公开(公告)号：KR1020050079860A

公开(公告)日：2005-08-11

申请号：KR1020040008174

申请日：2004-02-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 톨마체프유리 ,  마동준 ,  김대일 ,  나발라세르기야고블레비키

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01J37/32247 ,  H01J37/32192

Abstract: 다중 개방형 공진기(multiple open end resonant cavity)를 사용하여 마이크로 웨이브 플라즈마를 발생하는 장치 및 이를 이용한 플라즈마 공정장치가 개시된다. 개시된 장치는 공정챔버를 형성하기 위한 컨테이너, 공정챔버 내부에 피처리물을 지지하는 지지부, 공정챔버의 상부에 형성된 유전체 윈도우, 공정챔버 내부에 가스를 주입하기 위한 가스 주입장치 및 유전체 윈도우 상에 마이크로 웨이브를 인가하기 위한 다수의 개방형 공진기를 구비하는 마이크로 웨이브 공급부를 포함한다. 따라서, 처리하고자 하는 기판의 크기가 넓은 경우에도, 다수의 링형의 개방형 공진기를 이용하여 넓은 영역에 걸쳐서 플라즈마를 균일하게 형성할 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020050011315A

公开(公告)日：2005-01-29

申请号：KR1020030050343

申请日：2003-07-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김대일 ,  마동준

IPC: C23C14/35

CPC classification number: C23C14/35 ,  C23C14/165

Abstract: PURPOSE: To provide a plasma metal ion deposition apparatus capable of reducing the number of particles generated on a substrate during the deposition process and reducing thermal shock of the substrate generated from equipment that uses a RF coil formed by coiling a coil for several times. CONSTITUTION: The plasma metal ion deposition apparatus comprises a chamber(10); a substrate holder(21) installed at one side in the chamber; a RF magnetic field generation part(40) disposed oppositely to the substrate holder inside the chamber; a target base(30) disposed in such a shape that the target base encircles the circumference of the RF magnetic field generation part; and a static magnetic force line forming part for forming a magnetic force line passing through the target base, wherein the RF magnetic field generation part comprises a ring shaped RF coil(41), and a base(42) for supporting the ring shaped RF coil, wherein the static magnetic force line forming part comprises a first permanent magnet(71) of the target base, and a second permanent magnet(72) at the upper outer part of the target(50), and the first and second permanent magnets form a magnetic force line passing through the target base, and wherein the apparatus further comprises a first cooler(31) installed at the bottom of the target base, a second cooler(60) installed around the target base in such a way that the second cooler encircles an upper part of the target base to a certain height.

Abstract translation: 目的：提供一种等离子体金属离子沉积设备，其能够减少在沉积过程中在基板上产生的颗粒数量，并减少由使用通过卷绕线圈形成的RF线圈多次的设备产生的基板的热冲击。 构成：等离子体金属离子沉积装置包括室（10）; 衬底保持器（21），其安装在所述腔室的一侧; 与所述室内的所述基板保持件相对设置的RF磁场产生部（40） 目标基座（30），其设置成使得所述目标基部环绕所述RF磁场产生部的周围; 以及用于形成通过所述靶基体的磁力线的静磁力线形成部，其中，所述R​​F磁场产生部包括环形RF线圈（41）和用于支撑所述环形RF线圈的基座（42） ，其中所述静磁力线形成部分包括所述靶基体的第一永磁体（71）和所述靶（50）的上外部的第二永磁体（72），并且所述第一和第二永磁体形成 穿过所述目标基座的磁力线，并且其中所述装置还包括安装在所述目标基座的底部的第一冷却器（31），安装在所述目标基座周围的第二冷却器（60），使得所述第二冷却器 将目标基座的上部环绕到一定高度。

公开(公告)号：KR1020050000727A

公开(公告)日：2005-01-06

申请号：KR1020030041225

申请日：2003-06-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 톨마체프유리 ,  나발라세르기야고블레비키 ,  마동준 ,  김대일

