公开(公告)号：KR1020070077978A

公开(公告)日：2007-07-30

申请号：KR1020060007922

申请日：2006-01-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 윤소영 ,  황태진 ,  양재현 ,  고길선

IPC: F24F7/06 ,  F24F3/16 ,  F24F3/12 ,  F24F11/00

Abstract: An outdoor fresh air conditioner and a method for controlling the temperature and humidity of outdoor fresh air of the outdoor fresh air conditioner are provided to prevent a clean room from being polluted due to outdoor air by installing a pollutant removing unit. An outdoor fresh air conditioner(100) includes an inflow duct(120), a purifying unit, a transferring duct, and a monitoring apparatus. The inflow duct makes outdoor air flow in. The purifying unit has a filter unit(112) filtering pollutants inside the outdoor air introduced through the inflow duct, a temperature controlling unit controlling the temperature of the outdoor air, and a humidity controlling unit controlling the humidity of the outdoor air. The transferring duct transferring the outdoor air from the purifying unit to the inside of a clean room(20). The monitoring apparatus is installed at a discharging unit discharging the outdoor air from the transferring duct to the inside of the clean room, and monitors the temperature and humidity of the outdoor air discharged inside of the clean room.

Abstract translation: 设置室外新鲜空气调节器和用于控制室外新鲜空调的室外空气的温度和湿度的方法，以通过安装污染物去除单元来防止洁净室被室外空气污染。 室外新鲜空调100包括流入管道，净化单元，输送管道和监测装置。 流入管道使室外空气流入，净化单元具有过滤器单元（112），其过滤通过流入管道引入的室外空气中的污染物，控制室外空气温度的温度控制单元和控制室外空气的湿度控制单元 室外空气的湿度。 传送管道将室外空气从净化单元传送到洁净室（20）的内部。 监视装置安装在将室外空气从传送管道排出到洁净室内部的排放单元处，并且监视在洁净室内排出的室外空气的温度和湿度。

公开(公告)号：KR1020070005795A

公开(公告)日：2007-01-10

申请号：KR1020050060812

申请日：2005-07-06

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 양재현 ,  안요한 ,  윤소영 ,  고길선 ,  윤동환 ,  오용운

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/162 ,  B05C11/10 ,  B05D1/005 ,  H01L21/6715

Abstract: A spin coating equipment for use in manufacturing of a semiconductor device is provided to minimize particle type contamination source on a wafer by using a preventive wall with an opening unit. A bowl(105) has an inner space where a spin coating process is performed. A spin unit(152) rotates a wafer loaded in the bowl in a fixed state thereof. At least one auxiliary exhaust pipe(110) is formed on a base plate of the bowl. A main exhaust pipe(115) is formed on the base plate located between sidewalls of the auxiliary exhaust pipe and the bowl. A preventive wall(120) is upwardly extended from the base plate of the bowl located between the auxiliary and main exhaust pipes. The preventive wall includes at least opening unit(125). The opening unit passes through the preventive wall and connects both spaces of the prevention wall.

Abstract translation: 提供用于制造半导体器件的旋涂设备，以通过使用具有开口单元的预防壁来最小化晶片上的颗粒型污染源。 碗（105）具有进行旋涂处理的内部空间。 旋转单元（152）在其固定状态下旋转装载在碗中的晶片。 至少一个辅助排气管（110）形成在碗的底板上。 主排气管115形成在位于辅助排气管的侧壁和碗之间的基板上。 预防壁（120）从位于辅助排气管和主排气管之间的碗的底板向上延伸。 防护墙至少包括开口单元（125）。 开口单元穿过预防壁并连接预防壁的两个空间。

公开(公告)号：KR1020060036951A

公开(公告)日：2006-05-03

申请号：KR1020040086020

申请日：2004-10-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 고길선 ,  윤소영 ,  오용운

