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公开(公告)号:KR100508091B1
公开(公告)日:2005-08-17
申请号:KR1020030021967
申请日:2003-04-08
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/66
Abstract: 본 발명은 웨이퍼를 회전시키면서 웨이퍼 테두리의 결함을 검사하는 장치 및 그 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 웨이퍼 테두리 결함 검사 장치는 카세트에 담겨진 웨이퍼들의 가장자리 결함을 검사하는 장치는 상기 카세트에 담겨진 웨이퍼들을 회전시키는 회전장치와, 회전하는 상기 웨이퍼들의 가장자리에 접촉되는 접촉수단; 상기 접촉 수단의 유동을 판별하여 웨이퍼들의 가장자리에 결함 유무를 판단하는 처리부를 포함한다.
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公开(公告)号:KR1020010100262A
公开(公告)日:2001-11-14
申请号:KR1020000017278
申请日:2000-04-03
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
Abstract: 본 발명은 반도체 제조설비에 관한 것으로, 특히 반도체 제조공정에 있어서 종형로 타입의 반도체 제조설비를 이용한 HSG(Hemi Spherical Grain) 공정을 진행하는 경우에 있어서 1회의 프로세스로서 배치(Batch)당 최대의 웨이퍼를 동시에 진행하기 위한 보트내 웨이퍼 적재방법을 반도체 제조공정에 적용하는 기술에 관한 것이다. 이를 위해 본 발명에 따른 반도체 제조공정에 적용하는 반도체 제조설비의 웨이퍼 적재방법은 종래 보트 내에 항상 적재되어 있던 영구 더미 웨이퍼를 없애고 카세트마다 실장되는 웨이퍼 그룹을 탑 슬롯에만 블록 더미 웨이퍼를 실장하고, 나머지 슬롯에는 실 런 웨이퍼들을 실장하도록 구성한 후, 상기 보트 내에 웨이퍼 적재시 1배치에 진행하는 각 카세트에 실장되어 있는 웨이퍼 그룹을 상기 보트의 하단부터 순차적으로 적재하는 것을 특징으로 한다.
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公开(公告)号:KR1019990069199A
公开(公告)日:1999-09-06
申请号:KR1019980003293
申请日:1998-02-05
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/3205 , H01L21/28
Abstract: 본 발명은 양질의 HSG 실리콘 막을 형성할 수 있는 반도체 장치의 제조방법에 관해 개시한다. HSG 실리콘막 형성시 문제가 되는 자연 산화막이 웨이퍼 상에 형성되는 것을 방지하기 위해, 웨이퍼가 웨이퍼 카세트에 적재되어 카세트 모듈에 로딩될 때부터 프로세서 모듈에서 HSG 실리콘막이 형성될 때 까지 상기 웨이퍼가 고 진공분위기하에 있게 한다. 따라서, 상기 웨이퍼 표면이 대기에 노출될 가능성이 매우 희박해져서 상기 웨이퍼 표면이 자연 산화되는 것을 최소화할 수 있다. 또한, 상기 웨이퍼가 카세트 모듈에서 대기할 때 실시되는 싸이클 퍼징시 압력 변동폭을 40토르(torr)에서 10
-2 토르(torr)∼10
-7 토르(torr)정도로 크게 하여 상기 웨이퍼에 존재하는 불순물 및 HSG 실리콘막 성장에 장애가 되는 요소들을 제거한다. 이와 같이, HSG 실리콘막이 형성되기 전에 상기 웨이퍼 표면이 자연산화되는 것을 최소화할 수 있을 뿐만 아니라 상기 웨이퍼 상에 존재하는 HSG 실리콘막 형성을 방해하는 불순물과 장애요소들을 최대한 제거함으로써 양질의 HSG 실리콘막을 형성할 수 있다.-
公开(公告)号:KR1020040108031A
公开(公告)日:2004-12-23
申请号:KR1020030038769
申请日:2003-06-16
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/205
Abstract: PURPOSE: A vertical diffusion furnace for manufacturing semiconductor is provided to deposit uniformly a thin film on each wafer by infiltrating deeply a process gas into every corner of a boat with a plurality of wafers using an enhanced inner tube with protrusions. CONSTITUTION: A vertical diffusion furnace(100) includes an outer tube, an inner tube, and a boat. The outer tube(200) is connected with a gas inlet line(110) and a gas exhaust line(120). The inner tube(300) with an opening at its upper portion is located in the outer tube. A boat(400) for loading a plurality of wafers(W) is located in the inner tube. A plurality of protrusions are formed on an inner wall of the inner tube. The diameter of an upper portion is smaller than that of a lower portion in the inner tube.