IPC: H01L21/205

CPC classification number: H01J37/32211 ,  H01J37/321

Abstract: PURPOSE: A high density plasma processing apparatus is provided to improve the uniformity of plasma distribution even on a large wafer by using independently controllable ICP(Inductively Coupled Plasma) and microwave sources. CONSTITUTION: A high density plasma processing apparatus includes a process chamber(110) with a susceptor(112) and a dielectric window, a reaction gas injector, an ICP antenna, a waveguide and a ring type radiation line. The reaction gas injector injects a reaction gas into the chamber. The ICP antenna(130) for transmitting RF(Radio Frequency) power from an RF power supply(132) into the chamber is arranged to correspond to a center portion of the chamber on the dielectric window. The waveguide(142) transmits microwaves oscillating from a microwave oscillator(140). The radiation line(146) for radiating the microwaves into the chamber through slots of its backside is connected with the waveguide on the dielectric window and arranged to enclose the ICP antenna.

Abstract translation: 目的：提供高密度等离子体处理装置，通过使用独立可控的ICP（电感耦合等离子体）和微波源，即使在大晶片上也能提高等离子体分布的均匀性。 构成：高密度等离子体处理装置包括具有基座（112）和电介质窗口的处理室（110），反应气体注入器，ICP天线，波导管和环形辐射线。 反应气体喷射器将反应气体注入到室中。 用于将RF（射频）功率从RF电源（132）发送到室中的ICP天线（130）被布置成对应于电介质窗口上的室的中心部分。 波导（142）发射从微波振荡器（140）振荡的微波。 用于通过其背面的槽将微波辐射到室中的辐射线（146）与电介质窗口上的波导连接并且被布置成包围ICP天线。

公开(公告)号：KR100988085B1

公开(公告)日：2010-10-18

申请号：KR1020030041225

申请日：2003-06-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 톨마체프유리 ,  나발라세르기야고블레비키 ,  마동준 ,  김대일

IPC: H01L21/205

CPC classification number: H01J37/32211 ,  H01J37/321

Abstract: 고밀도 플라즈마 처리 장치가 개시된다. 개시된 플라즈마 처리 장치는, 내부에는 피처리물을 지지하는 서셉터가 마련되고, 상부에는 유전체 윈도우가 설치된 공정챔버와; 공정챔버 내부에 반응가스를 주입하기 위한 반응가스 주입장치와; 유전체 윈도우의 상부에 설치되며, 공정챔버의 중심부에 대응하는 위치에 배치되어 RF 전원으로부터 공정챔버 내부로 RF 파우어를 전송하는 ICP 안테나와; 마이크로파 발진기에서 발진된 마이크로파를 전송하는 도파관과; 유전체 윈도우의 상부에 설치되어 도파관에 연결되며, 공정챔버의 주변부에 대응하는 위치에 ICP 안테나를 둘러싸도록 배치되고, 그 바닥벽에 마련된 다수의 슬롯을 통해 공정챔버 내부로 마이크로파를 방사하는 링 형상의 방사관;을 구비한다. 이와 같은 구성에 의하면, ICP 안테나에 의해 공정챔버 내부의 중심 영역에 전송되는 RF 파우어와 슬롯을 통해 공정챔버 내부의 주변 영역에 공급되는 마이크로파 파우어를 서로 독립적으로 제어함으로써, 대면적의 기판 가까이에서 플라즈마 분포의 균일도를 향상시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR100585177B1

公开(公告)日：2006-06-02

申请号：KR1020050011010

申请日：2005-02-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김대일 ,  이승영

IPC: G11B19/02

Abstract: 본 발명은 하드디스크 제조 공정 절차와 병행되는 하드디스크 드라이브의 등급 판정 방법에 관한 것으로서, 특히, 헤드 특성을 감안한 하드디스크 드라이브의 등급 판정 방법에 관한 것이다.
본 발명은 헤드 부품의 파라미터의 고유값을 입력받는 단계, 상기 헤드 부품으로 조립된 하드디스크 드라이브의 파라미터 값을 측정하는 단계, 입력받은 헤드 부품의 파라미터와 하드디스크 드라이브에서 측정된 파라미터간의 상관도를 계산하는 단계, 계산된 상관도와 미리 정하여진 등급의 기준치를 비교하여 하드디스크 드라이브의 기록/재생의 신뢰도 등급을 정하는 등급 판정 단계를 포함한다.

