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公开(公告)号：KR101073559B1
公开(公告)日：2011-10-17
申请号：KR1020090097435
申请日：2009-10-13
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
CPC classification number: H01L51/0013 , C23C14/048
Abstract: 따라서, 본발명은레이저전사용도너기판에서중간층과전사층또는광열변환층과전사층사이에버퍼층을형성함으로써도너기판과전사물질의표면특성을향상시킬수 있는효과가있다.
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公开(公告)号：KR1020100022701A
公开(公告)日：2010-03-03
申请号：KR1020080081346
申请日：2008-08-20
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
CPC classification number: H01L51/0013 , H01L51/0014 , H01L51/56 , H01L2924/12044
Abstract: PURPOSE: A device for manufacturing a donor film is provided to reduce a weight of the donor film by horizontally maintaining a base film inside an evaporator without a tray. CONSTITUTION: A chamber(1) includes a deposition chamber(30) and a storage chamber(20). A first compressor(100) moves to a first direction inside the deposition chamber and is horizontally positioned on a gate between the deposition chamber and the storage chamber. A second compressor(200) is positioned on the deposition chamber which is adjacent to the gate and includes a cutter. An evaporator(300) is positioned under the deposition chamber and evaporates a transfer material on the base film.
Abstract translation: 目的：提供用于制造供体膜的装置，以通过水平地将基膜保持在没有托盘的蒸发器内部来减小施主膜的重量。 构成：室（1）包括沉积室（30）和储存室（20）。 第一压缩机100移动到沉积室内的第一方向，并且水平地定位在沉积室和存储室之间的浇口上。 第二压缩机（200）位于沉积室上，其邻近门并包括切割器。 蒸发器（300）位于沉积室下方并蒸发基膜上的转印材料。
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公开(公告)号：KR1020110093092A
公开(公告)日：2011-08-18
申请号：KR1020100012918
申请日：2010-02-11
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
IPC: H01L51/56
CPC classification number: B41M3/003 , B41M3/00 , H01L51/0013
Abstract: PURPOSE: A laser heat transfer mask and a method for manufacturing an organic electroluminescence light emitting device using the same are provided to include a reflective film pattern on the rear surface of a transparent substrate, thereby accurately irradiating a laser on a donor substrate. CONSTITUTION: A transparent substrate(300) comprises a light transmission area(300a). A reflective film pattern(310) is arranged on the rear surface of the transparent substrate except for the light transmission area. The reflective film pattern is made of metal materials. A scattering unit(320) is arranged on one of the frontal surface or the rear surface of the transparent substrate. The scattering unit is formed on the location corresponding to the reflective film pattern.
Abstract translation: 目的：提供激光传热掩模和使用其的有机电致发光器件的制造方法，以在透明基板的背面上包括反射膜图案，从而在供体基板上精确地照射激光。 构成：透明基板（300）包括透光区域（300a）。 反射膜图案（310）布置在除了透光区域之外的透明基板的后表面上。 反射膜图案由金属材料制成。 散射单元（320）布置在透明基板的前表面或后表面之一上。 散射单元形成在与反射膜图案对应的位置上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101009644B1
公开(公告)日：2011-01-19
申请号：KR1020080083345
申请日：2008-08-26
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
CPC classification number: B41M5/38214 , B41M5/38228 , B41M5/385 , B41M5/42 , B41M2205/38 , H01L51/0013 , Y02E10/549
Abstract: 본 발명은 발광층과 광열변환층 사이에 최저 비점유 분자 궤도(lowest unoccupied molecular orbital:LUMO) 에너지 준위의 절대값이 2.6 내지 3.0eV이며, 밴드갭 에너지가 2.8 내지 3.4eV인 유기물, 무기물 또는 이들의 이중층으로 이루어진 제 1 전사층 또는 버퍼층을 형성함으로써, 전사되는 발광층이 열에 의해 손상되어 표면에 링클이 생기는 것을 방지할 수 있으며, 또한 상기 발광층을 이루는 재료에 따른 전사 특성의 차이를 상기 제 1 전사층 또는 상기 버퍼층을 도입하여 제어할 수 있게 됨으로써 발광층을 이루는 재료를 다양하게 선택할 수 있는 레이저 열전사용 도너 기판 및 이를 이용한 유기전계발광소자의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명은 기재층; 상기 기재층 상에 위치하는 광열변환층; 상기 광열변환층 상에 위치하며, 최저 비점유 분자궤도 에너지 준위의 절대값이 2.6 내지 3.0eV이며, 밴드갭 에너지가 2.8 내지 3.4eV인 유기물, 무기물 또는 이들의 이중층으로 이루어진 제 1 전사층; 및 상기 제 1 전사층 상에 위치하며, 발광층을 포함하는 제 2 전사층을 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 열전사용 도너 기판 및 이를 이용한 유기전계발광소자의 제조방법을 제공한다.