Abstract translation: 目的:提供用于制造半导体的垂直扩散炉,通过使用具有突起的增强内管将多个晶片将工艺气体深深渗透到具有多个晶片的船的每个角落中,以均匀地沉积在每个晶片上。 构成:垂直扩散炉(100)包括外管,内管和船。 外管(200)与气体入口管线(110)和排气管线(120)连接。 在其上部具有开口的内管(300)位于外管中。 用于装载多个晶片(W)的船(400)位于内管中。 在内管的内壁上形成有多个突起。 上部的直径小于内管中的下部的直径。
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公开(公告)号:KR1020010093946A
公开(公告)日:2001-10-31
申请号:KR1020000017277
申请日:2000-04-03
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
Abstract: PURPOSE: A method for increasing wafer capacity per batch within a boat in semiconductor manufacturing equipment is provided to improve the productivity hour. CONSTITUTION: The first cassette and the second cassette including wafers are loaded on the first cassette module and the second cassette module, respectively(501,503). The wafers mounted on the first cassette and the second cassette are charged within a boat(505,507,509). The empty the first cassette and the empty the second cassette are unloaded from the first cassette module and the second cassette module(511,513). The third cassette and the fourth cassette including the wafers are loaded on the first cassette module and the second cassette module, respectively(515,517). The wafers mounted on the first cassette and the second cassette are charged within the boat(519,521).
Abstract translation: 目的:提供一种在半导体制造设备中增加船内每批次的晶片容量的方法,以提高生产率小时。 构成:包括晶片的第一盒和第二盒分别装载在第一盒模块和第二盒模块上(501,503)。 将安装在第一盒和第二盒上的晶片装入船内(505,507,509)。 从第一盒模块和第二盒模块(511,513)卸下第一盒和空第二盒。 包括晶片的第三盒和第四盒分别装载在第一盒模块和第二盒模块上(515,517)。 安装在第一盒和第二盒上的晶片被装入船内(519,521)。
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公开(公告)号:KR1019990057724A
公开(公告)日:1999-07-15
申请号:KR1019970077796
申请日:1997-12-30
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
Abstract: 본 발명의 반도체 제조 장치는 내부에 챔버를 포함하는 몸체(body)와, 상기 몸체의 전면 중앙 부분에 연결되어 웨이퍼가 탑재된 캐리어가 놓이는 셔틀 캐리어 스테이지와, 상기 셔틀 캐리어 스테이지를 포함하여 외부와 밀폐되도록 마련된 커버를 포함하여 이루어진다. 상기 커버의 상부에 오존을 걸러주어 내부 공기를 깨끗하게 할 수 있는 화학 필터를 더 설치할 수 있다. 상기 커버의 하부에 공기 밸런스를 조절하기 위하여 통풍구를 더 설치할 수 있다. 상기 커버의 전면에 자동화 설비를 위한 셔터를 더 설치할 수 있다. 본 발명의 반도체 제조 장치는 몸체의 전면에 위치하는 셔틀 캐리어 스테이지를 밀폐되도록 커버가 마련되어 웨이퍼를 외부의 오염원으로부터 보호할 수 있다.
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公开(公告)号:KR1020040087536A
公开(公告)日:2004-10-14
申请号:KR1020030021967
申请日:2003-04-08
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/66
Abstract: PURPOSE: An apparatus for inspecting a defect of a wafer edge and an inspecting method thereof are provided to reduce the defect of the wafer by aligning a flat zone of the wafer and inspecting the defect of the wafer edge. CONSTITUTION: A rotation unit(120) is used for rotating wafers within a cassette. A contact unit(112) comes in contact with edges of the rotating wafers. A processing unit(114) determines defects of the wafers by checking a floating state of the contact unit. The contact unit is formed with a flexible thin wire. The rotation unit is formed with an aligning unit for aligning a flat zone of the wafer. The rotation unit includes a roller(122) for rotating the wafers and a driver(124) for driving the roller. The roller is installed at a lower part of the cassette and comes in contact with the lateral pars of the wafers.
