Abstract:
본 발명은 투과영역을 포함하는 투명 기판; 상기 투과영역을 제외한 투명기판의 후면(後面)에 위치하는 반사막 패턴; 및 상기 투명기판의 전면(前面) 및 후면(後面) 중 적어도 어느 하나의 면에 위치하는 스캐터링(scattering)부를 포함하고, 상기 스캐터링(scattering)부는 상기 반사막 패턴과 대응되는 위치에 형성되는 마스크 및 이를 이용한 유기전계발광표시장치의 제조방법을 제공한다. 따라서, 본 발명은 도너기판에 정확한 레이저의 조사가 가능할 뿐만 아니라, 마스크에 의해 레이저 빔이 반사되어 레이저 발생기를 손상시키는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.
Abstract:
본 발명은 레이저 열 전사용 도너기판, 그의 제조방법 및 그를 이용한 유기전계발광표시장치의 제조방법을 제공하는 것으로써, 기재필름; 기재필름 상에 위치하는 광-열 변환층; 상기 광-열 변환층 상에 위치하는 전사층; 상기 전사층을 포함하는 기재필름 상부에 위치하는 보호용 필름을 포함하며, 상기 보호용 필름은 기재필름과 가장자리의 일부만 부착되어 봉투형태를 이루는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사용 도너 기판을 제공한다. 도너기판, 레이저 열 전사법
Abstract:
PURPOSE: A donor substrate for LITI(Laser Induced Thermal Imaging), a manufacturing method thereof, and a method for manufacturing an organic light emitting display device using the same are provided to prevent the deterioration of a device due to the contamination of a light emitting layer or organic layer by performing the LITI in a vacuum state. CONSTITUTION: A donor substrate for LITI includes a base film(100), a light-heat conversion layer(102), a transfer layer(105), and a protective film(150). The light-heat conversion layer is formed on a base film. A transfer layer is formed on the light-heat conversion layer. A protective film is formed on the base film including the transfer layer. The edge of the protective film is attached to the edge of the base film to make an envelope shape. The protective film is a vacuum packaging film.
Abstract:
본 발명은 추가적인 열처리 공정을 통하여 레이저 전사법에 사용되는 도너 필름의 표면 균일도를 향상시켜 제품의 수명 향상 및 불량률 감소가 가능하도록 된 표면 균일도 향상을 위한 도너 필름 가공방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 표면 균일도 향상을 위한 도너 필름 가공방법은 기재 필름, 광-열 변환층 및 유기막이 포함된 도너 필름이 제공되는 준비단계; 상기 도너 필름을 열처리하는 가열단계; 및 상기 열처리된 도너 필름을 냉각시키는 냉각단계;로 이루어져, 도너 필름의 표면 균일도를 향상시켜 레이저 전사 공정이 이루어지는 영역 상에 레이저의 불균일 분포 해소가 가능함으로서, 전사되는 유기막의 과전사, 미전사 등을 방지하고, 전사되는 유기막과 억셉터 기판과의 접착력 불균일을 방지하여, 제품 수명 향상, 불량률 감소 및 고품질화를 이룰 수 있다. 레이저 전사, 도너 필름, 기재 필름, 표면 균일도, 열처리
Abstract:
PURPOSE: A laser heat transfer mask and a method for manufacturing an organic electroluminescence light emitting device using the same are provided to include a reflective film pattern on the rear surface of a transparent substrate, thereby accurately irradiating a laser on a donor substrate. CONSTITUTION: A transparent substrate(300) comprises a light transmission area(300a). A reflective film pattern(310) is arranged on the rear surface of the transparent substrate except for the light transmission area. The reflective film pattern is made of metal materials. A scattering unit(320) is arranged on one of the frontal surface or the rear surface of the transparent substrate. The scattering unit is formed on the location corresponding to the reflective film pattern.
Abstract:
본 발명은 추가적인 열처리 공정을 통하여 레이저 전사법에 사용되는 도너 필름의 표면 균일도를 향상시켜 제품의 수명 향상 및 불량률 감소가 가능하도록 된 표면 균일도 향상을 위한 도너 필름 가공방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 표면 균일도 향상을 위한 도너 필름 가공방법은 기재 필름, 광-열 변환층 및 유기막이 포함된 도너 필름이 제공되는 준비단계; 상기 도너 필름을 열처리하는 가열단계; 및 상기 열처리된 도너 필름을 냉각시키는 냉각단계;로 이루어져, 도너 필름의 표면 균일도를 향상시켜 레이저 전사 공정이 이루어지는 영역 상에 레이저의 불균일 분포 해소가 가능함으로서, 전사되는 유기막의 과전사, 미전사 등을 방지하고, 전사되는 유기막과 억셉터 기판과의 접착력 불균일을 방지하여, 제품 수명 향상, 불량률 감소 및 고품질화를 이룰 수 있다. 레이저 전사, 도너 필름, 기재 필름, 표면 균일도, 열처리