레이저 열전사, 도너 기판-
公开(公告)号：KR100953659B1
公开(公告)日：2010-04-20
申请号：KR1020080081346
申请日：2008-08-20
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
Abstract: 본 발명은 도너 필름 제조 장치에 관한 것으로, 도너 필름의 이송 및 레이저 열전사 공정 시 도너 필름과 소자 기판 사이의 탈부착이 용이하도록, 트레이(tray)를 사용하지 않고 베이스 필름에 전사층을 증착하여 도너 필름의 제조할 수 있는 도너 필름 제조 장치에 관한 것이다.
본 발명은 증착실 및 저장실을 포함하는 챔버; 상기 증착실 내부를 제 1 방향으로 좌우 이동하며, 상기 증착실과 저장실 사이의 게이트에 수평하게 위치하는 제 1 압착기; 상기 게이트에 인접한 증착실에 위치하며, 절단 수단을 포함하는 제 2 압착기; 및 상기 증착실 하부 측에 위치하며, 베이스 필름에 전사할 물질을 증착하기 위한 증착기를 포함하는 도너 필름 제조 장치에 관한 것이다.
도너 필름 제조 장치-
公开(公告)号：KR101094305B1
公开(公告)日：2011-12-19
申请号：KR1020100012918
申请日：2010-02-11
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
IPC: H01L51/56
CPC classification number: B41M3/003 , B41M3/00 , H01L51/0013
Abstract: 본 발명은 투과영역을 포함하는 투명 기판; 상기 투과영역을 제외한 투명기판의 후면(後面)에 위치하는 반사막 패턴; 및 상기 투명기판의 전면(前面) 및 후면(後面) 중 적어도 어느 하나의 면에 위치하는 스캐터링(scattering)부를 포함하고, 상기 스캐터링(scattering)부는 상기 반사막 패턴과 대응되는 위치에 형성되는 마스크 및 이를 이용한 유기전계발광표시장치의 제조방법을 제공한다.
따라서, 본 발명은 도너기판에 정확한 레이저의 조사가 가능할 뿐만 아니라, 마스크에 의해 레이저 빔이 반사되어 레이저 발생기를 손상시키는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR1020110040244A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：KR1020090097435
申请日：2009-10-13
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
CPC classification number: H01L51/0013 , C23C14/048
Abstract: PURPOSE: A donor substrate for forming the organic of an organic electro luminescence device and a method of fabricating an OLED using the same are provided to improve a transcription pattern property by forming a buffer layer between an interlayer and a transfer layer a photothermal conversion layer and the transfer layer. CONSTITUTION: In a donor substrate for forming the organic of an organic electro luminescence device and a method of fabricating an OLED using the same, a photothermal conversion layer is formed on a base film(31). An interlayer(35) is formed on the photothermal conversion layer. A buffer layer(36) is formed on the interlayer. A transfer layer(33) is formed on the buffer layer. The buffer layer is comprised of magnesium and MG or the magnesium oxide.
Abstract translation: 目的：提供用于形成有机电致发光器件的有机物的施主衬底和使用其的制造OLED的方法，以通过在中间层和转移层之间形成光热转换层的缓冲层来提高转录模式性质，以及 转移层。 构成：在用于形成有机电致发光器件的有机物的施主衬底和使用其的OLED的制造方法中，在基膜（31）上形成光热转换层。 在光热转换层上形成中间层（35）。 缓冲层（36）形成在中间层上。 在缓冲层上形成转印层（33）。 缓冲层由镁和MG或氧化镁组成。
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公开(公告)号：KR1020100024672A
公开(公告)日：2010-03-08
申请号：KR1020080083345
申请日：2008-08-26
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
CPC classification number: B41M5/38214 , B41M5/38228 , B41M5/385 , B41M5/42 , B41M2205/38 , H01L51/0013 , Y02E10/549
Abstract: PURPOSE: A donor substrate for laser induced thermal imaging and a method for manufacturing an organic light emitting display device are provided to prevent wrinkles on the surface of the light emitting layer by forming a first transfer layer or buffer layer between the light-heat conversion layer and a light emitting layer. CONSTITUTION: A light-heat conversion layer(110) is formed on a base layer(100). A first transfer layer(120) is formed on the light-heat conversion layer. The first transfer layer is made of an organic or inorganic material with an LUMO(Lowest Unoccupied Molecular Orbital) energy level of 2.6 to 3.0 eV and bandgap energy of 2.8 to 3.4 eV. A second transfer(130) is formed on the first transfer layer and includes a light emitting layer.
Abstract translation: 目的：提供用于激光诱导热成像的供体衬底和用于制造有机发光显示装置的方法，以通过在光热转换层之间形成第一转印层或缓冲层来防止发光层表面上的褶皱 和发光层。 构成：在基底层（100）上形成有光热转换层（110）。 在光热转换层上形成第一转印层（120）。 第一转印层由具有2.6至3.0eV的LUMO（最低未占分子轨道）能级和2.8至3.4eV的带隙能的有机或无机材料制成。 第二转印（130）形成在第一转印层上并包括发光层。
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