Abstract translation: 目的:提供一种用于检查晶片边缘缺陷的装置及其检查方法,以通过对准晶片的平坦区域并检查晶片边缘的缺陷来减少晶片的缺陷。 构成:旋转单元(120)用于旋转盒内的晶片。 接触单元(112)与旋转晶片的边缘接触。 处理单元(114)通过检查接触单元的浮动状态来确定晶片的缺陷。 接触单元形成有柔性细线。 旋转单元形成有用于对准晶片的平坦区域的对准单元。 旋转单元包括用于旋转晶片的辊(122)和用于驱动辊的驱动器(124)。 辊安装在盒的下部并与晶片的侧面接触。
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公开(公告)号:KR100558570B1
公开(公告)日:2006-03-13
申请号:KR1020000017277
申请日:2000-04-03
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
Abstract: 본 발명은 보트 내 웨이퍼 배치용량을 증가시키기 위한 반도체 제조설비에 적용되는 소프트웨어 프로그램에 관한 기술로서, 종래 2개의 카세트를 이용하여 보트내 웨이퍼 차지동작을 진행하는 것을 개선하여 4개의 카세트를 이용하여 보트내 웨이퍼 차지동작을 진행함으로써 보트 내 웨이퍼 배치용량을 증가시키고 작업 시간도 단축시킬 수 있으며, 4개 카세트들의 유기적인 동작에 따른 로딩 및 언로딩을 자동으로 행할 수 있는 소프트웨어 프로그램을 제공한다.
반도체, 보트, 웨이퍼, 배치, 차지-
公开(公告)号:KR1020040048619A
公开(公告)日:2004-06-10
申请号:KR1020020076538
申请日:2002-12-04
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02
Abstract: PURPOSE: A cooling apparatus of semiconductor device manufacturing equipment is provided to be capable of smoothly carrying out a cooling process. CONSTITUTION: A cooling apparatus(1) of semiconductor device manufacturing equipment includes a cooling unit(11). The cooling unit includes a thermoelectric element(15) connected with a plurality of low temperature heat pipes(17), wherein the thermoelectric element is used as a cooling part. Preferably, the cooling unit is capable of being separated from the low temperature heat pipes. Preferably, a plurality of cooling pins are formed on the surface of each low temperature heat pipe. At this time, the cooling pin is made of predetermined material, wherein the predetermined material has good thermal conductivity.
Abstract translation: 目的:提供一种半导体器件制造设备的冷却装置,能够平稳地进行冷却处理。 构成:半导体器件制造设备的冷却装置(1)包括冷却单元(11)。 冷却单元包括与多个低温热管(17)连接的热电元件(15),其中所述热电元件用作冷却部件。 优选地,冷却单元能够与低温热管分离。 优选地,在每个低温热管的表面上形成多个冷却销。 此时,冷却销由预定材料制成,其中预定材料具有良好的导热性。
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公开(公告)号:KR1020000021297A
公开(公告)日:2000-04-25
申请号:KR1019980040313
申请日:1998-09-28
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/00
Abstract: PURPOSE: A gas cylinder cabinet of a semiconductor manufacturing process is provided to prevent an abnormal process caused by a fault of a central processing unit(CPU). CONSTITUTION: A gas cylinder cabinet having a programmable logic controller(PLC) for controlling the gas cylinder cabinet and a plurality of bottles controlled by a central processing unit(CPU) in the PLC, comprises a sensing board for sensing a fault of the CPU in which the PLC resets the CPU automatically in the fault of the CPU and runs information of the CPU with a back-up program.
Abstract translation: 目的:提供半导体制造工艺的气瓶柜,以防止由中央处理单元(CPU)的故障引起的异常过程。 构成:具有用于控制气瓶柜的可编程逻辑控制器(PLC)和由PLC中的中央处理单元(CPU)控制的多个瓶子的气瓶柜包括用于感测CPU的故障的感测板 PLC在CPU故障中自动复位CPU,并通过备份程序运行CPU的信息。
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