公开(公告)号：KR101038479B1

公开(公告)日：2011-06-02

申请号：KR1020047016139

申请日：2003-04-09

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 멜니츄크스티븐티. ,  파르틀로윌리암엔. ,  포멘코프이고르브이. ,  올리버아이로저 ,  네스리차드엠. ,  보워링노버트 ,  코디킨올레 ,  레티그커티스엘. ,  브루멘스톡게리엠 ,  다이어티모시에스. ,  시몬스로드니디. ,  호프만저지알. ,  존슨알마크

IPC: H05H1/04 ,  H05H1/34 ,  G01J1/00

CPC classification number: H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70916 ,  H01S3/005 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008 ,  H05H1/06

Abstract: 신뢰성있고, 고반복율을 갖는, 제조라인에 알맞는 고에너지 포톤 소스로서, 소망하는 극자외선(EUV) 파장 범위내의 방사 라인을 갖는 원자 엘리먼트를 함유하는 핫 플라즈마는 진공 펌프에서 산출된다. EUV 광원은 유닛은 스테퍼 머신과 같은 리소그래피에 직접적으로 통합된다. 통합된 부품들로는 부재 번호 120으로 표기된 것에 모두 나타난, 정류자, 고체-상태 펄스 파워 유닛의 압축 헤드 및 진공 베셀을 포함한다. 지원 장비는 지원 장비 캐비넷(122)에 위치되고, 러프 진공 펌프 및 고압 워터 펌프는 제3 캐비넷(124)에 위치된다. 상기 펄스 파워 유닛은 버스트 기준으로 20 와트를 초과하고 연속 기준으로 5 와트를 초과하는 비율로 EUV 광을 중간 포커스에 산출하기에 충분한 전위 및 충분한 에너지를 갖는 전기 펄스를 제공한다.
극자외선(EUV), 리소그래피, 펄스 파워, 핫 플라즈마, 활성 재료, 스퍼터링

公开(公告)号：KR1020060125905A

公开(公告)日：2006-12-06

申请号：KR1020067019063

申请日：2005-03-03

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 파르틀로윌리암엔. ,  브라운다니엘제이.더블유. ,  포멘코프이고르브이. ,  보워링노버트알. ,  레티그커티스엘. ,  맥팔레인조셉제. ,  어쇼프알렉산더아이. ,  한손비요른에이엠.

IPC: G01J1/00 ,  G03F7/20 ,  H01J35/20 ,  H01J65/04

CPC classification number: H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  H01S3/0085 ,  H01S3/0092 ,  H01S3/1611 ,  H01S3/1653 ,  H01S3/2255 ,  H01S3/2325 ,  H01S3/2375 ,  H01S3/2383 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008

Abstract: An LPP EUV light source (20) comprises a laser initial target irradiation pulse generating mechanism (60) for irradiating a plasma initiation target (94) with an initial target irradiation pulse (55) to form an EUV generating plasma (30) having an emission region emitting in-band EUV light (40); a laser plasma irradiation pulse generating mechanism (72) for irradiating the plasma (30) with a plasma irradiation pulse (76) after the initial target irradiation pulse (55) to compress emission material in the plasma (30).

Abstract translation: LPP EUV光源（20）包括激光初始靶照射脉冲发生机构（60），用于用初始靶照射脉冲（55）照射等离子体引发靶（94）以形成具有发射的EUV产生等离子体（30） 区域发射带内EUV光（40）; 用于在初始目标照射脉冲（55）之后用等离子体照射脉冲（76）照射等离子体（30）以压缩等离子体（30）中的发射材料的激光等离子体照射脉冲产生机构（72）。

公开(公告)号：KR1020040108718A

公开(公告)日：2004-12-24

申请号：KR1020047016139

申请日：2003-04-09

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 멜니츄크스티븐티. ,  파르틀로윌리암엔. ,  포멘코프이고르브이. ,  올리버아이로저 ,  네스리차드엠. ,  보워링노버트 ,  코디킨올레 ,  레티그커티스엘. ,  브루멘스톡게리엠 ,  다이어티모시에스. ,  시몬스로드니디. ,  호프만저지알. ,  존슨알마크

IPC: H05H1/04 ,  H05H1/34 ,  G01J1/00

CPC classification number: H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70916 ,  H01S3/005 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008 ,  H05H1/06