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G03F7/162 ,  H01L21/6715

Abstract: 반도체 장치 제조용 스피너에 관한 것으로, 상기 스피너는 웨이퍼에 대하여 소정의 처리를 실시하는 프로세스 유니트와 상기 프로세스 유니트의 정면 입구(front door)에 설치된 셔터(Shutter)와 상기 셔터의 내 측의 하부에 설치되고 상기 셔터를 수평으로 가로지르는 밀봉수단을 구비한다. 이로써, 스피너의 프로세스 유니트의 환경 평가 시 및 설비의 예방정비 시 외부로부터 오염물질의 유입이 방지되므로 오염 물질에 의한 웨이퍼의 공정 불량을 방지하고 신뢰성 있는 파티클 데이터를 얻을 수 있다.

公开(公告)号：KR1020050031161A

公开(公告)日：2005-04-06

申请号：KR1020030067364

申请日：2003-09-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 고길선 ,  윤소영 ,  김동연

IPC: G01N1/00

Abstract: A sampling filter for evaluating contamination of a clean room and a method for evaluating contamination by using a sampling filter are provided to collect samples with a predetermined size by using a filter. A sampling filter includes a filter(102), a filter frame(100), and a filter supporting member(104). The filter frame(100) is coupled/fixed with the filter(102). The filter supporting member(104) is fixed to the filter frame(100). The sample area(106) is specified in order to analyze contamination. Contamination is reduced because the sampling filter is installed at a circulation end part. A suitable filter is installed at the circulation end part according to the contamination. The sampling filter is installed according to the contamination component.

Abstract translation: 提供了一种用于评估洁净室的污染物的采样过滤器和使用采样过滤器来评估污染物的方法，以通过使用过滤器来收集具有预定尺寸的样品。 采样滤波器包括滤波器（102），滤波器框架（100）和滤波器支撑构件（104）。 过滤器框架（100）与过滤器（102）连接/固定。 过滤器支撑构件（104）固定到过滤器框架（100）。 指定样品区域（106）以分析污染物。 因为采样过滤器安装在循环端部，污染减少。 根据污染，在循环端部安装合适的过滤器。 采样过滤器根据污染成分进行安装。

公开(公告)号：KR1020040039000A

公开(公告)日：2004-05-10

申请号：KR1020020066615

申请日：2002-10-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 임숙희 ,  김현옥 ,  고길선 ,  박선욱

IPC: G01N1/28

Abstract: PURPOSE: A bacteria sampling apparatus and a method for measuring an amount bacteria existing in ultra pure water are provided to reliably analyze a contamination source existing in ultra pure water. CONSTITUTION: A bacteria sampling apparatus(200) includes a kit(100) for temporarily storing ultra pure water, a pressure applying unit(120) for providing pressure to exhaust ultra pure water stored in the kit(100), a control unit(140) for controlling an operation of the pressure applying unit(120), and a receiving section(160) for receiving ultra pure water discharged from the kit(100). The kit(100) is connected to an ultra pure water storing section(50) through a fluid line(60) so as to receive ultra pure water from the ultra pure water storing section(50). A flow rate valve(70) is provided in the fluid line(60) in order to allow ultra pure water to flow into the kit(100).

Abstract translation: 目的：提供细菌取样装置和测量超纯水中存在的细菌的方法，以可靠地分析超纯水中存在的污染源。 构成：细菌取样装置（200）包括用于临时储存超纯水的试剂盒（100），用于提供压力以排出存储在试剂盒（100）中的超纯水的压力施加单元（120），控制单元（140） ），用于控制加压单元（120）的操作;以及接收部（160），用于接收从所述套件（100）排出的超纯水。 试剂盒（100）通过流体管线（60）连接到超纯水储存部分（50），以从超纯水储存部分（50）接收超纯水。 在流体管线（60）中设置有流量阀（70），以便允许超纯水流入试剂盒（100）。