Abstract translation: 考虑到磁头特性的硬盘驱动器的确定方法技术领域本发明涉及与硬盘制造过程并行地确定硬盘驱动器的方法，并且更具体地涉及考虑磁头特性来确定硬盘驱动器的方法。

公开(公告)号：KR100561848B1

公开(公告)日：2006-03-16

申请号：KR1020030077762

申请日：2003-11-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김대일 ,  마동준 ,  김국윤 ,  최성규

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01J37/32697 ,  H01J37/321 ,  H01J37/3211

Abstract: 헬리컬 공진기형 플라즈마 처리장치가 개시된다. 개시된 플라즈마 처리 장치는, 처리 기판을 지지하는 기판 홀더를 가진 공정 챔버와, 공정 챔버 내부와 연통되도록 공정 챔버의 상부에 설치되는 유전체 관과, 유전체 관의 외부관 둘레에 감겨진 헬릭스 코일과, 헬릭스 코일에 RF 전력을 공급하기 위한 RF 전원을 구비한다. 상기 유전체 관은 내부관과 외부관으로 이루어진 2중 관 형태를 가지며, 상기 외부관에는 내부관과 외부관 사이의 공간에 플라즈마 소스가스를 공급하기 위한 소스가스 공급구가 형성된다. 상기 유전체 관의 내부에는 플라즈마의 전위를 제어하기 위한 제어 전극이 설치되며, 상기 제어 전극에는 소정의 전위를 인가하기 위한 가변 DC 전원이 연결된다. 이와 같은 구성에 의하면, 처리 기판의 반경방향을 따라 플라즈마의 밀도 분포가 보다 균일하게 이루어질 수 있으며, 플라즈마의 전위도 용이하게 제어할 수 있게 된다.

公开(公告)号：KR1020050047293A

公开(公告)日：2005-05-20

申请号：KR1020030081098

申请日：2003-11-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 톨마체프유리 ,  마동준 ,  나발라세르기야고블레비키 ,  김대일

IPC: H01L21/203

CPC classification number: H01J37/321 ,  C23C14/358 ,  H01J37/3408

Abstract: 헬리컬 자기-공진 코일을 이용한 이온화 물리적 기상 증착 장치가 개시된다. 개시된 이온화 물리적 기상 증착 장치는, 처리 기판을 지지하는 기판 홀더를 가진 공정 챔버와, 공정 챔버에 기판 홀더와 대향하도록 설치되어 처리 기판상에 증착될 물질을 제공하는 증착 물질 소스와, 공정 챔버 내부에 공정 가스를 주입하기 위한 가스 주입 유닛과, 기판 홀더에 바이어스 전위를 인가하기 위한 바이어스 전원과, 공정 챔버 내부에 증착 물질을 이온화시키기 위한 플라즈마를 발생시키는 것으로 일단은 접지되고 타단은 전기적으로 개방된 헬리컬 자기-공진 코일과, 헬리컬 자기-공진 코일에 RF 전력을 공급하기 위한 RF 제너레이터를 구비한다. 이와 같은 구성에 의하면, 헬리컬 자기-공진 코일에 의해 매우 낮은 압력하, 예컨대 대략 0.1mTorr에서도 플라즈마의 점화 및 유지가 가능하며, 종래에 비해 고밀도의 플라즈마를 높은 효율로 발생시킬 수 있으므로, 증착 물질의 이온화율이 높아지게 된다.

公开(公告)号：KR1020040025374A

公开(公告)日：2004-03-24

申请号：KR1020020057325

申请日：2002-09-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김대일 ,  정재명

IPC: G11B21/10

CPC classification number: G11B27/36 ,  G11B5/012 ,  G11B5/02 ,  G11B2005/0013 ,  G11B2220/20

Abstract: PURPOSE: A method for preventing the overwrite for an adjacent track in a hard disk drive and an apparatus for controlling the same are provided to increase the margin for the bit error rate of the head/disk by reducing the size of the recording current and the value of the overshoot. CONSTITUTION: A method for preventing the overwrite for an adjacent track in a hard disk drive(100) includes the steps of: (a) measuring the ambient temperature of the disk drive by receiving the write command and determining whether the measured temperature exceeds a threshold temperature or not; (b) controlling the size of the recording current of the hard disk drive(100) when the measure ambient temperature exceeds the threshold temperature; (c) controlling the overshoot value of the recording current when the overshoot value of the recording current exceeds a predetermined standard value; and (d) recording the data by applying the recording current having the size of the current controlled at the steps (b) and (c) and the overshoot value.