Abstract: 신뢰성있고, 고반복율을 갖는, 제조라인에 알맞는 고에너지 포톤 소스로서, 소망하는 극자외선(EUV) 파장 범위내의 방사 라인을 갖는 원자 엘리먼트를 함유하는 핫 플라즈마는 진공 펌프에서 산출된다. EUV 광원은 유닛은 스테퍼 머신과 같은 리소그래피에 직접적으로 통합된다. 통합된 부품들로는 부재 번호 120으로 표기된 것에 모두 나타난, 정류자, 고체-상태 펄스 파워 유닛의 압축 헤드 및 진공 베셀을 포함한다. 지원 장비는 지원 장비 캐비넷(122)에 위치되고, 러프 진공 펌프 및 고압 워터 펌프는 제3 캐비넷(124)에 위치된다. 상기 펄스 파워 유닛은 버스트 기준으로 20 와트를 초과하고 연속 기준으로 5 와트를 초과하는 비율로 EUV 광을 중간 포커스에 산출하기에 충분한 전위 및 충분한 에너지를 갖는 전기 펄스를 제공한다.

公开(公告)号：KR1020040032991A

公开(公告)日：2004-04-17

申请号：KR1020047003079

申请日：2002-08-16

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 왓슨톰에이. ,  우자즈도우스키리차드씨. ,  이바스첸코알렉스피. ,  샤논로버트에이. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  웨브로버트카일 ,  팔렌스차트프레데릭에이. ,  호프만토마스 ,  레티그커티스엘. ,  네스리차드엘. ,  멜체르폴씨. ,  에르쇼브알렉산더아이.

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/0385 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70333 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/02 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/1024 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: 본원발명은 초당 6,000-10,000 펄스 범위의 반복률에서 프로덕션 라인 커패시티내의 신뢰가능한 장기간 동작가능한 가스 방전 레이저 시스템을 제공한다. 바람직한 실시예는 포토리소그래피에 사용된 KrF, ArF, F
2 레이저로 구성되어 있다. 개선점에는 가스 플로를 증가시키기 위해 애노드(542) 바로 옆에 흡입 팬(555)이 포함된다. 팬(555)의 흡입구는 애노드(542)와 절연 스페이서(544B) 사이에 있다.

Abstract translation: 本发明提供了气体放电激光系统，其能够以6,000至10,0000个脉冲功率秒的重复率在生产线中进行可靠的长期操作。 优选实施例被配置为用于集成电路光刻的光源的KrF，ArF和F＆amp; SUB＆lt; /＆gt;激光器。 改进包括改进的高压电源，其能够将磁压缩脉冲电力系统的初始电容器充电至每秒6,000至10,0000次的精确目标电压，以及用于监测脉冲能量并且确定脉冲宽度调制器上的目标电压的反馈控制器， 逐个脉冲的基础。 公开了若干技术用于在放电之间的间隔期间从激光电极之间的放电区域去除放电产生的碎屑。 在一个实施例中，放电区域的宽度从大约3mm减小到大约1mm，使得针对4000Hz操作设计的气体循环系统可以用于10,000Hz操作。 在其他实施例中，电极之间的气流充分增加以允许10,000Hz的操作，放电区域宽度为3mm。 为了提供这些实质上增加的气体流速，申请人已经公开了利用现有技术的切向形式的优选实施例，但是具有改进的和更强大的电动机以及新颖的轴承设计。 新的轴承设计包括陶瓷轴承和磁性轴承。 在其他实施例中，气体循环功率中的一些或全部设置有位于激光室外部的鼓风机。 外部鼓风机可以位于激光柜内或分开的位置。

公开(公告)号：KR100940782B1

公开(公告)日：2010-02-11

申请号：KR1020047003801

申请日：2002-09-06

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 모르톤리차드지. ,  다이어티모시에스. ,  스테이거토마스디. ,  우자즈도우스키리차드씨. ,  왓슨톰에이. ,  무스만브라이언 ,  이바스첸코알렉스피. ,  길레스피에왈터디 ,  레티그커티스엘.

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/038 ,  H01S3/036 ,  H01S3/0381 ,  H01S3/0388 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/225

Abstract: The present invention provides a gas discharge laser having at least one long-life elongated electrode for producing at least 12 billion high voltage electric discharges in a fluorine containing laser gas. In a preferred embodiment at least one of the elctrodes is comprised of a first material having a relatively low anode erosion rate and a second anode material having a relatively higher anode erosion rate. The first anode material is positioned at a desired anode discharge region of the electrode. The second anode material is located adjacent to the first anode material along at least two long sides of the first material. During operation of the laser erosion occurs on both materials but the higher ero sion rate of the second material assures that any tendency of the discharge to spread onto the second material will quickly erode away the second material enough to stop the spread of the discharge. In a preferred embodiment the anode is as described above and the cathode is also a two-material electrode with the first material electrode with the first material at the discharge region being C26000 brass and the second material being C36000 brass. A pulse power system provides electrical pulses at rates of at least 1 KHz. A blower circulates laser gas between the electrodes at speeds of at least 5 m/s and a heat exchanger is provided to remove heat produced by the blower and the discharges.