公开(公告)号：KR1020080099032A

公开(公告)日：2008-11-12

申请号：KR1020070044620

申请日：2007-05-08

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 고길선 ,  장현천 ,  임성재 ,  김동연 ,  이혜미 ,  김우정

IPC: G01N1/14 ,  H01L21/66

Abstract: An automatic bacteria sampling apparatus can minimize the analysis error by sterilizing and washing the pipeline in a standby mode. An automatic bacteria sampling apparatus(100) comprises a case(102) having a receiving portion(104), an introduction pipe(106), a discharge line(108), and a heater(110). The introduction pipe is arranged in the case and connected to one side of the receiving portion. The discharge line is arranged in the case and is connected to the other side of the receiving portion. The heater is installed adjacent to the introduction pipe.

Abstract translation: 自动细菌取样装置可以通过在待机模式下对管道进行消毒和洗涤来最小化分析误差。 自动细菌取样装置（100）包括具有接收部分（104），导入管（106），排出管线（108）和加热器（110）的壳体（102）。 引入管布置在壳体中并连接到接收部分的一侧。 排出线布置在壳体中并连接到接收部分的另一侧。 加热器安装在导入管附近。

公开(公告)号：KR1020070075590A

公开(公告)日：2007-07-24

申请号：KR1020060004009

申请日：2006-01-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 오용운 ,  윤소영 ,  고길선 ,  양재현 ,  정홍희 ,  김미애

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67034 ,  H01L21/67242

Abstract: An air shower system is provided to shorten an interval of air shower time by performing an air shower process only to a degree that contaminants are removed. A space for performing an air shower process is formed in a housing. A gas supply member(112) injects cleaning gas to a target material in the housing. A detection member measures the quantity of contaminants in the housing. A control part(120) adjusts an interval of gas supply time of the gas supply members according to the quantity of the contaminants measured by the detection member. An adjust member(114) shortens an interval of fluid supply time if the quantity of the contaminants measured by the detection member is smaller than a predetermined value, and increases the interval of the fluid supply time if the quantity of the contaminants is greater than the predetermined value.

Abstract translation: 提供一种空气淋浴系统，以仅通过去除污染物的程度进行空气淋浴过程来缩短空气喷淋时间的间隔。 用于进行空气淋浴处理的空间形成在壳体中。 气体供给构件（112）将清洁气体注入到壳体中的目标材料。 检测构件测量壳体中的污染物的量。 控制部件（120）根据由检测部件测定的污染物的量来调整供气部件的供气时间间隔。 如果由检测构件测量的污染物的量小于预定值，则调节构件（114）缩短流体供应时间的间隔，并且如果污染物的量大于 预定值。

公开(公告)号：KR100632945B1

公开(公告)日：2006-10-12

申请号：KR1020040051178

申请日：2004-07-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최형석 ,  황정성 ,  박경호 ,  고길선 ,  오용운

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67017 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67253

Abstract: 본 발명은 기판 회전시 발생하는 상승기류에 의한 파티클 발생을 억제할 수 있는 스핀 공정 설비를 개시한다. 개시된 본 발명은, 배기를 위해 흡기 수단에 접속되어 기판에 소정의 처리를 행하는 스핀 공정 설비에 있어서, 기판을 지지하면서 회전시키는 회전 지지 수단과, 상기 회전 지지 수단의 주위를 둘러싸는 차폐 수단과, 상기 차폐 수단 내벽에 마련되어 상기 차폐 수단 내의 상승기류를 감지하는 감지 수단을 포함하는 회전 처리부; 상기 회전 처리부 내의 분위기 가스를 상기 흡기 수단으로 유도하는 배기관로; 상기 배기관로 내의 분위기 가스의 유량을 조절하는 유량 조정 수단; 및 상기 감지 수단으로 상기 차폐 수단 내의 상승기류를 감지하여 상기 유량 조정 수단을 제어하는 제어 수단을 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 스핀 공정시 배기량을 적절히 제어함으로써 상승기류가 억제되고, 이에 따라 상승기류로 인한 기판 오염 문제를 해결하여 궁극적으로 파티클이 없는 스핀 공정(Particle free spin process)을 이룰 수 있는 효과가 있다.

