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公开(公告)号：KR101038479B1
公开(公告)日：2011-06-02
申请号：KR1020047016139
申请日：2003-04-09
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor： 멜니츄크스티븐티. , 파르틀로윌리암엔. , 포멘코프이고르브이. , 올리버아이로저 , 네스리차드엠. , 보워링노버트 , 코디킨올레 , 레티그커티스엘. , 브루멘스톡게리엠 , 다이어티모시에스. , 시몬스로드니디. , 호프만저지알. , 존슨알마크
CPC classification number: H05G2/003 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , G03F7/70166 , G03F7/70175 , G03F7/70916 , H01S3/005 , H05G2/005 , H05G2/008 , H05H1/06
Abstract: 신뢰성있고, 고반복율을 갖는, 제조라인에 알맞는 고에너지 포톤 소스로서, 소망하는 극자외선(EUV) 파장 범위내의 방사 라인을 갖는 원자 엘리먼트를 함유하는 핫 플라즈마는 진공 펌프에서 산출된다. EUV 광원은 유닛은 스테퍼 머신과 같은 리소그래피에 직접적으로 통합된다. 통합된 부품들로는 부재 번호 120으로 표기된 것에 모두 나타난, 정류자, 고체-상태 펄스 파워 유닛의 압축 헤드 및 진공 베셀을 포함한다. 지원 장비는 지원 장비 캐비넷(122)에 위치되고, 러프 진공 펌프 및 고압 워터 펌프는 제3 캐비넷(124)에 위치된다. 상기 펄스 파워 유닛은 버스트 기준으로 20 와트를 초과하고 연속 기준으로 5 와트를 초과하는 비율로 EUV 광을 중간 포커스에 산출하기에 충분한 전위 및 충분한 에너지를 갖는 전기 펄스를 제공한다.
극자외선(EUV), 리소그래피, 펄스 파워, 핫 플라즈마, 활성 재료, 스퍼터링-
公开(公告)号：KR1020040108718A
公开(公告)日：2004-12-24
申请号：KR1020047016139
申请日：2003-04-09
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor： 멜니츄크스티븐티. , 파르틀로윌리암엔. , 포멘코프이고르브이. , 올리버아이로저 , 네스리차드엠. , 보워링노버트 , 코디킨올레 , 레티그커티스엘. , 브루멘스톡게리엠 , 다이어티모시에스. , 시몬스로드니디. , 호프만저지알. , 존슨알마크
CPC classification number: H05G2/003 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , G03F7/70166 , G03F7/70175 , G03F7/70916 , H01S3/005 , H05G2/005 , H05G2/008 , H05H1/06
Abstract: 신뢰성있고, 고반복율을 갖는, 제조라인에 알맞는 고에너지 포톤 소스로서, 소망하는 극자외선(EUV) 파장 범위내의 방사 라인을 갖는 원자 엘리먼트를 함유하는 핫 플라즈마는 진공 펌프에서 산출된다. EUV 광원은 유닛은 스테퍼 머신과 같은 리소그래피에 직접적으로 통합된다. 통합된 부품들로는 부재 번호 120으로 표기된 것에 모두 나타난, 정류자, 고체-상태 펄스 파워 유닛의 압축 헤드 및 진공 베셀을 포함한다. 지원 장비는 지원 장비 캐비넷(122)에 위치되고, 러프 진공 펌프 및 고압 워터 펌프는 제3 캐비넷(124)에 위치된다. 상기 펄스 파워 유닛은 버스트 기준으로 20 와트를 초과하고 연속 기준으로 5 와트를 초과하는 비율로 EUV 광을 중간 포커스에 산출하기에 충분한 전위 및 충분한 에너지를 갖는 전기 펄스를 제공한다.
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