped parts due to a thermal treating process. CONSTITUTION: A composition for a photo-sensitive resin includes a photopolymerizable unsaturated binder resin, an ethylenically unsaturated bond containing functional monomer, a polymerization initiator, a block organic mixed pigment, and a solvent. The photopolymerizable unsaturated binder resin is obtained by reacting an epoxy adduct and a polybasic acid anhydride. The epoxy adduct is obtained by adding unsaturated basic acid to an epoxy resin represented by chemical formula 1. A light shielding layer includes a film based on the composition.
Abstract translation: 目的：提供用于感光树脂的组合物，使用该组合物的低介电常数遮光层和液晶显示装置，以调节由热处理工艺产生的台阶部件。 构成：光敏树脂用组合物包括光聚合性不饱和粘合剂树脂，含有烯属不饱和键的官能单体，聚合引发剂，嵌段有机混合颜料和溶剂。 可光聚合的不饱和粘合剂树脂通过环氧加合物和多元酸酐反应获得。 通过将不饱和碱性酸添加到由化学式1表示的环氧树脂中而获得环氧加成物。遮光层包括基于组合物的膜。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：KR101323562B1
公开(公告)日：2013-10-29
申请号：KR1020110021350
申请日：2011-03-10
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
Abstract: 본 발명은 광중합성 불포화 바인더 수지, 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 관능성 모노머, 중합 개시제, 흑색 유기 혼합 안료 및 용제를 포함하고, 상기 광중합성 불포화 바인더 수지는 에폭시 수지에 불포화 염기산을 부가시켜 얻어지는 에폭시 부가물과 다염기산무수물을 반응시켜 얻어지는 생성물인 감광성 수지 조성물에 관한 것으로서, 노광 전 후 현상액에 대한 충분한 용해도를 통해 10~100μm의 사이즈를 가지는 라인과 도트를 형성할 수 있고, 형성된 라인과 도트들의 유전율이 8 이하의 값을 가지면서도 광학밀도가 단위 μm 당 1.0 이상의 차광성을 유지하는 차광층을 제조할 수 있는 감광성 수지 조성물을 제공할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020110112973A
公开(公告)日：2011-10-14
申请号：KR1020100032243
申请日：2010-04-08
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/033 , C08F2/50 , G02B1/04 , G03F7/0007 , G03F7/027 , G03F7/028 , G03F7/031 , G03F7/032 , G03F7/0388
Abstract: 본 발명은 액정 디스플레이 장치의 차광에 사용되는 블랙매트릭스 제조용 저유전성 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 제 1 중합체와 하기 화학식 2로 표시되는 제 2 중합체를 포함하며, 6이하의 저유전성의 전기적 특성과 2이상의 광학밀도를 구현하는 그리고 노광 전후의 현상에 대한 충분한 용해도를 가지며 10um정도의 마이크로 홀 패턴이 구현되는 고해상도, 현상 마진 및 밀착성이 우수한 블랙매트릭스 제조용 저유전성 감광성 수지 조성물 및 그로부터 제조되는 블랙매트릭스에 관한 것이다.
[화학식 1]
[화학식 2]-
公开(公告)号：KR1020100033603A
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：KR1020080092556
申请日：2008-09-22
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/033 , G03F7/0007
Abstract: PURPOSE: An alkaline developable super-hydrophobic photosensitive material is provided to be suitable for a partition forming pixels inside LCD cell in an LCD manufacturing process using an ink jet process. CONSTITUTION: An alkaline developable super-hydrophobic photosensitive material for a pixel diaphragm of LCD comprises: (A) a first polymer consisting of (a1) 10~70 weight% radical responsiveness monomer having C4~C30 cyclic or acyclic saturated or unsaturated alkyl group, aryl group, alkylaryl group or alkylaryl group substituents, (a2) ~40 weight% at least one monomer selected from (meth)acrylate, vinyl alcohol, and vinyl thiol, (a3) 5~40 weight% (meth)acrylate with (meth)acryl group or 3-acryloyloxy-2-hydroxypropyl group as a terminated group, and (a4) 5~30 weight% radical responsive monomer with fluorine-substituted C4~C30 cyclic or acyclic saturated or unsaturated alkyl group, aryl group, alkylaryl group or alkylaryl group substituents; (B) 50 ~ 120 parts by weight of multifunctional (meth)acrylate monomer; and (C) 1 ~ 20 parts by weight of a photoinitiator. 50 ~ 1000 parts by weight of solvent is included.
Abstract translation: 目的：提供一种碱性可显影超疏水感光材料，适用于在使用喷墨工艺的LCD制造工艺中形成LCD单元内部的像素的分隔。 构成：用于LCD的像素隔膜的碱显影性超疏水感光材料包括：（A）由（a1）10〜70重量％的具有C 4〜C 30环状或非环状饱和或不饱和烷基的自由基反应性单体组成的第一聚合物， 芳基，烷基芳基或烷基芳基取代基，（a2）〜40重量％的至少一种选自（甲基）丙烯酸酯，乙烯醇和乙烯基硫醇的单体，（a3）5〜40重量％（甲基） ）丙烯酰基或3-丙烯酰氧基-2-羟丙基作为端基，和（a4）5〜30重量％的具有氟取代的C4〜C30环状或非环状饱和或不饱和烷基的自由基反应性单体，芳基，烷基芳基 或烷芳基取代基; （B）50〜120重量份多官能（甲基）丙烯酸酯单体; 和（C）1〜20重量份的光引发剂。 包括50〜1000重量份的溶剂。
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公开(公告)号：KR101976210B1
公开(公告)日：2019-05-07
申请号：KR1020120099965
申请日：2012-09-10
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , H01L21/027
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