Abstract translation: 本发明公开了一种纺丝处理设备，其能够抑制由于在衬底旋转期间产生的气流升高而产生的颗粒。 本发明涉及一种用于在基板上执行预定处理的旋转处理设备，该处理包括：旋转支撑装置，用于在支撑基板的同时旋转基板;屏蔽装置，用于围绕旋转支撑装置; 设置在屏蔽装置的内壁上的旋转处理单元和用于感测屏蔽装置中的向上流动的传感装置; 一个排气管，用于将旋转处理部分中的气氛气体导入进气装置; 流量调节装置，用于调节排气管中的气氛气体的流量; 以及控制装置，用于通过感测装置感测屏蔽装置中的上升气流并控制流量调节装置。 根据本发明，通过适当地控制纺纱过程中的排气量来抑制上升气流，由此解决了由于上升气流造成的基板污染问题并最终实现无颗粒旋转过程 有。

公开(公告)号：KR1020060002233A

公开(公告)日：2006-01-09

申请号：KR1020040051178

申请日：2004-07-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최형석 ,  황정성 ,  박경호 ,  고길선 ,  오용운

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67017 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67253

Abstract: 본 발명은 기판 회전시 발생하는 상승기류에 의한 파티클 발생을 억제할 수 있는 스핀 공정 설비를 개시한다. 개시된 본 발명은, 배기를 위해 흡기 수단에 접속되어 기판에 소정의 처리를 행하는 스핀 공정 설비에 있어서, 기판을 지지하면서 회전시키는 회전 지지 수단과, 상기 회전 지지 수단의 주위를 둘러싸는 차폐 수단과, 상기 차폐 수단 내벽에 마련되어 상기 차폐 수단 내의 상승기류를 감지하는 감지 수단을 포함하는 회전 처리부; 상기 회전 처리부 내의 분위기 가스를 상기 흡기 수단으로 유도하는 배기관로; 상기 배기관로 내의 분위기 가스의 유량을 조절하는 유량 조정 수단; 및 상기 감지 수단으로 상기 차폐 수단 내의 상승기류를 감지하여 상기 유량 조정 수단을 제어하는 제어 수단을 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 스핀 공정시 배기량을 적절히 제어함으로써 상승기류가 억제되고, 이에 따라 상승기류로 인한 기판 오염 문제를 해결하여 궁극적으로 파티클이 없는 스핀 공정(Particle free spin process)을 이룰 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020050049697A

公开(公告)日：2005-05-27

申请号：KR1020030083395

申请日：2003-11-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김동연 ,  양재현 ,  고길선 ,  김영민

IPC: H01L21/02

Abstract: 반도체 제조용 오염제거설비는 일측면에 도어가 설치되는 보관함과; 보관함 내부에 설치되어 케미컬 폐용기를 적재하기위한 용기틀; 및 보관함 내부로 외기를 유입시킨 후 강제배기에 의해 케미컬 폐용기로 부터 배출되는 오염원을 제거하는 오염제거시스템;을 포함한다. 여기서, 도어는 좌우 수평으로 개폐되는 것이 바람직하다. 그리고, 오염제거시스템은 보관함 상측에 설치되어 보관함 내부로의 외기 흡입을 원활하게하는 에어홀과 보관함 하측에 설치되어 보관함 내부의 오염물질을 배출하는 배기관을 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 에어홀은 보관함 상측에 설치되되 복수개의 홀을 갖고, 배기관은 보관함 하측에 설치되되 보관함 내부의 오염물질의 배출량을 조절하는 배기밸브가 더 설치되는 것이 바람직하다. 나아가, 배기관에는 강제배기력을 제공하는 펌프가 추가로 구성되는 것이 바람직하다.