Abstract translation: 目的：提供一种用于防止重写硬盘驱动器中的相邻轨道的方法和用于控制其的装置，以通过减小记录电流的大小来增加头/盘的误码率的余量，并且 过冲值。 构成：用于防止硬盘驱动器（100）中的相邻轨道的重写的方法包括以下步骤：（a）通过接收写入命令并确定测量的温度是否超过阈值来测量磁盘驱动器的环境温度 温度不高; （b）当测量环境温度超过阈值温度时控制硬盘驱动器（100）的记录电流的大小; （c）当记录电流的过冲值超过预定的标准值时，控制记录电流的过冲值; 和（d）通过应用具有在步骤（b）和（c）控制的电流大小的记录电流和过冲值来记录数据。

公开(公告)号：KR1020000052171A

公开(公告)日：2000-08-16

申请号：KR1019990003074

申请日：1999-01-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김대일

IPC: G11B21/21

Abstract: PURPOSE: A head slider structure of a magnetic recording disk apparatus is provided to prevent a head slider, a magnetic disk and data from damaging by forming a bump on an air bearing surface of the head slider. CONSTITUTION: A head slider(60) records a data on a magnetic recording face of a magnetic disk(10) or reads the data from the disk. A plurality of bumps(62) are formed on an air bearing face(61) of the head slider(60). The plurality of bumps(62) are formed by coating the air bearing face(61) with a material and etching it. The plurality of bumps(62) become gradually high as going from the both ends to the middle portion of the air bearing face(61), making a crown shape. A lubricant(63) is coated on the edge portion of the air bearing face(61).

Abstract translation: 目的：提供磁记录盘装置的磁头滑块结构，以通过在磁头滑块的空气轴承表面上形成凸块来防止磁头滑动器，磁盘和数据损坏。 构成：头滑动器（60）将数据记录在磁盘（10）的磁记录面上，或从盘读取数据。 多个凸起（62）形成在磁头滑块（60）的空气轴承面（61）上。 多个凸块（62）通过用材料涂覆空气轴承面（61）并进行蚀刻而形成。 多个凸起（62）从空气轴承面（61）的两端到中间部分逐渐变高，形成冠状。 润滑剂（63）涂覆在空气轴承面（61）的边缘部分上。

公开(公告)号：KR1020000052169A

公开(公告)日：2000-08-16

申请号：KR1019990003072

申请日：1999-01-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김대일

IPC: G11B21/21

Abstract: PURPOSE: A head slider suspension system is provided to improve resistance to an external impact by forming a load beam in a multi-plate spring form and to reduce air resistance generated due to a gap between an upper load beam and a lower load beam by forming a bent portion therebetween. CONSTITUTION: A load beam(41) elastically supports a head slider(30). A base plate(42) couples the load beam(41) with the front end of an actuator arm(50). The load beam(41) consists of an upper load beam(44) and a lower load beam(45) coupled in a dual plate spring form. A bent portion(43) is formed at both ends of the lower load beam(45), bent toward the upper load beam(44). The bent portion(43) is formed as high as to cover the side portion of the upper load beam(44).

Abstract translation: 目的：提供头滑块悬架系统，以通过以多板弹簧形式形成负载梁来改善对外部冲击的抵抗力，并且通过形成上部负载梁和下部负载梁之间的间隙来减小由空气阻力产生的空气阻力 它们之间的弯曲部分。 构成：负载梁（41）弹性地支撑磁头滑块（30）。 基板（42）将负载梁（41）与致动器臂（50）的前端连接。 负载梁（41）由以双板弹簧形式联接的上负载梁（44）和下负载梁（45）组成。 弯曲部分（43）形成在下负载梁（45）的两端，朝向上负载梁（44）弯曲。 弯曲部（43）形成为覆盖上部负载梁（44）的侧部的高度。