公开(公告)号：KR100906112B1

公开(公告)日：2009-07-07

申请号：KR1020047003079

申请日：2002-08-16

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 왓슨톰에이. ,  우자즈도우스키리차드씨. ,  이바스첸코알렉스피. ,  샤논로버트에이. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  웨브로버트카일 ,  팔렌스차트프레데릭에이. ,  호프만토마스 ,  레티그커티스엘. ,  네스리차드엘. ,  멜체르폴씨. ,  에르쇼브알렉산더아이.

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/0385 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70333 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/02 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/1024 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: 본원발명은 초당 6,000-10,000 펄스 범위의 반복률에서 프로덕션 라인 커패시티내의 신뢰가능한 장기간 동작가능한 가스 방전 레이저 시스템을 제공한다. 바람직한 실시예는 포토리소그래피에 사용된 KrF, ArF, F
2 레이저로 구성되어 있다. 개선점에는 가스 플로를 증가시키기 위해 애노드(542) 바로 옆에 흡입 팬(555)이 포함된다. 팬(555)의 흡입구는 애노드(542)와 절연 스페이서(544B) 사이에 있다.
챔버, 레이저, 반복률, 피드백, 엑시머, 광원

公开(公告)号：KR1020040031790A

公开(公告)日：2004-04-13

申请号：KR1020047003801

申请日：2002-09-06

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 모르톤리차드지. ,  다이어티모시에스. ,  스테이거토마스디. ,  우자즈도우스키리차드씨. ,  왓슨톰에이. ,  무스만브라이언 ,  이바스첸코알렉스피. ,  길레스피에왈터디 ,  레티그커티스엘.

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/038 ,  H01S3/036 ,  H01S3/0381 ,  H01S3/0388 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/225

Abstract: 본원발명은 불소 함유 레이저 가스에서 적어도 120억의 고전압 전기 방전을 발생시키는 적어도 하나의 긴 수명의 기다란 전극을 갖는 가스 방전 레이저를 제공한다. 바람직한 실시예에 있어서, 전극 중 적어도 하나는 상대적으로 낮은 애노드 부식률을 갖는 제1 재료 및 상대적으로 더 높은 애노드 부식률을 갖는 제2 애노드 재료로 이루어져 있다. 제1 애노드 재료는 전극의 소망 애노드 방전 영역에 위치결정된다. 제2 애노드 재료는 제1 재료의 적어도 2개의 긴 사이드를 따라 제1 애노드 재료에 인접하여 위치된다. 레이저의 동작동안 재료 모두에 부식이 일어나지만 제2 재료의 더 높은 부식률은 제2 재료로 스프레딩하는 임의의 방전 경향이 방전의 스프레드를 중지하기에 충분하도록 제2 재료를 급속하게 부식시키는 것을 보증한다. 바람직한 실시예에 있어서, 애노드는 상기된 바와 같고, 또한, 캐소드는 방전 영역의 제1 재료는 C26000 황동이고 제2 재료는 C36000 황동인 2재료의 전극이다. 펄스 전력 시스템은 적어도 1KHz의 펄스율로 전기 펄스를 제공한다. 블로워는 적어도 5m/s의 속도로 전극 사이의 레이저 가스를 순환시키고 열교환기는 블로워 및 방전에 의해 발생된 열을 제거하도록 제공된다.

Abstract translation: 本发明提供一种气体放电激光器，其具有至少一个长寿命细长电极，用于在含氟激光气体中产生至少120亿次高压放电。 在优选实施例中，至少一个电极由具有相对较低的阳极侵蚀速率的第一材料和具有相对较高的阳极侵蚀速率的第二阳极材料组成。 第一阳极材料位于电极的期望的阳极放电区域处。 第二阳极材料沿着第一材料的至少两个长边位于第一阳极材料附近。 在两种材料上发生激光侵蚀的操作过程中，第二种材料的较高侵蚀速率确保了放电扩散到第二种材料上的任何趋势将迅速侵蚀掉第二种材料，足以阻止放电扩散。 在一个优选的实施方案中，阳极如上所述，并且阴极也是双​​材料电极，其中第一材料电极的第一材料在放电区域为C26000黄铜，第二材料为C36000黄铜。 脉冲功率系统以至少1KHz的速率提供电脉冲。 吹风机以至少5m / s的速度在电极之间循环激光气体，并且提供热交换器以去除由鼓风机和排出物产生的热量。